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SCHOTT AG Schott HiCotec 14 Was ist PICVD ? Plasma Impulse Chemical Vapour Deposition •Temperaturkontrolle CVD •Beschichtung von komlexen 3D-Substraten PDF created with pdfFactory Pro trial version www.pdffactory.com Plasma PICVD • geringe Temperatur und niedrige Energie beschädigt den Kunststoff nicht MW •hohe Beschichtungsraten, hohe Performance
CVD SCHOTT AG Schott HiCotec 15 Anlagentechnologie der PICVD-Beschichtung mit Einzelplatzkonzept für einfache Mengen- Skalierung: Plasma PICVD MW Mikrowellen Substrat mbar Vacuumtechnologie Gas auslaß PDF created with pdfFactory Pro trial version www.pdffactory.com Gas einlaß Microwellen generator Prozeß- Kontrolle Precursor & Gasversorgung PICVD: Plasma Impulse CVD
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CVD<br />
SCHOTT AG Schott HiCotec<br />
15<br />
Anlagentechnologie der <strong>PICVD</strong>-Beschichtung<br />
mit Einzelplatzkonzept für einfache Mengen-<br />
Skalierung:<br />
Plasma<br />
<strong>PICVD</strong><br />
MW<br />
Mikrowellen<br />
Substrat<br />
mbar<br />
Vacuumtechnologie<br />
Gas<br />
auslaß<br />
PDF created with pdfFactory Pro trial version www.pdffactory.com<br />
Gas<br />
einlaß<br />
Microwellen<br />
generator<br />
Prozeß-<br />
Kontrolle<br />
Precursor &<br />
Gasversorgung<br />
<strong>PICVD</strong>: Plasma Impulse CVD
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