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(MOCVD) oxidischer Dönnschich ten aus dem Materialsystem Barium

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18 2 Grundlagen<br />

Permittivität bei geringen dielektrischen Verlus<strong>ten</strong>. In der nachfolgenden Formel wird<br />

dieser Kompromiss <strong>aus</strong>gedrückt:<br />

�C<br />

fom �<br />

tan�<br />

Mit fom ist ‚figure of merit’ gemeint, �C ist die relative Differenz zwischen Maximumund<br />

Minimumkapazität über der angeleg<strong>ten</strong> Spannung (tunability). Weitere Vorteile der<br />

Ferroelektrika bestehen in geringen Schaltzei<strong>ten</strong> und geringem R<strong>aus</strong>chen. Der Einsatz<br />

dünner Filme erlaubt eine Gleichfeldansteuerung mit kleinen Spannungen im Vergleich<br />

zu dicken Filmen bzw. Keramiken, obwohl man das Problem der höheren Verluste noch<br />

lösen muss [41]. Ihre Ursachen werden in mechanischem Stress bedingt durch das<br />

Substrat gesehen. Zu<strong>dem</strong> besitzen dünne Filme gegenüber dicken Filmen auch<br />

geringere relative Dielektrizitätskonstan<strong>ten</strong>. Auch für Millimeter- und Mikrometer-<br />

Wellenlängen ist das bereits dargestellte BST primärer Kandidat bei<br />

Betriebstemperaturen vergleichbar der Raumtemperatur. In Form eines<br />

Kodensatorelementes hat BST (oder mögliche Alternativ-Systeme) enorme Vorteile<br />

hinsichtlich der Integrationskos<strong>ten</strong> für MMICs 6 . Für Phasenschieberanwendungen sind<br />

derartige Systeme bereits publiziert worden [42] [43].<br />

2.1.3 Das Mischphasensystem BaTiO3 – BaZrO3<br />

Veränderung der dielektrischen Eigenschaf<strong>ten</strong> ferroelektrischer Materialien können<br />

sowohl durch Dotierung als auch durch Erzeugung sogenannter Mischphasensysteme 7<br />

herbeigeführt werden. Bei Mischphasen handelt es sich um Systeme, die durch<br />

isovalente Besetzung von Gitterplätzen strukturell modifiziert werden. Dotierungen<br />

zielen auf eine Heterovalenz ab; das substituierende Atom hat relativ zum regulären<br />

Gitteratom eine andere Ladung auf diesem Untergitterplatz. Für perovskitische<br />

Materialien weiß man, dass bei der Substitution von A-Plätzen bevorzugt große Ionen,<br />

die bezogen auf das Wirtsgitter geringere Valenzen besitzen, eingebaut werden; für die<br />

entgegengesetz<strong>ten</strong> Eigenschaf<strong>ten</strong> wird der B-Platz bevorzugt [44]. Isovalente<br />

Mischkristalle unterscheiden sich von dotier<strong>ten</strong> Materialien auch durch die Menge an<br />

substituier<strong>ten</strong> regulären Atomen; die extrinsisch eingebrachte Zahl an Atomen ist<br />

deutlich größer (typisch > 5 at%). In der Halbleiterphysik und -industrie wendet man<br />

die Technik zur Beeinflussung von dominantem Typ und Konzentration elektronischer<br />

Ladungsträger und damit zur Modifikation der elektrischen Leitfähigkeit an.<br />

Wesentliche nachgewiesene Dotierungseffekte in Perovski<strong>ten</strong> sind die Beeinflussung<br />

von Leckströmen in paraelektrischen (Ba,Sr)TiO3-Filmen (siehe Kapitel 2.1.2) oder die<br />

Reduzierung der Schaltzei<strong>ten</strong> und Erniedrigung der dielektrischen Verluste in<br />

6 MMIC: monolithic microwave integrated circuit<br />

7 engl.: solid solution<br />

(2.9)

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