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Optimierung der elektrischen Eigenschaften von lateralen ...

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Kapitel 4 Statisches Verhalten <strong>von</strong> SJ‐LDMOS‐Transistoren 105<br />

_________________________________________________________________________________________________________________<br />

Source<br />

b = 10 µ m<br />

2l s = 15 µ m<br />

L D = 43 µ m<br />

Source<br />

b = 10 µ m<br />

2l s = 16 µ m<br />

L D = 43 µ m<br />

(a) (b)<br />

Abbildung 4.35: Draufsicht des SJ‐Transistors mit hexagonaler Säulenanordnung;<br />

(a) Gleichförmige SJ (b) Ungleichförmige SJ.<br />

(a)<br />

(b)<br />

Abbildung 4.36: Oberflächennahe Stromflusslinien des SJ‐LDMOS‐Transistors mit<br />

hexagonaler Säulenanordnung bei UGS = 10 V, UDS = 1 V; (a)<br />

Gleichförmige SJ (b) Ungleichförmige SJ.

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