Wachstum und Charakterisierung dünner PTCDA-Filme auf ...
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Chemische <strong>Charakterisierung</strong><br />
6.3. Reinigung von GaN(0001)-Oberflächen<br />
In Abb. 6.3.1 sind die <strong>auf</strong> die GaN-Volumenspezies der Ga3d-Emissionslinie gemittelten<br />
relativen Häufigkeiten der C1s-Emission (nC1s/nGaN) über den Reinigungsverl<strong>auf</strong><br />
dargestellt. Auf der initial surface können trotz Lagerung <strong>und</strong> Transfer unter<br />
N2-Schutzgasatmosphäre deutliche Kohlenstoffkontaminationen nachgewiesen werden<br />
(nC1s/nGaN = 0,427±0,064). Der Großteil dieser Verunreinigung wird <strong>auf</strong> dem beim<br />
<strong>Wachstum</strong> der GaN-Proben verwendeten Precursor Trimethylgallium (Ga(CH3)3) zurückgeführt.<br />
Der erste Heizschritt führt zu einer drastischen Verringerung der relativen<br />
Häufigkeiten <strong>auf</strong> nC1s/nGaN = 0,183±0,027. Eine weitere Verringerung der<br />
Kohlenstoffkontamination <strong>auf</strong> der Oberfläche konnte durch den nachfolgenden Ga-<br />
Deposition/Desorption-Schritt erreicht werden (nC1s/nGaN = 0,090±0,013). Die nachfolgenden<br />
Ga-Deposition/Desorption-Schritte bewirken keine weitere Verringerung des<br />
Kohlenstoffgehaltes <strong>und</strong> die relativen Häufigkeiten bleiben im Rahmen des Fehlers konstant.<br />
Der abschließende Heizschritt bewirkt nochmal eine Reduzierung des Kohlenstoffgehaltes<br />
<strong>auf</strong> nC1s/nGaN = 0,036±0,005. Insgesamt konnte somit der Kohlenstoffgehalt<br />
über den gesamten Reinigungsverl<strong>auf</strong> <strong>auf</strong> ca. 9 % des Anfangsgehalt reduziert werden.<br />
n C1s /n GaN<br />
0.5<br />
0.4<br />
0.3<br />
0.2<br />
0.1<br />
0<br />
Daten<br />
1 2 3 4 5 6<br />
Reinigungsschritt<br />
Abb. 6.3.1: Entwicklung der Kohlenstoffkon-<br />
taminationen während des Reinigungsverlau-<br />
fes.<br />
n O1s /n GaN<br />
0.40<br />
0.35<br />
0.30<br />
0.25<br />
0.20<br />
0.15<br />
0.10<br />
0.05<br />
Daten<br />
1 2 3 4 5 6<br />
Reinigungsschritt<br />
Abb. 6.3.2: Entwicklung der Sauerstoffkonta-<br />
minationen während des Reinigungsverl<strong>auf</strong>es.<br />
Werden die relativen Häufigkeiten der O1s-Emission betrachtet, so zeigt sich eine<br />
deutlich geringere Anfangskontamination von nO1s/nGaN = 0,319±0,047 im Vergleich<br />
zur Kohlenstoffkontamination. Die unterschiedliche Kontamination wird dar<strong>auf</strong> zurückgeführt,<br />
dass keine sauerstoffhaltigen Precursor für das <strong>Wachstum</strong> verwendet wurden.<br />
Dass trotz N2-Schutzgasatmosphäre überhaupt Sauerstoffkontaminationen beobachtet<br />
werden, wird damit begründet, dass selbst bei Drücken von 10 −6 mbar etwa<br />
eine Monolage des zwangsweise im Vakuum befindlichen Restgases oder mögli-<br />
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