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SB_12.843N_Leseprobe

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AiF 12.843 N / DVS 7.034 Porenarme Weichlötverbindungen 4<br />

1 Problemstellung<br />

Die Entwicklung der Weichlöttechnik in der Elektronik wird maßgeblich durch die Miniaturisierung<br />

der Bauteilgeometrien sowie durch die steigenden Anforderungen an die<br />

Einsatzbedingungen und die Zuverlässigkeit der gelöteten Baugruppen bestimmt. Dabei<br />

ist durch die Erhöhung der Funktionalität integrierter Schaltungen auch eine steigende<br />

Anzahl der Anschlüsse (I/O's) zu verzeichnen [IPC-97]. Verbunden mit dem<br />

Trend zu einer weiteren Verkleinerung der Bauteile, ergibt sich daraus zwangsläufig<br />

eine Verringerung der Anschluss-Abstände sowie die Entwicklung neuer Lösungskonzepte.<br />

Um bei der Verwendung hochintegrierten Bauteile, wie FC und CSP die erforderlichen<br />

Anschlüsse auf der Leiterplatte realisieren zu können sind gravierende Veränderungen<br />

im Leiterplattenaufbau und -layout erforderlich. Eine Möglichkeit der Umsetzung<br />

sind MicroVias, mit denen auf der Leiterplatte etwa 15 % Platz gespart und die<br />

Anschlussdichte um etwa 50-60 % gesteigert werden kann [LIND-97].<br />

Die Herstellung der elektrischen Verbindungen beim Einsatz hochintegrierter Bauteile<br />

kann nur unter Verwendung von Reflowlötprozessen erfolgen. Beim Reflowprozess<br />

treten abhängig von den Prozessparametern und der Lotpastenqualität immer wieder<br />

Poren innerhalb der Lötverbindungen auf. Liegen diese Poren an ungünstigen Stellen,<br />

d.h. an Stellen an denen unter Betriebsbelastung die höchsten Spannungen auftreten,<br />

tritt in diesen Bereichen verstärkt Rissbildung auf [AUER-96].<br />

Bei SMD-Bauteilen herkömmlicher Größe ist die Problematik der Beeinträchtigung der<br />

Zuverlässigkeit durch Poren mit einer Größe zwischen 50-130 µm eher von untergeordneter<br />

Bedeutung. Ein beträchtlicher Teil des Verbindungsquerschnittes nehmen<br />

Poren der beschriebenen Dimensionen bei den in der fine-pitch-Oberflächenmontage<br />

verwendeten Rastermaßen von 0,65 mm bzw. 0,5 mm ein. Durch die MicroVia-Technik<br />

wird das Problem der Poren in Lötstellen zusätzlich verschärft, da MicroVias häufig in<br />

der Lötstelle als Initialpunkt und Fixierung von Gasblasen und Flussmitteleinschlüssen<br />

wirken (Bild 1). Einerseits wird bereits beim Lotpastendruck in den durch die MicroVias<br />

entstehenden Hohlräume Luft eingeschlossen, die dann beim Aufschmelzen der Lotpaste<br />

nicht entweichen kann und so eine Pore bildet. Anderseits werden durch die Kapillarkräfte<br />

auch bevorzugt Lösemittel und andere flüssige Pastenbestandteile aufgesogen,<br />

die dann beim Erhitzen im Lötprozess verdampfen und ebenfalls Poren und<br />

Einschlüsse verursachen. Insbesondere die Zuverlässigkeit der Lötverbindungen von<br />

Array-Bauformen kann durch Poren signifikant beeinträchtigt werden.

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