29.12.2012 Aufrufe

Wachstum und Charakterisierung dünner PTCDA-Filme auf ...

Wachstum und Charakterisierung dünner PTCDA-Filme auf ...

Wachstum und Charakterisierung dünner PTCDA-Filme auf ...

MEHR ANZEIGEN
WENIGER ANZEIGEN

Erfolgreiche ePaper selbst erstellen

Machen Sie aus Ihren PDF Publikationen ein blätterbares Flipbook mit unserer einzigartigen Google optimierten e-Paper Software.

2. Physikalische Gr<strong>und</strong>lagen<br />

Hieraus zeigt sich, dass die Transmissionswahrscheinlichkeit durch den Faktor e −2κz bestimmt<br />

wird. Da der Tunnelstrom proportional zur Transmissionswahrscheinlichkeit ist,<br />

zeigt dieser eine starke Abhängigkeit vom Abstand z <strong>und</strong> der Wurzel aus der effektiven<br />

Barrierenhöhe U0 −E.<br />

2.4.2. Theoretische Beschreibung des Tunnelstroms<br />

Im Jahre 1961 entwickelte der Physiker Bardeen [24] einen Formalismus, der eine theoretische<br />

Behandlung des Tunnelstroms in der Rastertunnelmikroskopie ermöglichte. Diese<br />

Theorie basiert <strong>auf</strong> dem Tunnelprozess in einem Metall/Isolator-System. Dabei nahm er<br />

an, dass die metallischen Elektroden ein schwach wechselwirkendes System darstellen, bei<br />

dem der Tunnelprozess durch die Überlappung ihrer Wellenfunktion in der Oxidschicht<br />

ermöglicht wird. Mittels der zeitabhängigen Störungstheorie entwickelte er einen Ausdruck<br />

für den Tunnelstrom. Tersoff <strong>und</strong> Hamann [25] erweiterten diesen Ausdruck <strong>auf</strong><br />

den Metall-Vakuum-Metall-Tunnelprozess, wie er im STM vorliegt. Für den Grenzfall<br />

des absoluten Temperaturnullpunkts T = 0 K <strong>und</strong> für kleine Vorspannungen UT erhielten<br />

sie mit Hilfe der zeitabhängigen Störungstheorie erster Ordnung folgenden Ausdruck<br />

für den Tunnelstrom:<br />

I = 2π<br />

� e2 UT<br />

�<br />

|Mµν| 2 δ(Eµ −EF)δ(Eν −EF). (2.4.4)<br />

µ,ν<br />

Eµ <strong>und</strong> Eν sind die Energien in den Zuständen ψµ <strong>und</strong> χν relativ zu den jeweiligen<br />

Ferminiveaus der beiden Elektroden. Mµν ist das Tunnelmatrixelement zwischen den<br />

Zuständen ψµ der ersten Elektrode <strong>und</strong> χν der zweiten Elektrode. Wie Bardeen [24]<br />

gezeigt hat, wird das Matrixelement beschrieben durch<br />

|Mµν| = �2<br />

2m<br />

�<br />

d � fψ ∗ µ � ∇ψν −ψν � ∇ψ ∗ µ. (2.4.5)<br />

Die Integration erfolgt über eine beliebige Fläche innerhalb der Vakuumbarriere. Um<br />

Gleichung 2.4.5 exakt zu lösen, werden genaue Kenntnisse der Energien, Wellenfunktionen<br />

<strong>und</strong> somit der atomaren Struktur der Spitze <strong>und</strong> Probe benötigt. Jedoch ist die Spitzengeometrie<br />

in der Regel unbekannt, <strong>und</strong> deshalb führten Tersoff <strong>und</strong> Hamann folgendes<br />

einfaches Modell ein. Durch die Annahme einer idealen Sondenspitze mit punktförmiger<br />

Ladungsverteilung am Ort �rSpitze mit dem Radius R ermöglicht die Näherung eine auschließliche<br />

Berücksichtigung von s-Wellenfunktionen für Elektronen in der Spitze. Durch<br />

diese Näherung wird die Winkelabhängigkeit der Ladungsdichteverteilung vernachlässigt.<br />

Damit ist das Tunnelmatrixelement proportional zum Zustand χν der Probe, <strong>und</strong><br />

somit ergibt sich der Tunnelstrom zu:<br />

IT(�rSpitze,UT) ∝ �<br />

|χν(�rSpitze)| 2 δ(Eν −EF) ≡ ρ(�rSpitze,EF). (2.4.6)<br />

14<br />

ν

Hurra! Ihre Datei wurde hochgeladen und ist bereit für die Veröffentlichung.

Erfolgreich gespeichert!

Leider ist etwas schief gelaufen!