Optimierung der elektrischen Eigenschaften von lateralen ...
Optimierung der elektrischen Eigenschaften von lateralen ...
Optimierung der elektrischen Eigenschaften von lateralen ...
Sie wollen auch ein ePaper? Erhöhen Sie die Reichweite Ihrer Titel.
YUMPU macht aus Druck-PDFs automatisch weboptimierte ePaper, die Google liebt.
Kapitel 4 Statisches Verhalten <strong>von</strong> SJ‐LDMOS‐Transistoren 77<br />
_________________________________________________________________________________________________________________<br />
chedurchbruch hierbei bestimmt durch die Spannung, bei <strong>der</strong> das Ionisationsintegral<br />
gemäß Gl. (2.46) bzw. Gl. (2.47) gleich eins wird. Scheinbar steigt U(BR)DSS nicht in<br />
gleichem Verhältnis wie die erhöhte Temperatur an, was auf das in <strong>der</strong> Simulation<br />
herangezogene Modell (Chynoweth‐Modell) zur Beschreibung <strong>der</strong> Temperaturabhän‐<br />
gigkeit <strong>von</strong> den Stoßionisationskoeffizienten zurückzuführen ist.<br />
Im Gegensatz zum bipolaren Transistor ist beim MOSFET <strong>der</strong> Lawinendurchbruch<br />
ein reversibler Prozess, das heißt, er hat aufgrund eines positiven Temperaturkoeffi‐<br />
zienten des Wi<strong>der</strong>standes keinen Wärmedurchbruch bzw. keine dauernde Schädi‐<br />
gung zur Folge, und zwar solange sich keine höheren Ströme und Drain‐Source‐<br />
Spannungen einstellen.<br />
Abbildung 4.10: Durchbruchkennlinien des SJ‐Transistors.<br />
Durchbruchspannung [V]<br />
850<br />
800<br />
750<br />
700<br />
650<br />
600<br />
550<br />
500<br />
450<br />
Gleichförmige SJ<br />
Ungleichförmige SJ<br />
400<br />
-75 -50 -25 0 25 50 75 100 125 150 175<br />
Temperatur [°C]<br />
Abbildung 4.11: Variation <strong>der</strong> Durchbruchspannung mit <strong>der</strong> Temperatur.