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Handbuch der Nanoanalytik Steiermark 2005 - lamp.tugraz.at

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M26: Präpar<strong>at</strong>ionstechniken in <strong>der</strong> Elektronenmikroskopie<br />

Abbildung 2:<br />

Beschichtungskriterien: Schichtherstellung und entsprechende Umstände.<br />

Die Beschichtung <strong>der</strong> Präpar<strong>at</strong>e erfolgt in speziellen<br />

Hochvakuum-Präpar<strong>at</strong>ionsanlagen. Temper<strong>at</strong>ur-<br />

bzw. vakuumempfindliche Proben werden<br />

mit temper<strong>at</strong>urschonenden Verfahren beschichtet<br />

(z.B. „PSC Sputtering“) und /o<strong>der</strong> im tiefgekühlten<br />

Zustand präpariert (Kryopräpar<strong>at</strong>ion). Abb. 2 zeigt<br />

die Möglichkeiten <strong>der</strong> Schichtherstellung mittels<br />

Verdampfung bzw. Zerstäubung und die damit verbundenen<br />

methodenspezifischen Umstände.<br />

Leitfähigkeitsbeschichtung für<br />

REM<br />

Beschichtung durch thermisches Aufdampfen<br />

von Gold<br />

Beschichtung mit Gold o<strong>der</strong> Chrom (bei gefor<strong>der</strong>ter<br />

Hochauflösung) durch Zerstäubung in<br />

einer Gasentladung<br />

Beschichtung durch Bedampfen mit Kohlenstoff<br />

für die analytische Rasterelektronenmikroskopie<br />

Beschichtung für TEM<br />

Herstellung eines Abdruckes <strong>der</strong> Probenoberfläche<br />

durch Bedampfen mit Kohlenstoff und<br />

anschließendem Herauslösen <strong>der</strong> Probe<br />

Hervorhebung von Oberflächendetails durch<br />

Anlagerung eines kontrastreichen, strukturlosen<br />

Schwermetalls unter schrägem Winkel<br />

durch thermische Verdampfung o<strong>der</strong> Zerstäubung<br />

des Metalls mit Ionen („Sputtering“)<br />

Bedampfung von nichtleitenden ionengedünnten<br />

Präpar<strong>at</strong>en mit einer dünnen Kohlenstoffschicht<br />

zur Vermeidung von Aufladungen im<br />

TEM<br />

66<br />

<strong>Handbuch</strong> <strong>der</strong> <strong>Nanoanalytik</strong> <strong>Steiermark</strong> <strong>2005</strong>

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