Wachstum und Charakterisierung dünner PTCDA-Filme auf ...

6. Reinigung von GaN-Oberflächen
die zu Beginn vermutete Kontaminationsschicht entfernt
wurde, und die Oberfläche klar abgebildet wird.
Nur vereinzelt sind noch Kontaminationsagglomerate
zu erkennen (siehe Abb. 6.4.3, Pfeile). Die Löcher
der Oberfläche sind scharf dargestellt und insgesamt
suggeriert das gesamte Bild eine deutlich glattere
Oberfläche. Die Löcher der Oberfläche sind auf Fadenversetzungen
zurückzuführen, und die längliche
Form der Löcher resultiert aus der unterschiedlichen
Diffusionslänge der N- und Ga-Atome parallel zur
c-Richtung [131]. Eine Betrachtung des Höhenprofils
dieser Oberfläche zeigt (siehe Abb. 6.4.3 (b), In- Abb. 6.4.4: LEED-Bild nach dem letzset)
Amplituden von±2 Å und bestätigt eine glattere ten Reinigungsschritt (77eV).
Oberfläche. Die mittlere Rauigkeit dieser Oberfläche
beträgt etwa 0,39 nm und weist ebenfalls auf eine deutliche Glättung der Oberfläche
hin. Zum einen ist die geringere Rauigkeit durch die Entfernung der Kontaminate zu
erklären, und zum anderen kann jedoch, wie schon bei der c-plane-Oberfläche vermutet,
nicht ausgeschlossen werden, dass es durch einen Austausch von Ga- und O-Atomen zu
einer teilweisen Restrukturierung der Oberfläche kommt.
Analog zu den c-plane-Untersuchungen konnte auch auf dieser Oberfläche nach dem
Abschluss der Reinigung ein intensives Beugungsbild der (1×1)-Oberflächenstruktur mit
wenig Untergrund beobachtet werden (siehe Abb. 6.4.4). Über Untersuchungen an Spaltproben
[58] und mit Hilfe von Dichtefunktionaltheorie [132] konnte gezeigt werden, dass
es sich bei dieser Struktur um die Gleichgewichtsstruktur handelt. Das Beugungsbild
bestätigt somit die STM- und XPS-Ergebnisse und deutet ebenfalls auf eine saubere
Oberfläche mit guter Kristallinität hin.
6.4.2. N2-Plasma-unterstützte Reinigung
In diesem Abschnitt wird der Effekt der N2-Plasma-unterstützten Methode auf die aplane-Oberfläche
untersucht. Das verwendete Verfahren ist im Abschnitt 4.3.1 in Abb.
4.3.2 beschrieben. Die detaillierten Reinigungsschritte sind in Tab. 6.4.2 zusammengefasst.
Analog zu allen anderen Messungen wurde hier ebenfalls über die vermessenen
Proben gemittelt. Die Messwerte der einzelnen Proben sind im Anhang in den Tab.
A.2.10, A.2.11 einzusehen.
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