Katalog Beschichtungsanlagen - Marquis
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Katalog Beschichtungsanlagen - Marquis
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Vakuum- und Beschichtungstechnik<br />
Individuelle Oberflächenprozesse in Perfektion<br />
<strong>Katalog</strong> 2012
Das Unternehmen<br />
Die Firma wurde 1985 von Herrn Peter <strong>Marquis</strong> gegründet. Über 20 Jahre Erfahrung in der Überarbeitung und<br />
Herstellung von Hochvakuum-<strong>Beschichtungsanlagen</strong> haben uns zu dem gemacht was wir heute sind: Ein idealer Partner für<br />
Sie im Bereich Vakuum- und Beschichtungstechnik, in der Feinoptik und insbesondere in schwierigen Herausforderungen<br />
beim Überarbeiten und Erweitern bestehender Anlagen oder Aufbau einer neuen Hochvakuum-Beschichtungsanlage.<br />
Von der Vision bis zur Realisierung alles aus einer Hand – the blue line of controlling<br />
Abbildung 1 Das Firmengebäude<br />
Abbildung 2 Schaltschränke vor der Auslieferung<br />
4<br />
Abbildung 3 Hochvakuum-<strong>Beschichtungsanlagen</strong> vor der Auslieferung
Welt der Beschichtung im Hoch- und Ultrahochvakuum<br />
Mit dem Verfahren der Vakuumbeschichtung werden Beschichtungen höchstpräzise und gleichmäßig auf ein Trägerteil<br />
aufgebracht.<br />
Beim Aufdampfen im Hochvakuum wird das in der Verdampfungsquelle befindliche Beschichtungsmaterial so hoch erhitzt,<br />
dass es verdampft, sich ein ausreichend hoher Dampfdruck bildet und dadurch die gewünschte<br />
Verdampfungsgeschwindigkeit erreicht wird. Das Beschichtungsmaterial geht vom festen Zustand in die Gasphase über.<br />
Beim Auftreffen der Gasteilchen auf der Substratoberfläche kondensiert das Material auf der Oberfläche und die Schicht<br />
bildet sich aus.<br />
Anwendung findet das Verfahren unter anderem bei der Bearbeitung von optischen und elektronischen Trägern wie<br />
Brillengläsern, Optiken oder Halbleitern. Unsere Systeme eignen sich hervorragend für die Labor-, Pilot- und<br />
Massenproduktion von Einzel- und Mehrfachschichten, für Metallisierungen und dielektrische Schichten.<br />
Über 20 Jahre Erfahrung im Bereich Vakuumbeschichtungsanlagen<br />
Jeder Wunsch nach einer speziellen Beschichtung stellt ganz individuelle Anforderungen an eine Beschichtungsanlage.<br />
Der Name ist seit mehr als 20 Jahren mit dem Begriff Vakuum- und Beschichtungssysteme verbunden.<br />
Als Systemlieferant gehen wir auf die Wünsche unserer Kunden ein und konstruieren, montieren und liefern eine<br />
Vakuumbeschichtungsanlage, die den höchsten Anforderungen entspricht.<br />
Selbst bei Standardanforderungen analysieren wir mit unseren Kunden den Prozess um die optimale Lösung für die<br />
Anforderung in Erfahrung zu bringen. Nicht selten können wir hier auf unsere bewährten Vakuumbeschichtungsanlagen<br />
zurückgreifen.<br />
Wenn jedoch der gewünschte Prozess nach einer ganz besonderen Lösung verlangt, sind Sie bei uns ebenfalls in guten<br />
Händen. Geometrie, Enddruck, Pumpzeiten und weitere relevante Kriterien definieren Sie. Mit unserer Erfahrung planen wir<br />
Ihre Anlage sorgfältig.<br />
Sollte Ihre bestehende Anlage schon in die Jahre gekommen sein, sind wir genau der richtige Ansprechpartner für Sie.<br />
Zusammen mit Ihnen nehmen wir den Ist-Zustand der Anlage auf und schlagen Ihnen ein Retrofit vor.<br />
So bleiben Ihre Anlagen immer auf dem aktuellen Stand und funktionieren weiter tadellos über mehrere Jahre.<br />
Wir erneuern beim Retrofit nur die Komponenten nach Ihrem Wunsch, oder informieren Sie welche Komponenten bezüglich<br />
einer einwandfreien Funktion getauscht werden müssten. Hierbei nehmen wir ein besonderes Augenmerk auf die derzeitigen<br />
gesetzlichen Vorschriften und zulässige Laufzeiten der vorhandenen Komponenten.<br />
Sind Sie auf der Suche nach einer gebrauchten Anlage?<br />
Dann sprechen Sie uns an. Eine Vielzahl von überarbeiteten Komponenten und Komplettanlagen können wir ihnen anbieten.<br />
Mit der Firma sind Sie in allen Bereichen bestens beraten.<br />
6
Hochvakuumbeschichtungsanlage MA700<br />
Die Standard Beschichtungsanlage für die Kleinserienfertigung<br />
Technische Daten:<br />
Rezipient<br />
Prozesssteuerung<br />
Vakuumpumpen<br />
Substrat Kalotten<br />
Rezipient Türöffnungsbreite 710mm<br />
Rezipient Türöffnungshöhe 720mm<br />
Volumen ca.430l<br />
Vorpumpe Wälzkolbenpumpstand mit zweistufiger Drehschieberpumpe<br />
mit der Pumpleistung 220m³/h<br />
