Wachstum und Charakterisierung dünner PTCDA-Filme auf ...
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5. <strong>Wachstum</strong> von <strong>PTCDA</strong> <strong>auf</strong> passivierten Siliziumoberflächen<br />
Abb. 5.3.13: Beugungsbilder für ausgewählte Bedeckungen des <strong>PTCDA</strong> (30eV).<br />
HB-Struktur im Vergleich zu den anderen beiden HB-Strukturen deutlich zugenommen.<br />
Der Umstand, dass die Beugungsreflexe dieser Struktur erst bei 0,7 ML beobachtet werden<br />
können <strong>und</strong> mit zunehmendem Bedeckungsgrad an Intensität gewinnen, weist dar<strong>auf</strong><br />
hin, dass diese Struktur möglicherweise erst ab der zweiten Lage wächst. Dass die Reflexe<br />
schon ab einer Bedeckung von 0,7 ML beobachtet werden können, kann darin begründet<br />
liegen, dass sich bei dieser Menge schon kleine Bereiche der zweiten Lage ausbilden, die<br />
diese Struktur <strong>auf</strong>weisen.<br />
Weiterhin lässt sich beobachten, dass die Beugungsreflexe der quadratischen Struktur bei<br />
3 ML nicht mehr alle gleich intensiv sind, sondern eine der Rotationsdomänen deutlich<br />
intensivere Beugungsspots zeigt. Dies kann dar<strong>auf</strong> zurückgeführt werden, dass die Symmetrie<br />
des Substrates bei höheren Bedeckungen einen nicht mehr so starken Einfluss <strong>auf</strong><br />
das <strong>Wachstum</strong> der Moleküle hat wie in den ersten Lagen. Dies hat zur Folge, dass sich<br />
eine der Rotationsdomänen bevorzugt ausbildet, was zu intensiveren Beugungsreflexen<br />
führt. Warum sich eine dieser Rotationsdomänen bevorzugt ausbildet, kann aus den hier<br />
vorliegenden Daten nicht vollständig geklärt werden. Eine denkbare Möglichkeit wäre,<br />
dass die für die 3 ML verwendete Probe einen Symmetriebruch der Substratoberfläche<br />
besitzt. Betrachtet man zusätzlich noch die Domänengrößen der einzelnen Rotationsdomänen,<br />
welche aus den Halbwertsbreiten der Reflexe bestimmt werden, so zeigt sich, dass<br />
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