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Wachstum und Charakterisierung dünner PTCDA-Filme auf ...

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2.7. Röntgenphotoelektronenspektroskopie (XPS)<br />

Weglänge <strong>und</strong> θ ist der Winkel zwischen Probenoberfläche <strong>und</strong> Detektor. Ist eine dünne<br />

Schicht der Dicke d <strong>auf</strong> die Probe <strong>auf</strong>gebracht, so ergibt sich die Intensität, den die<br />

dünne Schicht von der Gesamtintensität hat, durch die Integration 0 bis d zu<br />

IS = fσNkλcosθ[1−e −d/cosθ ]. (2.7.9)<br />

Die Intensität des Substrates an der Gesamtintensität, ergibt sich durch die Integration<br />

von d bis ∞ zu<br />

IB = fσNkλcosθe −d/cosθ . (2.7.10)<br />

Demzufolge lässt sich die relative Konzentration Ni eines Elementes i in einer infinitesimalen<br />

dünnen Schicht anhand der absoluten Intensitäten durch Gleichung 2.7.7 bestimmen.<br />

Zur Bestimmung der Schichtdicken des <strong>PTCDA</strong> wurden die Si2p-Emissionslinie<br />

sowie die C1s-Emissionslinie gemessen. Aus gegebenen Daten für Substrat <strong>und</strong> Molekül<br />

simuliert die freeware Software XPS MultiQuant [38] ein XP-Spektrum <strong>und</strong> nähert<br />

dessen Werte numerisch an das gemessene Spektrum an. Der durch die Annäherung<br />

ermittelte Wert für d entspricht dann der Dicke der <strong>auf</strong>gebrachten Schicht.<br />

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