Hochvakuumpumpe Turbomolekularpumpe mit der Pumpleistung 1300l/s<br />
Meissnerfalle mit Polycold - optional<br />
Kalotten Durchmesser 685mm<br />
Kapazität bei Substraten mit Durchmesser 65mm 1Stück<br />
Kapazität bei Substraten mit Durchmesser 70mm 62Stück<br />
Kapazität bei Substraten mit Durchmesser 75mm 52Stück<br />
Planetenantrieb – optional<br />
Wendevorrichtung - optional<br />
Substratheizung<br />
Zwei Keramikheizer mit der Gesamtleistung von 5,2kW für Temperaturen bis 300°C<br />
Rückseitenheizung – optional<br />
Beschichtungsquellen<br />
Elektronenstrahlverdampfer 4 Tiegelausführung à 40cm³ mit Hochspannungsversorgung 5kW<br />
Thermischer Verdampfer – optional<br />
Plasmaquelle – optional<br />
Schichtdickenmessung<br />
Messkopf einfach in drehbarer Einzelhalterausführung<br />
Messkopf sechsfach – optional<br />
Optisches Monitoring - optional<br />
Photometer OMD-8000 VIS/NIR 200nm – 1100nm<br />
Anforderungen an den Aufstellungsort<br />
Wasserversorgung @ 20°C mindestens 70l/min<br />
Wasserdruck mindestens 5bar<br />
Druckluft mindestens 7bar<br />
Spannungsversorgung 3 x 400V<br />
Frequenz 50 / 60Hz<br />
Leistung 45kW<br />
Die endgültigen technischen Angaben der Anlage sind von der Ausführung abhängig.<br />
7
Hochvakuumbeschichtungsanlage MAB760<br />
Effizient und präzise<br />
Technische Daten:<br />
Rezipient<br />
Prozesssteuerung<br />
Vakuumpumpen<br />
Substrat Kalotten<br />
Substratheizung<br />
Rezipient Türöffnungsbreite 890mm<br />
Rezipient Türöffnungshöhe 915mm<br />
Volumen ca.700l<br />
Vorpumpe Wälzkolbenpumpstand mit zweistufiger Drehschieberpumpe<br />
mit der Pumpleistung 430m³/h<br />
Hochvakuumpumpe Kryopumpe mit der Pumpleistung 10.000l/s<br />
Meissnerfalle mit Polycold - optional<br />
Kalotten Durchmesser 800mm<br />
Kapazität bei Substraten mit Durchmesser 65mm 80Stück<br />
Kapazität bei Substraten mit Durchmesser 70mm 68Stück<br />
Kapazität bei Substraten mit Durchmesser 75mm 60Stück<br />
Planetenantrieb / Wendevorrichtung – optional<br />
Drei Keramikheizer mit der Gesamtleistung von 7,8kW für Temperaturen bis 300°C<br />
Sechs Keramikheizer mit der Gesamtleistung von 15,6kW - optional<br />
Rückseitenheizung – optional<br />
Beschichtungsquellen<br />
Elektronenstrahlverdampfer 4 Tiegelausführung à 40cm³ mit Hochspannungsversorgung 5kW<br />
Elektronenstrahlverdampfer 4 Tiegelausführung à 60cm³<br />
mit Hochspannungsversorgung 10kW - optional<br />
Thermischer Verdampfer – optional<br />
Plasmaquelle – optional<br />
Schichtdickenmessung<br />
Messkopf einfach in drehbarer Einzelhalterausführung<br />
Messkopf sechsfach – optional<br />
Optisches Monitoring - optional<br />
Photometer OMD-8000 VIS/NIR 200nm – 1100nm<br />
Anforderungen an den Aufstellungsort<br />
Wasserversorgung @ 20°C mindestens 70l/min<br />
Wasserdruck mindestens 5bar<br />
Druckluft mindestens 7bar<br />
Spannungsversorgung 3 x 400V<br />
Frequenz 50 / 60Hz<br />
Leistung 80kW<br />
Die endgültigen technischen Angaben der Anlage sind von der Ausführung abhängig.<br />
8
Hochvakuumbeschichtungsanlage MA1100<br />
Die optimale Lösung für ein Höchstmaß an Kapazität<br />
Technische Daten:<br />
Rezipient<br />
Prozesssteuerung<br />
Vakuumpumpen<br />
Substrat Kalotten<br />
Substratheizung<br />
Rezipient Türöffnungsbreite 1120mm<br />
Rezipient Türöffnungshöhe 1110mm<br />
Volumen ca.900l<br />
Vorpumpe: Wälzkolbenpumpstand mit zweistufiger Drehschieberpumpe<br />
mit der Pumpleistung 430m³/h<br />
Hochvakuumpumpe Kryopumpe mit der Pumpleistung 10.000l/s<br />
Meissnerfalle mit Polycold – optional<br />
Kalotten Durchmesser 1000mm<br />
Kapazität bei Substraten mit Durchmesser 65mm 40Stück<br />
Kapazität bei Substraten mit Durchmesser 70mm 124Stück<br />
Kapazität bei Substraten mit Durchmesser 75mm 108Stück<br />
Planetenantrieb – optional<br />
Wendevorrichtung – optional<br />
Sechs Keramikheizer mit der Gesamtleistung von 15,6kW für Temperaturen bis 300°C<br />
Rückseitenheizung – optional<br />
Beschichtungsquellen<br />
Elektronenstrahlverdampfer 4 Tiegelausführung à 40cm³ mit Hochspannungsversorgung 5kW<br />
Elektronenstrahlverdampfer 4 Tiegelausführung à 60cm³<br />
mit Hochspannungsversorgung 10kW - optional<br />
Thermischer Verdampfer – optional<br />
Plasmaquelle – optional<br />
Schichtdickenmessung<br />
Messkopf einfach in drehbarer Einzelhalterausführung<br />
Messkopf sechsfach – optional<br />
Optisches Monitoring - optional<br />
