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Elektromigration in Gold und Silber Nanostrukturen

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2.5 Blech-Länge 23<br />

a<br />

b<br />

Pore<br />

-<br />

Hügel<br />

Elektronen<br />

Elektronen<br />

} Al<br />

FIB-Streifen<br />

Alum<strong>in</strong>ium<br />

+<br />

Titannitrit<br />

Abb. 2.7: Klassisches Experiment zur Bestimmung der Blech-Länge. a) REM-Aufnahme<br />

e<strong>in</strong>es Alum<strong>in</strong>iumstreifens auf e<strong>in</strong>er Titannitritunterlage. Man erkennt, dass bei den kürzeren<br />

Streifen für e<strong>in</strong>e gegebene Stromdichte ke<strong>in</strong>e <strong>Elektromigration</strong> stattf<strong>in</strong>det (entnommen aus<br />

[128]). b) Schematische Darstellung der <strong>in</strong> Teilbild a) verwendeten Anordnung. Die Elektronen<br />

fließen vom weniger leitfähigen Titannitrit <strong>in</strong> die Alum<strong>in</strong>iumsegmente. Dort führen sie je nach<br />

der Länge des Segmentes zu <strong>Elektromigration</strong>sschäden.<br />

noch ke<strong>in</strong>e Schädigung aufweist. Weiterh<strong>in</strong> kann über die Fläche der gebildeten Poren<br />

pro Zeite<strong>in</strong>heit die Driftgeschw<strong>in</strong>digkeit berechnet werden.<br />

Wie Blech mithilfe von Röntgenuntersuchungen bereits im Jahre 1976 herausgefun-<br />

den hat, liegt die Ursache für das Auftreten e<strong>in</strong>er kritischen Länge <strong>in</strong> der Erzeugung von<br />

mechanischen Spannungen <strong>in</strong>nerhalb der Leiterbahnen [129]. Unterhalb der kritischen<br />

Länge kommt es nicht zu <strong>Elektromigration</strong>sschädigungen, da aufgr<strong>und</strong> des Spannungs-<br />

gradienten e<strong>in</strong> Rückfluss von Leerstellen auftritt, welcher den elektromigrationsgetriebe-<br />

nen Materialstrom kompensiert. Somit wird die kritische Leerstellenkonzentration nicht<br />

überschritten. Die Mikrostruktur der Leiterbahnen bleibt hierbei zunächst unbeachtet,<br />

wobei für vergleichende Experimente darauf geachtet werden muss, Leiterbahnen mit<br />

ähnlicher Mikrostruktur <strong>und</strong> gleichen Dimensionen zu verwenden.

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