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Optimierung der elektrischen Eigenschaften von lateralen ...

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Kapitel 2 Grundlagen <strong>der</strong> numerischen Modellierung<br />

13<br />

_________________________________________________________________________________________________________________<br />

Driftgeschwindigkeit [cm/s]<br />

10 8<br />

10 7<br />

10 6<br />

10 2<br />

10 5<br />

Elektronen<br />

Löcher<br />

10 3<br />

10 4<br />

10 5<br />

Elektrisches Feld [V/cm]<br />

10 6<br />

Beweglichkeit [cm 2 V -1 s -1 ]<br />

10 4<br />

10 3<br />

10 2<br />

10 2<br />

10 1<br />

Elektronen<br />

Löcher<br />

10 3<br />

10 4<br />

T = 300 K<br />

10 5<br />

Elektrisches Feld [V/cm]<br />

(a) (b)<br />

Abbildung 2.2: (a) Driftgeschwindigkeit und (b) Beweglichkeit als Funktion <strong>der</strong><br />

<strong>elektrischen</strong> Feldstärke.<br />

Für das Canali‐Modell gilt die Temperaturabhängigkeit <strong>der</strong> Sättigungsgeschwindig‐<br />

keit (Abb. 2.3)<br />

v , n<br />

0,<br />

87<br />

7⎛<br />

300K<br />

⎞<br />

1, 07 ⋅10<br />

⎜ ⎟<br />

⎝ T ⎠<br />

Sat =<br />

cm/s (2.35)<br />

v , p<br />

0,<br />

52<br />

6⎛<br />

300K<br />

⎞<br />

8, 37 ⋅10<br />

⎜ ⎟<br />

⎝ T ⎠<br />

Sat =<br />

cm/s (2.36)<br />

Sättigungsgeschwindigkeit<br />

[10 7 cm/s]<br />

3,0<br />

2,5<br />

2,0<br />

1,5<br />

1,0<br />

Elektronen<br />

Löcher<br />

0,5<br />

100 150 200 250 300 350 400 450 500<br />

Temperatur [K]<br />

Abbildung 2.3: Sättigungsgeschwindigkeit <strong>der</strong> Elektronen bzw. Löcher in Silizium<br />

als Funktion <strong>der</strong> Temperatur.<br />

10 6

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