Photometer OMD-8000 VIS/NIR 200nm – 1100nm<br />
Anforderungen an den Aufstellungsort<br />
Wasserversorgung @ 20°C mindestens 80l/min<br />
Wasserdruck mindestens 5bar<br />
Druckluft mindestens 7bar<br />
Spannungsversorgung 3 x 400V<br />
Frequenz 50 / 60Hz<br />
Leistung 80kW<br />
Die endgültigen technischen Angaben der Anlage sind von der Ausführung abhängig.<br />
9
Hochvakuumofen / Hochvakuum – Reinigungsanlage MA300G<br />
Zum Ausgasen Ihrer Substrate<br />
Die Hochvakuum - Reinigungsanlage dient zum Ausheizen bzw. Dekontaminieren von Substraten oder Kabel durch<br />
thermische Energie in einer Vakuumumgebung. Dies ist nötig beim Einbringen der Substrate / Kabel in einen<br />
Reinraum - Bereich sowie zur Vorbehandlung der Komponenten um vor der Baugruppenmontage eine Kontamination<br />
auszuschließen.<br />
Der Reinigungsvorgang erfolgt über einen vorherdefinierten Zeitraum bei einer festgelegten Temperatur vollautomatisch.<br />
Optional kann ein Massenspektrometer eingesetzt werden, damit eine Protokollierung des Reinigungsvorgangs erfolgen<br />
kann oder der Vorgang beim Erreichen einer bestimmten Kontaminationsrate beendet wird.<br />
Dabei sind Temperaturen von 300°C oder Vakuumumgebungen von 1x10 -10 mbar realisierbar.<br />
Technische Daten MA300G:<br />
Rezipient: Edelstahl 1.4301 Länge 300mm, Breite 300mm, Höhe 300mm Zugangstür Breite 300mm<br />
Vorvakuumpumpsystem: trockene Vorvakuumpumpe<br />
Hochvakuumpumpsystem: Turbomolekularpumpe, magnetgelagert<br />
Anlagensteuerung: <strong>Marquis</strong> für Hochvakuum - Reinigungsanlage<br />
Optional:<br />
Glimmeinheit um Substrate oder Kabel zu Plasmatieren<br />
Massenspektrometer Fabrikat Pfeiffer PrismaPlus PT M06 141 211 oder nach Ihrem Wunsch<br />
Gaseinlass um die Reinheit der Anlage zu erfassen<br />
Die Hochvakuum – Reinigungsanlage ist als Standard mit einem<br />
quadratischen Kessel außerdem noch mit folgenden Seitenlängen<br />
erhältlich:<br />
500mm<br />
750mm<br />
1000mm<br />
Gerne passen wir die Anlage ihrem Produkt an!<br />
Beispiel einer kundenspezifischen Hochvakuum - Reinigungsanlage.<br />
Technische Daten:<br />
Endvakuum nach 24 Stunden: < 1x10 -9 mbar<br />
(nach Ausheizen, 48h@140°C)<br />
Leckrate: < 1x10 –9 mbar*l/s<br />
Evakuierzeit bis 1x10 –5 mbar: < 10 Minuten<br />
Die endgültigen technischen Angaben der<br />
Anlage sind von der Ausführung abhängig.<br />
10<br />
Abbildung 4 Beispiel einer Hochvakuum-Reinigungsanlage<br />
Abbildung 5 Hochvakuum-Reinigungsanlage mit zwei Rezipienten<br />
mit der Möglichkeit die Substrate zwischen den beiden<br />
Rezipienten zu handeln
Sonderanlagen<br />
Für den Bereich Vakuum- und Beschichtungstechnik entwickeln wir gerne für Sie die spezifische Lösung.<br />
Ob bei Anlagen mit einer Prozesstemperatur von bis 500°C oder einem Ultrahochvakuum von kleiner 1x10 -11 mbar, haben<br />
Sie bei der Firma den richtigen Ansprechpartner gefunden.<br />
Sprechen Sie uns an, wir beraten Sie gerne!<br />
Abbildung 6 Lecktestanlage<br />
Abbildung 8 oben UHV Kammer bis 1x10 -11 mbar<br />
Rechts oben: Oberteil der UHV Kammer ohne Heizmantel<br />
Rechts unten: Unterteil der UHV Kammer ohne Heizmantel<br />
12<br />
Abbildung 7 UHV Pumpstand 1x10-11mbar<br />
bei 500°C
Retrofit<br />
Mit der Firma haben Sie den richtigen Ansprechpartner gefunden.<br />
Wir kümmern uns um die Aufrüstung und Reparatur bestehender Anlagen aller Hersteller.<br />
Wir nehmen Ihre Anlage unter die Lupe und optimieren sie nach Ihren Wünschen.<br />
Aufgabe / Ziel<br />
An vielen Anlagen sind bestimmte Komponenten noch in sehr gutem Zustand andere Komponenten wiederum benötigen<br />
dringend eine Überholung oder ein Update. Nicht immer ist der Tausch des kompletten Schaltschrankes, der Aktoren und<br />
Sensoren an der Maschine sowie eine Anlagenneuinstallation gewünscht oder notwendig. Oftmals steht auch das<br />
notwendige Budget für ein komplettes Retrofit nicht zur Verfügung.<br />
Wir ersetzen die vorhandene Anlagensteuerung durch die bewährte zeitgemäße Prozesssteuerung .<br />
Auf Wunsch erneuern wir ihr Vakuum Messequipment und bringen ihre Vakuumpumpen auf den neuesten Stand. Bei Bedarf<br />
erneuern wir die Wasserverteilung, führen ein Update oder eine Überholung ihrer Beschichtungsquellen durch.<br />
Kurzum wir legen mit Ihnen gemeinsam die notwendigen Retrofit Maßnahmen fest und erstellen ein optimal zugeschnittenes<br />
Konzept mit zugehörigem Angebot.<br />
Funktionen<br />
Konzept<br />
