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Optimierung der elektrischen Eigenschaften von lateralen ...

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Kapitel 4 Statisches Verhalten <strong>von</strong> SJ‐LDMOS‐Transistoren 77<br />

_________________________________________________________________________________________________________________<br />

chedurchbruch hierbei bestimmt durch die Spannung, bei <strong>der</strong> das Ionisationsintegral<br />

gemäß Gl. (2.46) bzw. Gl. (2.47) gleich eins wird. Scheinbar steigt U(BR)DSS nicht in<br />

gleichem Verhältnis wie die erhöhte Temperatur an, was auf das in <strong>der</strong> Simulation<br />

herangezogene Modell (Chynoweth‐Modell) zur Beschreibung <strong>der</strong> Temperaturabhän‐<br />

gigkeit <strong>von</strong> den Stoßionisationskoeffizienten zurückzuführen ist.<br />

Im Gegensatz zum bipolaren Transistor ist beim MOSFET <strong>der</strong> Lawinendurchbruch<br />

ein reversibler Prozess, das heißt, er hat aufgrund eines positiven Temperaturkoeffi‐<br />

zienten des Wi<strong>der</strong>standes keinen Wärmedurchbruch bzw. keine dauernde Schädi‐<br />

gung zur Folge, und zwar solange sich keine höheren Ströme und Drain‐Source‐<br />

Spannungen einstellen.<br />

Abbildung 4.10: Durchbruchkennlinien des SJ‐Transistors.<br />

Durchbruchspannung [V]<br />

850<br />

800<br />

750<br />

700<br />

650<br />

600<br />

550<br />

500<br />

450<br />

Gleichförmige SJ<br />

Ungleichförmige SJ<br />

400<br />

-75 -50 -25 0 25 50 75 100 125 150 175<br />

Temperatur [°C]<br />

Abbildung 4.11: Variation <strong>der</strong> Durchbruchspannung mit <strong>der</strong> Temperatur.

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