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Optimierung der elektrischen Eigenschaften von lateralen ...

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26<br />

Kapitel 2 Grundlagen <strong>der</strong> numerischen Modellierung<br />

_________________________________________________________________________________________________________________<br />

Abbildung 2.8: Absolute Thermoleistungen Pn und Pp <strong>von</strong> Silizium als Funktion <strong>von</strong><br />

Temperatur und Trägerkonzentration [NN01].<br />

Die Temperatur T beschreibt bei <strong>der</strong> Simulation thermischer Effekte sowohl die Trä‐<br />

gertemperatur als auch die Gittertemperatur. Um die Stromabgabe aufgrund des<br />

Temperaturgradienten zu berücksichtigen, müssen zusätzlich die<br />

Transportgleichungen in folgen<strong>der</strong> Form modifiziert werden:<br />

�<br />

J =−nqµ ∇Φ + P∇T ( )<br />

n n n n<br />

�<br />

J =−pqµ ∇Φ + P∇T ( )<br />

p p p p<br />

(2.77)<br />

(2.78)<br />

Zur numerischen Lösung <strong>der</strong> Wärmeleitungsgleichung benötigt man zumindest eine<br />

thermische Randbedingung. Dies geschieht im Programm DESSIS gemeinhin durch<br />

Angabe einer thermischen Oberflächenleitfähigkeit λ und einer Umgebungstempe‐<br />

ratur Ta. Es liegen hierbei inhomogene Neumannsche Randbedingungen vor<br />

∂ T<br />

κ = λ(<br />

Ta−T) ∂n � (2.79)<br />

mit ∂T ∂n � als Normalenableitung <strong>der</strong> Temperatur (senkrecht zur Randebene). Die<br />

thermische Oberflächenleitfähigkeit λ beschreibt die Wärmeleitfähigkeit zwischen<br />

<strong>der</strong> Halbleiteroberfläche und einer daran angeschlossenen Wärmesenke, wobei die<br />

an<strong>der</strong>e Seite <strong>der</strong> Wärmesenke <strong>der</strong> konstanten Umgebungstemperatur Ta ausgesetzt<br />

ist.<br />

An Randbereichen, die nicht mit einer Wärmesenke in Berührung kommen, knüpfen<br />

sich homogene Neumannsche Randbedingungen.<br />

T<br />

κ 0<br />

n<br />

∂ =<br />

∂ � (2.80)

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