Herstellungs-Technologie

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n-Wanne: Implantation / DiffusionDonatorenDigitale Schaltungstechnik 2006 - <strong>Technologie</strong>P. Fischer, TI, Uni Mannheim, Seite 57
fertige n-WanneDigitale Schaltungstechnik 2006 - <strong>Technologie</strong>P. Fischer, TI, Uni Mannheim, Seite 58
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Seite 11 und 12: Wafergrößen Waferdurchmesser werd
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Seite 45 und 46: Poly-Silizium + PhotolackDigitale S
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Seite 49 und 50: p + -Implantation: Implantation / D
Seite 51 und 52: n + -Implantation: Implantation/Dif
Seite 53 und 54: Strukturierung KontaktePhotolackIso
Seite 55 und 56: Aluminium: Abscheidung (vereinfacht
Seite 57 und 58: Aluminium: ÄtzenDigitale Schaltung
Seite 59 und 60: Externe Applets zur Abfolge der Pro
Seite 61 und 62: Isolation der Transistoren Das LOCO
Seite 63 und 64: Dual-Damascene Vereint die zwei Dam
Seite 65 und 66: In naher Zukunft: Strained Silicon

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