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Optimierung der elektrischen Eigenschaften von lateralen ...

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86 Kapitel 4 Statisches Verhalten <strong>von</strong> SJ‐LDMOS‐Transistoren<br />

_________________________________________________________________________________________________________________<br />

Entsprechend Gl. (4.27) erhält man deshalb eine umso kleinere dynamische SOA, je<br />

länger die Impulsdauer ist. Bei nahezu unendlich langen Impulsdauern nähert sich<br />

die dynamische SOA <strong>der</strong> statischen SOA an, bei nahezu unendlich kurzen Impuls‐<br />

dauern hingegen tendieren die Strom‐ und Durchbruchspannungsgrenze <strong>der</strong> dyna‐<br />

mischen SOA dazu, aneinan<strong>der</strong> anzuschließen.<br />

Ganz analog wird <strong>der</strong> zulässige Spitzenwert des Drainstromes ID(peak)max mit Hilfe <strong>von</strong><br />

Zth berechnet:<br />

I<br />

D( peak)max<br />

=<br />

R<br />

Tjmax −Ta<br />

( T = T ) ⋅Z<br />

DS( on) jmax th<br />

(4.28)<br />

Typischerweise ist ID(peak)max viermal so groß wie IDmax, allerdings unterliegt ID(peak)max<br />

aufgrund seiner Abhängigkeit <strong>von</strong> Zth <strong>der</strong> Pulsdauer tp. Je kürzer die Impulse dauern,<br />

desto höher wird ID(peak)max. Darum kann <strong>der</strong> zulässige Spitzenwert des Drainstromes<br />

ID(peak)max bei kurzen Pulsen sogar den maximalen Strom durch die Bonddrähte errei‐<br />

chen.<br />

Transiente<br />

Wärmeimpedanz<br />

[°C/W]<br />

1<br />

0,1<br />

0,01<br />

0,001<br />

0,0001<br />

100 µ 1 m 10 m 100 m 1<br />

Impulsdauer [s]<br />

Abbildung 4.17: Transiente Wärmeimpedanz Zth in Abhängigkeit <strong>der</strong> Impulsdauer tp.<br />

4.4 Trade‐Off zwischen Durchlass‐ und Sperrfähigkeit<br />

Den Zusammenhang zwischen dem spezifischen Durchlasswi<strong>der</strong>stand und <strong>der</strong><br />

Durchbruchspannung <strong>von</strong> beiden Säulenstrukturen veranschaulichen die Trade‐Off‐<br />

Kurven nach Abb. 4.18 im Vergleich zum RESURF‐LDMOS‐Silizium‐Limit gemäß<br />

Gl. (3.11) mit d = 15 µm und zum konventionellen RESURF‐LDMOS nach Kimm et al.<br />

[KKC01]. Die Kurvenermittlung erfolgt durch gleichzeitige Variation <strong>der</strong> Dotierung

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