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Optimierung der elektrischen Eigenschaften von lateralen ...

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Notationsverzeichnis<br />

Physikalische Konstanten<br />

Elementarladung q 1,602⋅10 ‐19 [C]<br />

Dielektrizitätskonstante <strong>von</strong> Silizium εSi 1,03 ⋅ 10 ‐12 [F/cm]<br />

Dielektrizitätskonstante <strong>von</strong> Oxid εox 3,45 ⋅ 10 ‐13 [F/cm]<br />

Ruhemasse <strong>der</strong> Elektronen m0 9,1 ⋅ 10 ‐31 [kg]<br />

Planksche Konstante h 6,625 ⋅ 10 ‐34 [Js]<br />

Boltzmann‐Konstante k 1,38 ⋅ 10 ‐23 [JK ‐1 ]<br />

Eigenleitungsdichte (T = 300 K) ni 1,0⋅10 10 [cm ‐3 ]<br />

Temperaturspannung (T = 300 K) UT = kT/q 25,86 [mV]<br />

Physikalische Größen<br />

ai<br />

Feldabhängiger Faktor <strong>der</strong> Stoßionisationskoeffizienten<br />

A Aktive Chipfläche<br />

AD Überlappungsfläche <strong>der</strong> Gateelektrode über die Driftzone<br />

ADIO Diodenfläche<br />

ADrift Ortsabhängige Durchtrittsfläche<br />

AK Überlappungsfläche zwischen dem Gate und dem Kanal<br />

AML Metallurgische Grenzfläche<br />

A + n<br />

Überlappungsfläche zwischen dem Gate und <strong>der</strong> n + ‐Source<br />

AO Überlappungsfläche zwischen dem Gate und dem Sourcemetall<br />

b Breite <strong>der</strong> Driftzone, Zellabstand<br />

bi Feldabhängiger Faktor <strong>der</strong> Stoßionisationskoeffizienten<br />

B Faktor zur Beschreibung des Einflusses <strong>der</strong> Ladungsträger‐<br />

cL<br />

beweglichkeit<br />

Wärmekapazität<br />

C Fulop‐Stoßionisationskoeffizient

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