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(MOCVD) oxidischer Dönnschich ten aus dem Materialsystem Barium

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14 2 Grundlagen<br />

Filme herangezogen. Epitaktische Schich<strong>ten</strong> unterliegen in ihren Eigenschaf<strong>ten</strong><br />

wachstumsspezifischen Einflussgrößen (z. B. Gitterfehlanpassung) und werden hier<br />

nicht weiter betrachtet.<br />

Dünnschich<strong>ten</strong> auf der Basis von BaTiO3 unterscheiden sich in drei wesentlichen<br />

Aspek<strong>ten</strong> von (grobkörnigen) Bulk-Keramiken. Das Ausbleiben einer spontanen<br />

Polarisation wird auf Korngrößeneffekte (grain size effects) zurückgeführt. Diese<br />

Besonderhei<strong>ten</strong> gel<strong>ten</strong> sowohl für feinkörnige Keramiken als auch für Dünnschich<strong>ten</strong>.<br />

Eine weiteres korngrößenabhängiges Phänomen, das möglicherweise die Ursache für<br />

die Unterdrückung des Phasenübergangs ist, fanden Arlt et al. her<strong>aus</strong>. Durch die<br />

Vergrößerung der Zellvolumina bauen sich in der gesam<strong>ten</strong> Probe beim Abkühlen<br />

mechanische Spannungen auf, die durch Bildung von Domänenwänden kompensiert<br />

werden können [57]; in BTO-Proben mit einem mittleren Korndurchmesser kleiner als<br />

400 nm tre<strong>ten</strong> keine Domänenwände mehr auf [58]. Somit können mechanische<br />

Spannungen energetisch nicht mehr kompensiert werden. Spezifisch für substratbasierte<br />

Stacks sind Substrat- und Interfaceeffekte als beeinflussende Faktoren. Beim<br />

Aufwachsen werden im Abkühlprozess aufgrund unterschiedlicher thermischer<br />

Ausdehnungskoeffizien<strong>ten</strong> des Perovskitfilms im Vergleich zum Siliziumsubstrat<br />

Zugspannungen im Film induziert 3 . Diese Kristalldehnungen/-stauchungen führen zu<br />

Gitterverzerrungen, die sowohl für ein geändertes dielektrisches Verhal<strong>ten</strong><br />

(Polarisationsverarmung, da die Dipole parallel in die Schichtebene gezwungen werden)<br />

als auch für die Modifikation bzw. Unterdrückung symmetrisch-asymmetrischer<br />

Phasenübergänge verantwortlich sind [59] [60]. Interfaceeffekte sind die Beeinflussung<br />

der elektrodennahen Randschicht im Hinblick auf eine signifikante Abnahme der<br />

Permittivität. Man bezeichnet diese Region daher auch als ‚dead layer’ [61]-[63].<br />

Generell ist auch die Filmdicke verantwortlich für Veränderungen der Permittivität:<br />

Eine Abnahme der Schichtdicke führt in ferroelektrischen Dünnschich<strong>ten</strong> wie STO oder<br />

BST generell zu kleineren �-Wer<strong>ten</strong> [64]. In Dünnschich<strong>ten</strong> gilt weiterhin das Curie-<br />

Weiss-Gesetz in folgender Form [30]:<br />

C<br />

�r(T) � �1<br />

(T � T 0 )<br />

Jedoch führen Spannungs- und Interfaceeffekte zu geänder<strong>ten</strong> charakteristischen<br />

Parametern und damit zu einer Abweichung vom Curie-Weiss-Gesetz. Grundsätzlich<br />

werden dafür die erläuter<strong>ten</strong> Zugspannungen wie auch eine Interface-Randschicht mit<br />

geringer Polarisierbarkeit verantwortlich gemacht. Streiffer et al. konn<strong>ten</strong> an mit<br />

<strong>MOCVD</strong> hergestell<strong>ten</strong> BST-Dünnschich<strong>ten</strong> zeigen, dass das für Bulkkeramiken und<br />

Einkristalle übliche Curie-Weiss-Verhal<strong>ten</strong> (siehe Gl. (2.6)) Anomalien um 300 K zeigt,<br />

3 Thermischer Ausdehnungskoeffizient BTO (und STO): �BTO (T = 1000 K) � 12 – 14 * 10 -6 K -1 ;<br />

thermischer Ausdehnungskoeffizient Si: �Si (T = 1000 K) � 4,4 * 10 -6 K -1 [31]<br />

(2.6)

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