Handbuch der Nanoanalytik Steiermark 2005 - lamp.tugraz.at
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M9: Ellipsometrie<br />
führen können, sodass ergänzende Messungen mit<br />
an<strong>der</strong>en Methoden (z.B. Bestimmung <strong>der</strong> Oberflächenrauigkeit<br />
mittels Atomkraftmikroskopie) auf<br />
jeden Fall sinnvoll sind.<br />
Eins<strong>at</strong>zmöglichkeiten<br />
Ellipsometrie wird überall dort zweckmäßig<br />
eingesetzt, wo die schnelle und berührungslose<br />
Untersuchung von Dünnschichtsystemen und<br />
Oberflächen notwendig ist. N<strong>at</strong>ürlich können auch<br />
– sofern entsprechende quantit<strong>at</strong>ive Beziehungen<br />
bekannt sind – alle M<strong>at</strong>erialeigenschaften, die den<br />
Brechungsindex bzw. die dielektrische Funktion<br />
bestimmen, wie z.B. Legierungszusammensetzungen,<br />
ellipsometrisch ermittelt werden. Grundsätzlich<br />
können alle M<strong>at</strong>erialklassen, von Dielektrika<br />
über Halbleiter und Metalle bis hin zu organischen<br />
Systemen untersucht werden. Beispielhaft seien<br />
Untersuchungen<br />
an Halbleitern (Silizium und Siliziumoxide sowie<br />
Nitride und Oxinitride, Poly-Silizium, Verbindungshalbleiter,<br />
Dotierkonzentr<strong>at</strong>ionen und<br />
Dotierprofile, Schichtdicken von epitaktisch<br />
gewachsenen Layern, Gehalt von Stickstoff,<br />
Sauerstoff, Wasserstoff und Wasser in Oxidund<br />
Nitrid-Dünnfilmen, Phononenabsorption)<br />
im Bereich <strong>der</strong> optischen Technologie (high-/<br />
low-n-Mehrschichtsysteme, Leuchtdioden,<br />
elektrochrome und photochrome Strukturen,<br />
Antireflexionsbeschichtungen, Schutzbeschichtungen,<br />
Phasenschiebestrukturen,<br />
Doppelbrechung, Absorptionen molekularer<br />
Bindungen in organischen Dünnschichten)<br />
im Bereich <strong>der</strong> Flachbildschirmtechnologie<br />
(leitende transparente Oxide [z.B. ITO],<br />
flüssigkristalline Systeme, Farbfilter, Alkalihalogenide,<br />
Polyimide, Lacke, Kristallinität von<br />
Poly-Silizium)<br />
im Bereich <strong>der</strong> Lithographie (Photolacke,<br />
Masken, Beschichtung von Stepper-Optiken,<br />
Immersionsflüssigkeiten, Abziehemulsionsschichten)<br />
in <strong>der</strong> Chemie (Langmuir-Blodgett-Filme,<br />
self-assembled monolayers, frei stehende<br />
Polymersubstr<strong>at</strong>e [z.B. PET, Polyimide, Teflon,<br />
Polycarbon<strong>at</strong>e, Polystyrol])<br />
im Bereich <strong>der</strong> D<strong>at</strong>enspeicherung (Aluminiumoxid,<br />
diamond-like carbon [DLC], Metallfilme,<br />
Tantaloxid, magneto-optische M<strong>at</strong>erialien)<br />
sowie in-situ-Anwendungen verschiedenster<br />
Art (Molekularstrahlepitaxie, Sputtern,<br />
Elektronenstrahlverdampfen, CVD und PVD,<br />
reaktives Ionenätzen, Elektrochemie)<br />
genannt.<br />
Georg Jakopic<br />
JOANNEUM RESEARCH Forschungsgesellschaft mbH<br />
Institut für Nanostrukturierte M<strong>at</strong>erialien und Photonik<br />
Methoden: —<br />
Lösungen:<br />
L5<br />
Institute:<br />
I10<br />
Kontakte:<br />
K16<br />
Absorptionskoeffizient | Anisotropie | Brechungsindex | Dickenbestimmung<br />
dielektrische Funktion | Dünnschichten | Ellipsometrie | optische Konstanten<br />
Schichtwachstum | VASE<br />
24<br />
<strong>Handbuch</strong> <strong>der</strong> <strong>Nanoanalytik</strong> <strong>Steiermark</strong> <strong>2005</strong>
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