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Wachstum und Charakterisierung dünner PTCDA-Filme auf ...

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2. Physikalische Gr<strong>und</strong>lagen<br />

2.7.1. Theoretische Beschreibung<br />

Wie schon beschrieben, stellt der photoelektrische Effekt die Gr<strong>und</strong>lage der XPS dar.<br />

Die kinetische Energie der Photoelektronen lässt sich durch die folgende Gleichung beschreiben:<br />

Ekin = hν −EB −φ. (2.7.1)<br />

Dabei ist hv die Photonenenergie des monochromatischen Röntgenstrahls, EB die Bindungsenergie<br />

des Orbitals, aus dem das Photoelektron stammt, <strong>und</strong>φdie Austrittsarbeit<br />

des Analysators.<br />

Die hohe Oberflächensensitivität der<br />

XPS beruht <strong>auf</strong> der geringen mittleren<br />

freien Weglänge λm der Photoelektronen<br />

im Festkörper, was wiederum<br />

durch die starken Elektron-Elektron- <strong>und</strong><br />

Elektronen-Phononen Wechselwirkungen<br />

gegeben ist. In Abb. 2.7.1 ist die sogenannte<br />

Universal-Kurve für die Elektronenemission<br />

für verschiedene Elemente<br />

senkrecht zur Oberfläche dargestellt. Für<br />

den in der XPS verwendeten Energiebereich<br />

(50 -1400 eV) zeigt sich aus der Kurve<br />

nur eine geringe, materialunabhängige<br />

mittlere freie Weglänge von wenigen<br />

Ångström. Die tatsächliche Ausdringtiefe<br />

λ mean free path (Å)<br />

100<br />

50<br />

10<br />

5<br />

5 10 50 100 500 1000 2000<br />

energy(eV)<br />

Abb. 2.7.1: Mittlere freie Weglänge der Elektronen<br />

als Funktion der Energie (nach [30]).<br />

λ ist jedoch noch von dem Emissionswinkel abhängig [31], <strong>und</strong> somit ergibt sich folgende<br />

Gesetzmäßigkeit für die Ausdringtiefe:<br />

λ = λmcosθ. (2.7.2)<br />

Aus dieser Gleichung geht hervor, dass je größer der Emissionswinkel θ (gemessen zur<br />

Oberflächennormalen) ist, desto geringer ist der Anteil detektierter Elektronen aus dem<br />

Volumenmaterial. Somit kann durch Vergrößerung des Emissionswinkels die Oberflächensensitivität<br />

drastisch erhöht werden, jedoch <strong>auf</strong> Kosten der Intensität im Messsignal.<br />

In Abb. 2.7.2 ist schematisch der Prozess der Photoelektronenemission aus Festkörperoberflächen<br />

dargestellt. Sie veranschaulicht den Zusammenhang zwischen den Energieniveaus<br />

des Festkörpers <strong>und</strong> der Energieverteilung der photoinduzierten Elektronen. Die<br />

diskreten Rumpfniveaus, welche den Energieniveaus freier Atome ähneln, treten im Photoelektronenspektrum<br />

als diskrete Linien <strong>auf</strong>. Die endliche Lebensdauer der angeregten<br />

Zustände (natürliche Linienbreite), chemische Umgebung der unterschiedlichen Atome,<br />

sowie instrumentelle Parameter definieren die Breite der Rumpfniveaulinien. Über die<br />

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