Ausschließlicher Einsatz industrietauglicher zuverlässiger Komponenten mit kurzer<br />
Wiederbeschaffungsdauer<br />
Betriebssystem Windows XP Professional / Windows 7<br />
Bewährte Bedienoberfläche nach marquis Standard<br />
Vorhandene veraltete Ablenkung wird durch<br />
(programmierbare Strahlablenkung) ersetzt<br />
sofortige oder spätere Nachrüstung mit Zusatzgeräten und Funktionen möglich<br />
( Massenspektrometer, Pyrometer, 4-fach Messkopf, 6-fach Messkopf, Ionenstrahlunterstützung ,<br />
Glimmeinrichtung)<br />
Hochspannungsversorgung bleibt auf Wunsch bestehen oder wird wenn notwendig getauscht<br />
Vorhandene Elektronenstrahlverdampfer werden überholt oder aktualisiert bzw. es können ebenfalls<br />
weitere Elektronenstrahlverdampfer platziert werden.<br />
Dabei ist es möglich z.B. eine ESV14 einzusetzen ohne dass der Rezipient die für diesen<br />
Elektronenstrahlverdampfer nötige Bohrung DN100 aufweist<br />
Thermische Verdampfer bleiben auf Wunsch bestehen<br />
Schneller Austausch, kurze Umbau- und Inbetriebnahmezeiten<br />
Bewährtes getrenntes Steuerkonzept mit SPS und PC bleibt erhalten<br />
PC Absturz führt nicht zum Steuerungsabsturz<br />
Funktionen werden weiter kontrolliert ausgeführt<br />
Keine Soft-SPS!<br />
Touch Screen als Option möglich<br />
Fernwartung Diagnose integriert (ISDN-Anschluss oder Netzwerkzugang notwendig)<br />
USV (Unterbrechungsfreie Spannungsversorgung) zur Pufferung des PC und der SPS-Steuerung<br />
14
Vorteile<br />
Nachteile<br />
Schichtdickencontroller integriert (Optional Einbindung von XTC/3 oder IC6 oder weitere<br />
Fabrikate möglich)<br />
Sofortige oder spätere Nachrüstung mit Zusatzgeräten und Funktionen möglich<br />
„Look and feel“ der bewährten Oberfläche<br />
Kurze Umbau- und Inbetriebnahme Zeiten<br />
Kostengünstig durch Verwendung vorhandener Hardware<br />
System jederzeit erweiterbar<br />
Bekannte und bewährte Bedienoberfläche<br />
Problemlose Ersatzteilversorgung, kurze Lieferzeiten<br />
Keine Soft-SPS sondern Hardware-CPU für die Maschinensteuerung<br />
Fernwartung integriert<br />
Zukunftssicheres Betriebssystem<br />
Windows XP / Windows 7<br />
Keine !<br />
Abbildung 9 zeigt eine Bestehende<br />
ältere Anlagensteuerung<br />
15<br />
Abbildung 10 zeigt die Anlagensteuerung<br />
nach dem Retrofit
Steuerung<br />
präsentiert mit Ihrer Prozesssteuerung eine Prozesssteuerung zur Neuausrüstung oder Modernisierung<br />
sämtlicher marktüblicher <strong>Beschichtungsanlagen</strong>.<br />
Basierend auf einer S7-kompatiblen Steuerung und einem 19“ Zoll PC mit der entsprechenden Visualisierungssoftware stellt<br />
die ein flexibles und modernes Konzept zur Überwachung, Dokumentation und Prozesssteuerung zur Verfügung.<br />
Moderne Netzwerk- und Telekommunikationstechniken bieten die Möglichkeit der Anbindung an einen zentralen<br />
Datenverwaltungsserver oder der Anlagendiagnose über Fernwartung.<br />
Die Verwendung von industriegeprüften Bauteilen, zukunftsorientierten Betriebssystemen und Programmiersprachen sowie<br />
die Erfahrung von über 80 Retrofitpaketen bzw. Ausrüstungen von Neuanlagen ergibt eine hohe Zukunfts- und<br />
Investitionssicherheit.<br />
Ansteuerung von Diffusionspumpen, Cryopumpen, Turbopumpen<br />
Elektronenstrahlverdampfer, Widerstandsverdampfer, RF- und DC Sputterquellen<br />
Integration der vorhandenen Hochspannungsversorgungen bei Bedarf<br />
Ansteuerung von verschiedensten Tiegelpositionierungen und Substratantrieben<br />
Integration von Ionenquellen<br />
Integration Massenspektrometer<br />
Berührungslose Temperaturmessung mit Pyrometer<br />
Integrierte programmierbare Strahlablenkung<br />
Optisches Monitoring<br />
Abbildung 11 Pumpstand Abbildung 12 Stepcontroller<br />
Abbildung 13 Alarmarchiv<br />
Abbildung 14 Prozessprotokoll<br />
Abbildung 15 Handbedienung Abbildung 16 Prozessdaten<br />
16
Umbau- und Erweiterungs-Service<br />
Ihre Hochvakuumbeschichtungsanlage ist schon länger in Betrieb und eine Komponente bereitet Ihnen Sorgen?<br />
Nutzen Sie unser Know-how beim Austausch einzelner Komponenten wie Hochspannungsversorgungen oder<br />
Vakuumpumpen. Die bestehende Anlagensteuerung bleibt erhalten und Sie müssen Ihre Prozesse nicht auf eine neue<br />
Anlagensteuerung anpassen.<br />
Vorhandene Heizungen wie Quarzstrahler oder Wendelheizer können durch unsere Keramikheizer ersetzt werden.<br />
Hier haben wir eine Lösung mit unseren Keramikheizern, welche direkt auf die bestehenden Halterungen anstatt der<br />
