Wachstum und Charakterisierung dünner PTCDA-Filme auf ...
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3. Materialsysteme<br />
3.2. Galliumnitrid<br />
Galliumnitrid (GaN) ist ein transparentes,<br />
robustes III-V-Halbleitermaterial<br />
mit einer großen elektronischen Bandlücke<br />
(Eg ≈ 3.39 eV) [50], die im blauen<br />
Bereich des sichtbaren Lichtspektrums<br />
liegt. Trotz großer Gitterdefektdichten<br />
im Kristallwachstum zeichnet es<br />
sich durch hohe Quantenausbeuten aus,<br />
was es zu einem attraktiven Material in<br />
der Optoelektronik macht. Das steigende<br />
Interesse an GaN <strong>und</strong> anderen III-<br />
V-Halbleitermaterialien in der Optoelektronik<br />
lässt sich gut über die in Abb.<br />
(eV)<br />
7<br />
6<br />
5<br />
4<br />
3<br />
2<br />
GaN<br />
AlN<br />
AlP<br />
GaP<br />
AlAs<br />
1<br />
InN<br />
GaAs InP<br />
InAs<br />
0<br />
2.5 3 3.5 4 4.5 5<br />
(Å)<br />
5.5 6 6.5<br />
Abb. 3.2.1: Karte der III-V-Halbleiter [26].<br />
3.2.1 dargestellte Halbleiterkarte begründen. Die Abbildung zeigt die gängigsten III-<br />
V-Halbleitermaterialien, eingeordnet nach Gitterkonstante <strong>und</strong> optischer Bandlücke des<br />
jeweiligen Systems. Der Bereich des sichtbaren Lichtspektrums ist dabei farbig markiert.<br />
Aus der Karte geht hervor, dass durch die Kombination der III-V-Halbleiter die<br />
Möglichkeit besteht, den gesamten Spektralbereich des sichtbaren Lichtes abzudecken,<br />
was die Gr<strong>und</strong>lage für eine Vielzahl von Anwendungen liefert. Es können jedoch nur<br />
Halbleiter mit ähnlicher Gitterkonstante miteinander kombiniert werden, da es sonst<br />
zu einer erhöhten Defektdichte kommt. Aus diesem Gr<strong>und</strong> erfolgt die Einteilung der<br />
Halbleitermaterialien in folgende Gruppen: die Arsenide-Phosphide, die Nitride <strong>und</strong> die<br />
Antimonide.<br />
3.2.1. Kristallstruktur<br />
GaN kristallisiert sowohl in der Wurtzitstruktur als auch in der Zinkblendestruktur<br />
aus. Bei der Zinkblendestruktur handelt es sich um eine metastabile Struktur<br />
die technologisch unrelevanter <strong>und</strong> die im Vergleich zur Wurtzitstruktur schwerer<br />
herzustellen ist. In Abb. 3.2.2 ist die hexagonale Einheitszelle der Wurtzitstruktur<br />
schematisch dargestellt. Sowohl die Ga-Atome als auch N-Atome ordnen sich tetraedrisch<br />
an, wobei die Atome eines Elementes vier Bindungen mit den benachbarten<br />
Atomen des jeweils anderen Elementes ausbilden. Die Gitterkonstanten der<br />
Wurtzitstruktur betragen a = 3,189 Å <strong>und</strong> c = 5,185 Å. Die GaN-Wurtzitstruktur besitzt<br />
entlang der c-Achse keine Spiegelebene <strong>und</strong> dadurch kein Inversionszentrum, wodurch<br />
GaN-Kristalle entlang dieser Kristallachse piezoelektrisches Verhalten zeigen.<br />
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