Wachstum und Charakterisierung dünner PTCDA-Filme auf ...
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4.2. Das SPA-LEED-System<br />
nen <strong>auf</strong> den Fluoreszenzschirm beschleunigt. Bei dem Fluoreszenzschirm handelt es sich<br />
um einen Phosphorschirm, welchem vier konzentrische Halbkugelgitter voran gehen. Dabei<br />
bilden die beiden mittleren Gitter ein retardierendes Feld um Sek<strong>und</strong>ärelektronen<br />
abzufangen, auch Supressor genannt. Die anderen beiden Gitter sind geerdet <strong>und</strong> schirmen<br />
den übrigen Raum gegen dieses Feld ab. Eine LEED-Steuerungseinheit ist mit den<br />
beiden Anschlüssen des LEED-Systems verb<strong>und</strong>en. Über diese Einheit ist es möglich,<br />
die Strahlenergie, den Filamentstrom, die Spannungen für das Linsensystem <strong>und</strong> den<br />
Wehneltzylinder, sowie die Hochspannung für den Fluoreszenzschirm zu variieren.<br />
4.1.4. Die Radiofrequenz(RF)-Plasmaquelle<br />
Die Untersuchungen in dieser Arbeit wurden mit einer Uni-Bulb Plasmaquelle der Firma<br />
Applied Epi durchgeführt. Die Plasmaquelle kann per Ventil von der Hauptkammer<br />
getrennt <strong>und</strong> durch eine Turbomolekularpumpe separat gepumpt werden. Im Inneren der<br />
Plasmaquelle befindet sich die aus pyrolitischem Bornitrid bestehende Plasmakammer,<br />
welche von einer Wasserkühlung umgeben ist. Durch einen RF-Generator <strong>und</strong> eine Spule<br />
um die Kammer wird das benötigte elektrische Feld erzeugt. Der Gaseinlass wird über<br />
ein Dosierventil realisiert. Die durch das Plasma erzeugten Stickstoffatome treten durch<br />
kleine Löcher in der Apertur am Ende der Plasmaquelle aus <strong>und</strong> werden durch die<br />
Druckdifferenz zwischen Hauptkammer <strong>und</strong> Plasmaquelle <strong>auf</strong> das Substrat gelenkt. Die<br />
Plasmaquelle ist so konzipiert, dass ca. 70 % atomarer Stickstoff, 25 -30 % N + 2 - <strong>und</strong> 0,1 %<br />
N + -Ionen an der Lochapertur am Ende der Plasmaquelle austreten [74]. Während des<br />
Betriebs betrug der Druck innerhalb der Hauptkammer etwa 5×10 −5 mbar.<br />
4.2. Das SPA-LEED-System<br />
In Abb. 4.2.1 ist das in dieser Arbeit genutzte SPA-LEED-UHV-System der Arbeitsgruppe<br />
Oberflächenphysik des IFP zu sehen. Im Wesentlichen besteht die UHV-Anlage aus<br />
einer kommerziellen, zylinderförmigen Hauptkammer aus Edelstahl. Durch ein Pumpensystem,<br />
bestehend aus einer Vorpumpe, einer Turbomolekularpumpe, einer Ionen-Getter-<br />
Pumpe <strong>und</strong> einer Titan-Sublimationspumpe, wird ein Basisdruck von ca. 1×10 −10 mbar<br />
in der Hauptkammer ermöglicht. Der Probentransfer erfolgt unter Verwendung eines load<br />
locks, welches separat durch eine Vorpumpe <strong>und</strong> eine Turbomolekularpumpe gepumpt<br />
werden kann. Zwischen load lock <strong>und</strong> Hauptkammer, welche in einem rechten Winkel<br />
zueinander angeordnet sind, ist ein Übergangsbereich montiert, welcher ein bewegliches<br />
Probenregister beinhaltet. In diesem Register können bis zu fünf Proben <strong>auf</strong>bewahrt<br />
<strong>und</strong> ausgegast werden. Zur Aufrechterhaltung des UHV in der Hauptkammer ist jeweils<br />
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