Wendelheizer aufgebaut werden können. Im Schaltschrank ist dann noch lediglich der Einsatz von einem Thyristorsteller und<br />
Trenntraffo nötig (siehe Seite 22 Heizung asymmetrisch).<br />
Ebenfalls können Ionenquellen / Plasmaquellen in eine vorhandene Anlagenkonfiguration eingebaut werden.<br />
Die Steuerung erfolgt hierbei durch den Controller der Quelle. Bei einem Retrofit der Anlagensteuerung auf eine<br />
kann die Quelle komplett integriert werden.<br />
Gleich wie die Erweiterung der bestehenden Beschichtungsanlage mit einer Ionenquelle erfolgen kann, ersetzen wir eine<br />
vorhandene Hochspannungsversorgung wie zum Beispiel eine HV10 gegen eine neue vom Fabrikat Beamtec WARP 10<br />
oder Ferrotec Carrera 10!<br />
17
Gebrauchtmaschinen<br />
Durch unseren Kundenstamm haben wir einen sehr guten Zugang zu Anlagen, die ausgemustert werden. Diese Anlagen<br />
werden nach Ihren Wünschen bei uns generalüberholt und auf den neusten Stand gebracht.<br />
Wir haben auch ständig Gebrauchtanlagen und Komponenten im Lager.<br />
Sprechen Sie uns einfach an!<br />
Sicherlich ist die richtige Anlage für Sie dabei!<br />
Abbildung 17 zeigt eine Retrofit auf eine MA700Q mit Glimmblech, Keramik-Heizungen, einem Thermischen-Verdampfer und einem<br />
Elektronenstrahlverdampfer. Die Hochvakuumpumpe ist hier eine Turbomolekularpumpe.<br />
Abbildung 18 zeigt ein Retrofit auf eine MA1100 mit Meissnerfalle, 6 Stück Keramik-Heizungen, 2 Stück Elektronenstrahlverdampfer.<br />
Die Hochvakuumpumpe ist hier eine Diffusionspumpe.<br />
18
Zubehör (technische Änderungen vorbehalten)<br />
Glimmstab zum Einbau in Rezipienten<br />
Beschreibung<br />
inklusive Hochspannungsdurchführung<br />
zum Befestigen auf Bodenbleche<br />
Anschlussleitungen mit Keramikperlen isoliert<br />
Glimmstab aus Reinstaluminium<br />
Glimmstab gegen Gehäuse aus Edelstahl über Keramikelemente isoliert<br />
Weitere Ausführungen auf Anfrage<br />
Technische Daten<br />
Spannung 2,2 KV<br />
Glimmstrom: 300 mA<br />
Leistung 700 VA<br />
Netzanschluss: 230V AC / 50Hz<br />
Vorsicherung: 10A<br />
Bauform: Untertischgehäuse<br />
Abmessungen: LxBxT 450x280x280<br />
Gewicht: 45 kg<br />
Schnittstellen<br />
Leistungseinheit gestört (digitale Meldung 24V DC)<br />
Freigabe von Glimmsteuereinheit<br />
Glimmstromistwert (0-10V = 0-1000mA)<br />
Glimmstromsollwerteingang Thyristorsteller<br />
Leistungseinheit Glimmen<br />
20<br />
Abbildung 19 Glimmstab<br />
Technische Daten<br />
Spannung : 3,3 KV<br />
Glimmstrom: 1000 mA<br />
Leistung 3300VA<br />
Netzanschluss: 230V AC / 50Hz<br />
Vorsicherung: 16A<br />
Bauform: Untertischgehäuse<br />
Abmessungen: LxBxT 510x360x310<br />
Gewicht: 55 kg<br />
Abbildung 20 Leistungseinheit Glimmen
Glimmsteuereinschub<br />
Beschreibung<br />
Der Glimmsteuereinschub wurde als Einheit mit flexiblen Ansteuermöglichkeiten konzipiert.<br />
Er erlaubt sowohl die Bedienung als eigenständige Glimmsteuerung über das Bedienfeld und die<br />
zugehörigen Taster, als auch die Ansteuerung über digitale und analoge Schnittstelle.<br />
Optional auch die Ansteuerung als Profibus-Slave.<br />
Funktion<br />
Glimmstromregelungsarten<br />
Gasregelung:<br />
Beim Start werden der Gasstartwert und der feste Spannungswert eingestellt.<br />
Nach der Startwartezeit von 5 Sekunden wird mit dem Gasfluss auf den gewünschten Glimmstromsollwert geregelt, die<br />
eingestellte Spannung bleibt konstant.<br />
Der Einschub erlaubt die Ansteuerung eines Flowcontrollers mit zugehörigem Absperrventil über Standardschnittstelle.<br />
Spannungsregelung:<br />
Beim Start werden der Spannungswert und der feste Gasflusswert eingestellt.<br />
Nach der Startwartezeit von 5 Sekunden wird durch die Regelung der Glimmspannung der gewünschte Glimmstrom<br />
eingestellt.<br />
Der Gasfluss bleibt konstant.<br />
Technische Daten<br />
Netzanschluss: 230V AC / 50Hz, 50VA<br />
Bauform: 19“ Einschub 3 HE<br />
Abmessungen: BxHxT 483x88x310<br />
Farbe : Frontplatte RAL 7035<br />
Bediengerät Eingabe- Anzeigeparameter<br />
Auswahl Regelungsart:<br />
Spannungs- oder Gasregelung,<br />
Glimmzeitsollwert,<br />
Glimmstromsollwert bei Lokalbetrieb<br />
PID-Regelparameter,<br />
Auswahl Gasflowcontroller (0-10V, 0-5V),<br />
Anzeige Glimmstromistwert ,<br />
Anzeige Störmeldung in Klartext<br />
Abbildung 21 Glimmsteuereinschub<br />
21<br />
Schnittstellen<br />
Anschluss an übergeordnete Steuerung<br />
