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Modellierung gekoppelter Effekte in Mikrosystemen auf ...

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102 5 MODELLIERUNG AUF SYSTEMEBENE<br />

C [pF]<br />

1.54<br />

1.53<br />

1.52<br />

1.51<br />

1.50<br />

Kompaktmodell<br />

Bauelementesimulation<br />

1.49<br />

−100 −50 0<br />

Spannung [V]<br />

50 100<br />

U<br />

C<br />

luft<br />

C subst/n<br />

Metall<br />

Luft<br />

Halbleiter<br />

(n-dotiert)<br />

ohmscher Kontakt<br />

Abbildung 5.3: CV-Charakteristik e<strong>in</strong>er MIS-Struktur (Luft als Isolator, n-Substrat) als<br />

Test für das Kompaktmodell: Vergleich zwischen Ergebnissen der Bauelementesimulation<br />

und der Makromodellierung.<br />

Ausbildung von Elektronen- und Löcherkanälen <strong>in</strong> den MIS-Randstrukturen: Die<br />

am Rand bef<strong>in</strong>dlichen MIS-Strukturen Feldoxid über n-Wanne bzw. Feldoxid über p-<br />

Wanne, tragen ab Schwellspannungen von ca. ¨ 20 V und � 10 V merklich zur Gesamtkapazität<br />

bei. Der Anschluß der beiden Kapazitäten erfolgt über elektrisch leitfähige<br />

Kanäle, die sich an der Grenzfläche Halbleiter/Isolator ausbilden (s. Kap. 4.4.1), und wird<br />

im Ersatzschaltbild <strong>in</strong> Abb. 5.1 durch die beiden MOS-Transistoren realisiert. Für die Ladungsträgerdichten<br />

� �<br />

im Kanal e<strong>in</strong>es MOS-Transistors unterhalb � der Schwellspannung<br />

¥�<br />

gilt<br />

�<br />

nach ¢¤£ ¢¦¥ � �<br />

� ¦ ¨<br />

[124]:<br />

¡ ¨ ��� mit (5.6)<br />

�¡<br />

�<br />

( ¦ ¡ ¡ ¡ ¦<br />

Oberflächenpotential, ����<br />

Bulkpotential, Schwellspannung der<br />

¡<br />

¡<br />

Struktur,<br />

�<br />

Spannung an der Gateelektrode).<br />

Die Beiträge zur Kapazität <strong>auf</strong>grund der sich ausbildenden leitfähigen<br />

¡<br />

Kanäle<br />

£<br />

können<br />

� ¢<br />

� £<br />

damit vere<strong>in</strong>facht nach berechnet und als Serienkapazitäten zu den jeweiligen<br />

Feldoxidkapazitäten berücksichtigt werden. Die Steilheit der Kurve wird über den<br />

Fitparameter im Exponenten ¤ angepaßt: � ¤<br />

£ ¨ � �<br />

�<br />

�<br />

� , da sie u.a. durch<br />

�§ ¡����� ���<br />

Oberflächen- und Grenzflächenladungen bestimmt wird, über die aber ke<strong>in</strong>e Daten vorliegen.<br />

¦

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