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Modellierung gekoppelter Effekte in Mikrosystemen auf ...

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78 4 MODELLIERUNG AUF KONTINUIERLICHER FELDEBENE<br />

pazitäten und elektrische Leitwerte ermitteln.<br />

Numerisch wird die Kle<strong>in</strong>signalanalyse analog durchgeführt. Gemäß [151] folgt man e<strong>in</strong>em<br />

zweistufigen Simulationsschema. In e<strong>in</strong>em ersten Schritt werden zunächst die klassischen<br />

Halbleitergleichungen für den stationären Fall, d.h. für e<strong>in</strong>en<br />

¦<br />

festen Arbeits-<br />

£¢¡<br />

punkt , gelöst und daraus das<br />

£ �<br />

elektrische Potential sowie die räumlichen Ladungs-<br />

�<br />

£ � � £¢¡ £¢¡ £ �<br />

verteilungen und £<br />

berechnet:<br />

¦ £¢¡ £ � ¡¡ �<br />

¦<br />

�<br />

£�¨ ¡<br />

¢ ¡<br />

div ¡ ¡ ¨¥¤ £<br />

div ¡ £<br />

�<br />

§<br />

£<br />

¨ � �<br />

im Halbleiter<br />

im Oxid<br />

(4.29)<br />

¡ ¨¦¤ § im Halbleiter (4.30)<br />

¢<br />

Hierbei bezeichnet ¡<br />

¢ die Dichte der ionisierten Donatoren im hier n-dotierten Silizi-<br />

¡<br />

umsubstrat, � die ¦ Elementarladung, die Dielektrizitätskonstante und ¤<br />

die Rekomb<strong>in</strong>ationsrate,<br />

die im vorliegenden Fall durch das Shockley-Read-Hall Modell beschrieben<br />

wird.<br />

Die Stromdichten ¡<br />

¢<br />

£<br />

und ¡ £<br />

für die Löcher bzw. die Elektronen erhält man aus dem Drift-<br />

Diffusionsmodell unter der Annahme e<strong>in</strong>er Boltzmannverteilung für die Ladungsträger:<br />

£ ¡<br />

¢<br />

£ ¡ ¡<br />

¡ ¨<br />

¢<br />

� �©¨<br />

¢<br />

£ mit ¨<br />

¢<br />

¡ ¦ � �<br />

�©¨ £ mit ¨ ¡ ¦ ¨��<br />

�<br />

��� ���<br />

�<br />

��� ���<br />

�<br />

£¥�<br />

£<br />

£��<br />

(4.31)<br />

(4.32)<br />

£<br />

¢ und s<strong>in</strong>d die Beweglichkeiten für Elektronen und Löcher, ¨<br />

und ¢ ¨ bezeichnen<br />

die Quasi-Ferm<strong>in</strong>iveaus £ � und die <strong>in</strong>tr<strong>in</strong>sische Ladungsträgerdichte.<br />

An den Grenzflächen zwischen Halbleiter ( � ) und Oxid ( ¨<br />

) gilt außerdem für das elektrische<br />

Potential ¦<br />

:<br />

¦ �<br />

¡�� �<br />

¨<br />

¦ �<br />

¡�� �<br />

�<br />

�<br />

�<br />

� �<br />

¦ �<br />

�<br />

¦<br />

� � �<br />

�¥��� � ¡<br />

�<br />

wobei die Grenzflächenladungsdichte und ¢�� �<br />

Grenzfläche bezeichnen.<br />

¡<br />

¢��<br />

� (4.33)<br />

die Normalenableitung <strong>auf</strong> der<br />

Zur Berechnung der Kle<strong>in</strong>signalgrößen wird nun der Gleichspannung e<strong>in</strong>e kle<strong>in</strong>e<br />

Wechselspannung überlagert:<br />

���<br />

£ � � ¡<br />

�<br />

��¤ ¥��<br />

������<br />

£ £ � � ���<br />

(4.34)<br />

Hierbei soll im allgeme<strong>in</strong>en ¡ ��� ¡ �<br />

(thermische Spannung) gelten, so daß ke<strong>in</strong>e La-<br />

� �<br />

dungsträgergeneration <strong>auf</strong>grund der angelegten Wechselspannung erfolgen kann.<br />

Da das Problem nun von der Zeit abhängt, müssen auch die grundlegenden Halbleitergleichungen<br />

zeitabhängig formuliert werden, und die Kle<strong>in</strong>signalantwort des Systems,

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