Digitale Eingänge (24VDC)<br />
Analoge Eingänge (0-10V)<br />
Analoge Ausgänge<br />
Option Profibus-Slave Schnittstelle<br />
Aktivierung über Auswahl im Bediengerät<br />
Störmeldung in Klartext
Heizung<br />
Beschreibung<br />
Vorderseiten Substrat-Heizung (Keramikheizer)<br />
Heizleistung pro Heizer: 2,6kW, Spannung 400V 2 phasig<br />
Keine Plasmabildung durch eine vollständige metallische Schirmung<br />
komplett mit Hochvakuumdurchführung im Rezipientenboden und Bedampfungsschutzblechen am Keramikheizer<br />
Anmerkung:<br />
Keramikheizplatten mit beschädigten Kontaktflächen können wieder instand gesetzt werden<br />
Abbildung 22 Keramik-Heizung<br />
Heizung asymmetrisch<br />
Beschreibung<br />
Vorderseiten Substrat-Heizung (Keramik-Heizer)<br />
Heizplatte asymmetrisch (verwechslungssicher)<br />
Befestigungskompatibel zu marktüblichen Infrarotheizern<br />
Heizleistung pro Heizer: 2,6kW Spannung, 400V 2 phasig<br />
Keine Plasmabildung durch eine vollständige metallische Schirmung<br />
komplett mit Hochvakuumdurchführung im Rezipientenboden und Bedampfungsschutzblechen am Keramikheizer<br />
Abbildung 24 Keramik-Heizung asymmetrisch<br />
22<br />
Abbildung 23 Keramikheizung auf<br />
Halterung mit integrierter Stromdurchführung
Rückseitenheizung<br />
Beschreibung<br />
Zum direkten Beheizen Ihrer Substrate<br />
Eingesetzt zwischen Rezipient und Kalotten Aufnahme<br />
Spannung: je Heizschlange 230V<br />
Leistung: ca. 1 - 2kW je Heizschlange je nach Größe der Heizung<br />
Heizkreise zur Steuerung der Temperaturverteilung in radialer Anordnung regelbar<br />
Weitere Spannungen und Leistungen auf Wunsch ebenfalls lieferbar<br />
Kann optional an Ihre Bedürfnisse angepasst werden<br />
Thermischer-Verdampfer einfach<br />
Beschreibung<br />
Einfacher Thermischer-Verdampfer<br />
Elektrode auch mit T Stück zum Anschluss von 2 Stück Schiffchen lieferbar<br />
Elektrode und Durchführung wassergekühlt<br />
Technische Daten<br />
Anzahl Durchführungen: 1<br />
Spannung, pro Pol: 50V<br />
Strom, pro Pol: 660A<br />
Isolator: Teflon<br />
Durchmesser Elektrode: 28mm<br />
Wasseranschluss: 8mm Schlauch<br />
Tiefe unter Rezipientenboden: 163mm<br />
Höhe über Rezipientenboden: 117mm<br />
Querschnitt Anschlusskupfer: 40x5mm<br />
Elektrischer Anschluss: M16<br />
Abbildung 25 Rückseitenheizung im Rezipient<br />
Weitere Ausführungen sind nach Absprache möglich!<br />
23<br />
Abbildung 26 Thermischer-Verdampfer einfach
Thermischer-Verdampfer zweifach<br />
Beschreibung<br />
Doppelter Thermischer-Verdampfer<br />
Mit Trennwand und Außenschutzhülse lieferbar<br />
Elektrode und Durchführung wassergekühlt<br />
Technische Daten<br />
Einbauöffnung Einbau: KF 160<br />
Abstand Elektroden: 75mm<br />
Befestigung Schiffchen: M8<br />
Spannung, pro Pol: 50V<br />
Strom, pro Pol: 660A<br />
Isolator: Teflon<br />
Durchmesser Elektrode: 28mm<br />
Wasseranschluss: 8mm Schlauch<br />
Tiefe unter Rezipientenboden: 163mm<br />
Höhe über Rezipientenboden: 117mm<br />
Querschnitt Anschlusskupfer: 40x5mm<br />
Elektrischer Anschluss. M16<br />
Gewicht. 16kg<br />
Leistungseinheit für Thermischen-Verdampfer<br />
Beschreibung<br />
Die Leistungseinheit Thermischer-Verdampfer umfasst alle notwendigen Bauteile zur<br />
Bereitstellung des gewünschten Stroms zum Anschluss von 1 Stück thermischen<br />
Widerstandsverdampfer.<br />
Im selbstbelüftenden Gehäuse integriert sind der Leistungstrafo und Thyristorsteller zur<br />
Ansteuerung mit Normsignal 0-10V.<br />
Technische Daten<br />
Netzanschluss: 230V AC / 50Hz<br />
Vorsicherung: 20A<br />
Bauform: Untertischgehäuse<br />
Farbe : Ral 7032<br />
Spannung : 6VAC<br />
Heizstrom: 660A<br />
Leistung 4 KW<br />
Schnittstellen<br />
Stecker zu Steuereinheit<br />
Leistungseinheit gestört (digitale Meldung 24V DC)<br />
Freigabe von Steuereinheit<br />
Sollwerteingang für Thyristorsteller (0-10V)<br />
Abbildung 27 Thermischer-Verdampfer zweifach<br />
Abbildung 28 Leistungseinheit für Thermischen-Verdampfer<br />
24
Strahlablenkung Elektronenstrahl-Verdampfer<br />
Beschreibung<br />
Eigene Steuereinheit<br />
Aufgebaut aus Standardkomponenten (SPS S7-300 Siemens)<br />
Anschlusskompatibel zu LES 05 oder (<strong>Marquis</strong> Ablenkverstärker)<br />
Innerhalb der Matrix sind Verfahrpunkte frei definierbar<br />
Einstellung der Intensität (Verweildauer in ms)<br />
Editierfunktionen zum Verschieben, Kopieren und Löschen der Matrixpunkte<br />
Simulationsmöglichkeit für Ablauf<br />
