SB_12.843N_Leseprobe
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AiF 12.843 N / DVS 7.034 Porenarme Weichlötverbindungen 4<br />
1 Problemstellung<br />
Die Entwicklung der Weichlöttechnik in der Elektronik wird maßgeblich durch die Miniaturisierung<br />
der Bauteilgeometrien sowie durch die steigenden Anforderungen an die<br />
Einsatzbedingungen und die Zuverlässigkeit der gelöteten Baugruppen bestimmt. Dabei<br />
ist durch die Erhöhung der Funktionalität integrierter Schaltungen auch eine steigende<br />
Anzahl der Anschlüsse (I/O's) zu verzeichnen [IPC-97]. Verbunden mit dem<br />
Trend zu einer weiteren Verkleinerung der Bauteile, ergibt sich daraus zwangsläufig<br />
eine Verringerung der Anschluss-Abstände sowie die Entwicklung neuer Lösungskonzepte.<br />
Um bei der Verwendung hochintegrierten Bauteile, wie FC und CSP die erforderlichen<br />
Anschlüsse auf der Leiterplatte realisieren zu können sind gravierende Veränderungen<br />
im Leiterplattenaufbau und -layout erforderlich. Eine Möglichkeit der Umsetzung<br />
sind MicroVias, mit denen auf der Leiterplatte etwa 15 % Platz gespart und die<br />
Anschlussdichte um etwa 50-60 % gesteigert werden kann [LIND-97].<br />
Die Herstellung der elektrischen Verbindungen beim Einsatz hochintegrierter Bauteile<br />
kann nur unter Verwendung von Reflowlötprozessen erfolgen. Beim Reflowprozess<br />
treten abhängig von den Prozessparametern und der Lotpastenqualität immer wieder<br />
Poren innerhalb der Lötverbindungen auf. Liegen diese Poren an ungünstigen Stellen,<br />
d.h. an Stellen an denen unter Betriebsbelastung die höchsten Spannungen auftreten,<br />
tritt in diesen Bereichen verstärkt Rissbildung auf [AUER-96].<br />
Bei SMD-Bauteilen herkömmlicher Größe ist die Problematik der Beeinträchtigung der<br />
Zuverlässigkeit durch Poren mit einer Größe zwischen 50-130 µm eher von untergeordneter<br />
Bedeutung. Ein beträchtlicher Teil des Verbindungsquerschnittes nehmen<br />
Poren der beschriebenen Dimensionen bei den in der fine-pitch-Oberflächenmontage<br />
verwendeten Rastermaßen von 0,65 mm bzw. 0,5 mm ein. Durch die MicroVia-Technik<br />
wird das Problem der Poren in Lötstellen zusätzlich verschärft, da MicroVias häufig in<br />
der Lötstelle als Initialpunkt und Fixierung von Gasblasen und Flussmitteleinschlüssen<br />
wirken (Bild 1). Einerseits wird bereits beim Lotpastendruck in den durch die MicroVias<br />
entstehenden Hohlräume Luft eingeschlossen, die dann beim Aufschmelzen der Lotpaste<br />
nicht entweichen kann und so eine Pore bildet. Anderseits werden durch die Kapillarkräfte<br />
auch bevorzugt Lösemittel und andere flüssige Pastenbestandteile aufgesogen,<br />
die dann beim Erhitzen im Lötprozess verdampfen und ebenfalls Poren und<br />
Einschlüsse verursachen. Insbesondere die Zuverlässigkeit der Lötverbindungen von<br />
Array-Bauformen kann durch Poren signifikant beeinträchtigt werden.