- Seite 1 und 2: Institut für Festkörperforschung
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- Seite 12 und 13: Inhalt iii 5.2.4 Single Cocktail...
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- Seite 20 und 21: 1 Einleitung 1.1 Wissenschaftlich-t
- Seite 22 und 23: 1.1 Wissenschaftlich-technische Rel
- Seite 24 und 25: 1.2 Stand der Kenntnis 5 Gigabit-Ge
- Seite 26 und 27: 1.3 Zielsetzung dieser Arbeit 7 Ver
- Seite 28 und 29: 2 Grundlagen Die vorliegende Arbeit
- Seite 30 und 31: 2.1 Komplexe Erdalkalimetall-Oxide
- Seite 32 und 33: 2.1 Komplexe Erdalkalimetall-Oxide
- Seite 34 und 35: 2.1 Komplexe Erdalkalimetall-Oxide
- Seite 36 und 37: 2.1 Komplexe Erdalkalimetall-Oxide
- Seite 38 und 39: 2.1 Komplexe Erdalkalimetall-Oxide
- Seite 40 und 41: 2.2 Chemical Vapor Deposition 21 ab
- Seite 42 und 43: 2.2 Chemical Vapor Deposition 23 PV
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2.2 Chemical Vapor Deposition 35 Ve
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2.2 Chemical Vapor Deposition 37
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2.2 Chemical Vapor Deposition 39 si
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2.2 Chemical Vapor Deposition 41 Mo
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2.2 Chemical Vapor Deposition 43 so
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2.2 Chemical Vapor Deposition 45 Ob
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2.2 Chemical Vapor Deposition 47 en
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2.2 Chemical Vapor Deposition 49 Gi
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3 MOCVD-Anlage und Prozessführung
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3.1 Versuchsanlage 53 methoxylethyl
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3.1 Versuchsanlage 55 Bild 3.4: Ans
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3.1 Versuchsanlage 57 mit Vakuum wu
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3.1 Versuchsanlage 59 Bild 3.8: Inn
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3.1 Versuchsanlage 61 [123] 6 . Das
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3.1 Versuchsanlage 63 b) Spülgase
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3.1 Versuchsanlage 65 vernachlässi
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3.1 Versuchsanlage 67 Systemdruck [
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3.2 Prozessführung 69 Bild 3.15: A
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3.2 Prozessführung 71 Befüllen de
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3.2 Prozessführung 73 Ventilen (li
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3.2 Prozessführung 75 Anzeigewert
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3.2 Prozessführung 77 ist durch di
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4 Analytische Methoden In diesem Ka
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4.1 Röntgenfluoreszenzanalyse 81 M
- Seite 102 und 103:
4.2 Röntgenbeugungsanalyse 83 4.2
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4.4 Rasterelektronenmikroskopie 85
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5 CVD-Prozess und Filmwachstum 5.1
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5.2 Metall-organische Quellen und P
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5.2 Metall-organische Quellen und P
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5.3 Injektion 93 normiert. Unter de
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5.3 Injektion 95 kritischen Pulswei
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5.4 Verdampfung 97 5.4 Verdampfung
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5.5 Reaktorparameter 99 � / (Puls
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5.5 Reaktorparameter 101 Der Koeffi
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5.5 Reaktorparameter 103 Intensitä
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5.5 Reaktorparameter 105 ln (Molare
- Seite 126 und 127:
5.5 Reaktorparameter 107 Filmwachst
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5.5 Reaktorparameter 109 wiederum e
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5.5 Reaktorparameter 111 Bild 5.18:
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5.5 Reaktorparameter 113 Intensitä
- Seite 134 und 135:
5.5 Reaktorparameter 115 70. Auffä
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5.5 Reaktorparameter 117 offenbart,
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5.6 Vorbemerkung zur Prozessoptimie
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5.7 Wachstumskontrolle 121 BTO-Schi
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5.7 Wachstumskontrolle 123 Intensit
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5.8 Stöchiometriekontrolle 125 die
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5.8 Stöchiometriekontrolle 127 Kri
- Seite 148 und 149:
6 Elektrische Charakterisierung und
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6.2 Dielektrische Charakterisierung
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6.3 Messergebnisse 133 6.3 Messerge
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6.3 Messergebnisse 135 wesentlichen
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6.3 Messergebnisse 137 Signalfreque
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6.4 Diskussion 139 � r 40 *10 3 3
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6.4 Diskussion 141 d) Leckstromessu
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7 Schlussfolgerungen 7.1 Zusammenfa
- Seite 164 und 165:
7 Schlussfolgerungen 145 Kristallis
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7 Schlussfolgerungen 147 Absatz). G
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7 Schlussfolgerungen 149 Strukturko
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Anhang A Übersicht über Probendat
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Probe Precursormischung Temp.Verd.
- Seite 174 und 175:
Literatur [1] http://www.bmbf.de/pu
- Seite 176 und 177:
Literatur 157 [28] D. E. Kotecki, J
- Seite 178 und 179:
Literatur 159 SrTiO3, Z. Physik 258
- Seite 180 und 181:
Literatur 161 Phase transition beha
- Seite 182 und 183:
Literatur 163 [111] R. F. Banshah,
- Seite 184 und 185:
Literatur 165 Hodeau, Pulsed liquid
- Seite 186 und 187:
Literatur 167 [163] A. Teren, S. Re
- Seite 188 und 189:
Literatur 169 Soc. Symp. Proc. 168,
- Seite 190 und 191:
Literatur 171 [218] K. Wetzig, D. S
- Seite 192 und 193:
Literatur 173 and R. Waser, An inte
- Seite 194 und 195:
Danksagung Diese Arbeit ist am Inst
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Forschungszentrum Jülich in der He
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