Ablenkverstärker für Elektronenstrahl-Verdampfer<br />
Beschreibung<br />
Ablenkverstärker zur Ansteuerung der Magnetspulen an Elektronenstrahl-Verdampfern<br />
Eigenschaften<br />
Hochgenaue Stromregelung<br />
Temperaturstabil<br />
Pinkompatibel zu Ablenkverstärker Typ LES 05<br />
Über Adapter auch ohne Einschub direkt in Schaltschrank einzubauen<br />
Technische Daten<br />
Ausgangsstrom: +- 3A<br />
Ausgangsfrequenz: max. 10Khz<br />
Spannungsversorgung Elektronik: +- 15VDC<br />
Spannungsversorgung Leistung: +- 15VDC<br />
• Eingangssignal: +- 10VDC<br />
• Freigabesignal (enable): Potentialfrei<br />
• Messsignal Ablenkstrom: +-10VDC<br />
Abbildung 29 Strahlablenkung für Elektronenstrahl -Verdampfer<br />
25<br />
Abbildung 30<br />
Ablenkverstärker
Filamentstromversorgung Elektronenstrahl Verdampfer<br />
Beschreibung<br />
Die Filamentstromversorgung für Elektronenstrahl Verdampfer versorgt das Filament mit Strom und Spannung. Inklusive<br />
einer Emissionsstrommessung und die Aufschaltung der Hochspannung. Ebenfalls integriert ist eine<br />
Kathodenheizstromversorgung. Im Gehäuse sind Thyristorsteller sowie Sicherheitsorgane vorgesehen.<br />
Technische Daten<br />
Netzanschluss: 230V AC / 50Hz<br />
Vorsicherung: 6A<br />
Nennstrom: 3A<br />
Steuerspannung: 24V DC<br />
Bauform: Untertischgehäuse<br />
Farbe : Ral 7032<br />
Kathodenheizstrom: 0-50A<br />
Emissionsstrom: 0-1000mA<br />
Spannungsbereich bis 10 KV<br />
Abbildung 31 Filamentstromversorgung<br />
26
Shutter<br />
Beschreibung<br />
Pneumatischer Antrieb<br />
Pneumatik Drehmotor montiert<br />
Endlagenerfassung über berührungslose Endschalter<br />
Passend für Einbauöffnung Durchmesser DN34<br />
Ferrofluidgedichtete Hochvakuumdurchführung<br />
Aufnahme im Rezipient mit mechanischer Endlage<br />
Gefertigt aus Edelstahl<br />
Auf Wunsch wassergekühlt<br />
Blenden<br />
Beschreibung<br />
Statische Blenden oder klappbare Blenden<br />
Genaue Ausführung nach technischer Klärung<br />
Für alle Anlagengrößen<br />
Abbildung 33 pneumatisch nach<br />
unten abklappbare Halterung für<br />
eine Blende<br />
27<br />
Abbildung 32 Durchführung Shutter<br />
Abbildung 34 Statische Blende
Messkopfeinheit<br />
Beschreibung<br />
Messkopf in gerader oder gebogener Form<br />
Wasserkühlung komplett bis zum Messkopf<br />
Komplett mit Durchführung<br />
Durchflusswächter<br />
Messquarzaufnahme<br />
Messkopf, zentral einfach und zweifach<br />
Beschreibung<br />
Messkopf für den Einbau zentral im Rezipienten<br />
Wassergekühlt<br />
Kombinierbar mit dem <strong>Marquis</strong> Drehantrieb oder auch mit weiteren Drehantrieben<br />
Wahlwiese als Einzelmesskopf oder Doppelmesskopf<br />
Wahl des Schwingquarzes bei Doppelmesskopf mittels Pneumatik oder Schrittmotor<br />
5 MHz als auch 6MHz Quarze verwendbar<br />
Abbildung 35 Einfach Messkopf und Zweifach Messkopf<br />
28<br />
Abbildung 36 Messkopfeinheit
Schichtdickencontroller<br />
Beschreibung<br />
Die Schichtdickencontrollerkarte wird als Standard-PCI-Karte im Anlagenrechner integriert. Die Karte bestimmt die Frequenz<br />
der angeschlossenen Quarze und berechnet daraus die Rate. Alle Einzelraten werden über Softwareschnittstellen zur<br />
Verfügung gestellt.<br />
Die von uns entwickelte Software erlaubt die Mittelung und Gewichtung der Einzelraten und berechnet die Schichtdicke. Ein<br />
integrierter Norm-PID-Regler übernimmt die Ratenregelung.<br />
Über Konfigurationsmasken kann die Reaktion auf Ausfall einzelner Quarze sowie die Anwahl des Quarzkopfes eingestellt<br />
werden. Der Stellwert des Reglers geht direkt an die SPS und wie bisher über Analogausgänge an die<br />
Stellglieder (Filamentstromversorgung; Thermische Verdampfer).<br />
Über eine integrierte Filterfunktion kann das Ratensignal gefiltert werden.<br />
Als Materialdaten stehen die gewohnten Parameter Tooling, Density usw. zur Verfügung.<br />
Technische Daten<br />
Eingänge: 4<br />
Steckverbindung: BNC<br />
Quarzfrequenz: 1 bis 10 MHz (sowohl 5 als auch 6 MHz Quarze verwendbar)<br />
Schichtdicken Auflösung: 0,2 A° at 0,25 sec<br />
Schichtdicken Genauigkeit: 0,5% + 1 count<br />
Ausgänge: 2<br />
Signal: 0 bis ± 10 V DC<br />
Impedanz: 1 K<br />
Auflösung: 15 bit<br />
Abbildung 37 Schichtdickencontroller<br />
29
Drehantrieb<br />
Beschreibung<br />
Drehantrieb für Planeten- Substrathalter mit Compoundlagern<br />
Gehäuse aus Edelstahl<br />
Inklusive Absolutwertgeber (Inkrementalgeber) für die Planetenposition<br />
