Wachstum und Charakterisierung dünner PTCDA-Filme auf ...
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2.7. Röntgenphotoelektronenspektroskopie (XPS)<br />
Weglänge <strong>und</strong> θ ist der Winkel zwischen Probenoberfläche <strong>und</strong> Detektor. Ist eine dünne<br />
Schicht der Dicke d <strong>auf</strong> die Probe <strong>auf</strong>gebracht, so ergibt sich die Intensität, den die<br />
dünne Schicht von der Gesamtintensität hat, durch die Integration 0 bis d zu<br />
IS = fσNkλcosθ[1−e −d/cosθ ]. (2.7.9)<br />
Die Intensität des Substrates an der Gesamtintensität, ergibt sich durch die Integration<br />
von d bis ∞ zu<br />
IB = fσNkλcosθe −d/cosθ . (2.7.10)<br />
Demzufolge lässt sich die relative Konzentration Ni eines Elementes i in einer infinitesimalen<br />
dünnen Schicht anhand der absoluten Intensitäten durch Gleichung 2.7.7 bestimmen.<br />
Zur Bestimmung der Schichtdicken des <strong>PTCDA</strong> wurden die Si2p-Emissionslinie<br />
sowie die C1s-Emissionslinie gemessen. Aus gegebenen Daten für Substrat <strong>und</strong> Molekül<br />
simuliert die freeware Software XPS MultiQuant [38] ein XP-Spektrum <strong>und</strong> nähert<br />
dessen Werte numerisch an das gemessene Spektrum an. Der durch die Annäherung<br />
ermittelte Wert für d entspricht dann der Dicke der <strong>auf</strong>gebrachten Schicht.<br />
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