Ferrofluid Drehdurchführung<br />
Drehgeschwindigkeit wählbar: max. 20 U/min<br />
Einbau von Schichtdickenmesseinrichtungen im Zentrum vorgesehen<br />
Antrieb: Servomotor Fabrikat Siemens<br />
Belastbarkeit axial 500kg<br />
Asymmetrische Belastung 20 % zulässig (verkürzte Lagerlebenszeit beachten)<br />
Lager Typ Compound<br />
Optional: Magnetkupplung am Antrieb<br />
Drehantrieb<br />
Beschreibung<br />
Preiswerte Variante eines Drehantriebs für Kalotten - Substrathalter<br />
Gehäuse aus Edelstahl<br />
Ferrofluidgedichtete Drehdurchführung<br />
Einbau von Schichtdickenmesseinrichtungen im Zentrum vorgesehen<br />
Drehgeschwindigkeit wählbar: max. 20 U/min<br />
Antrieb: Lenze Drehstrommotor<br />
30<br />
Abbildung 38 Drehantrieb<br />
Abbildung 39 Drehantrieb
Kalottensegmente<br />
Beschreibung<br />
Wir liefern Ihnen an die Substrate angepasste Kalottensegmente die exakt Ihren Wünschen und Vorstellungen entsprechen.<br />
Optional mit Bohrungen oder einem Rechteckigen Ausschnitt für Schienen, natürlich mit den entsprechenden Schienen.<br />
Abbildung 40 Kalottensegmente mit rechteckigem Ausschnitt<br />
Halterung für Kalottensegmente<br />
Beschreibung<br />
Einfaches Bestücken Ihrer Kalottensegmente mit Substraten durch die <strong>Marquis</strong><br />
Halterung für Kalotten. Die Halterung wird nach Ihren Wünschen und<br />
der genauen Ausführung der Kalotten angepasst.<br />
Planetenantrieb<br />
Beschreibung<br />
Übersetzungsverhältnis nach Wunsch<br />
8-fach, 6-fach oder 4-fach Teilung möglich<br />
Auslegung maximal 100kg pro Planet<br />
Maximaler Substratdurchmesser: 400mm<br />
Inklusive Wellenklemmung für Planetenteller<br />
31<br />
Abbildung 41 Kalottensegmente in Kalottenaufnahme<br />
Abbildung 42 Halterung für Kalottensegmente<br />
Abbildung 43 Planetenantrieb
Planetentöpfe<br />
Beschreibung<br />
Passend zu Ihrem Substrat liefern wir Ihnen natürlich<br />
auch die entsprechende Aufnahme für das Substrat<br />
zu dem Planetenantrieb.<br />
Planetenantrieb 40°<br />
Beschreibung<br />
Die Substrate können bei unserem Planetenantrieb<br />
um 40° geneigt eingesetzt werden.<br />
Dies ermöglicht eine gezielte Beschichtung des<br />
Randbereiches der Substrate.<br />
Nachrüstbar an Standard Planetenantrieb<br />
Lässt sich in viele besehende Rezipienten integrieren.<br />
Auf Wunsch sind auch andere Kippwinkel möglich.<br />
Der besitzt eine kompakte Bauform.<br />
Baffle – Chevronbaffle<br />
Beschreibung<br />
Wir liefern Ihnen Baffle nach Ihren Vorgaben aus Edelstahl oder Kupfer, mit oder ohne Wasserkühlung<br />
Wir fertigen hochvakuumdichte Durchführungen für Kühlwasser passend zu den Baffle<br />
Für die Anlage MA1100 und größer ist wegen der besseren Handhabung das Chevronbaffle zweigeteilt (links und rechts).<br />
Abbildung 46 Baffle<br />
und<br />
32<br />
Abbildung 44 Substrat-Topf für Planetenantrieb<br />
Abbildung 45 Planetenantrieb mit um 40°geneigter Aufnahme<br />
Abbildung 47 Chevronbaffle und<br />
im Rezipient eingebaut
Schubladenbaffle<br />
Beschreibung<br />
Der Einsatz des Schubladenbaffles liegt zwischen<br />
Hochvakuumpumpe (Kryopumpe) und Hochvakuumventil V1.<br />
Es dient zum zusätzlichen Schutz Ihrer Kryopumpe vor den<br />
Prozesstemperaturen im Rezipienten.<br />
Ebenso wie unser Baffle erhalten Sie das Schubladenbaffle<br />
nach Ihren Vorgaben aus Edelstahl oder Kupfer.<br />
Wasserkühlung oder Stickstoffkühlung<br />
Meissnerfalle<br />
Beschreibung<br />
Eine Meissnerfalle unterstützt die vorhandene Hochvakuumpumpe beim<br />
Evakuieren des Rezipienten. In Verbindung mit einem Kühlaggregat wird<br />
Wasserdampf an der Oberfläche der Meissnerfalle angefroren.<br />
Die Meissnerfalle mit dem angefrorenen Wasserdampf wird durch angebrachte<br />
Bleche vor Hitzeeinwirkungen geschützt.<br />
Durch den Einsatz einer Meissnerfalle mit einem Kühlaggregat konnten<br />
bei einer Hochvakuumbeschichtungsanlage MA1100 die Pumpzeiten um<br />
ca. 1h verkürzt werden.<br />
Wir passen die Meissnerfalle bei einer Nachrüstung einer bestehenden<br />
Anlage den Einbaubedingungen an.<br />
Kühlbleche, Schutzbleche<br />
Beschreibung<br />
Ihr Rezipient und Elektronenstrahlverdampfer soll Ihnen über eine sehr lange Zeit einen guten Dienst leisten?<br />
Wir bieten Ihnen, angepasst an Ihre vorhandene oder neue Anlage passende Schutzbleche sowie Kühlbleche in Kupfer oder<br />
Edelstahl.<br />
Abbildung 50 Bedampfungsschutz für eine ESV14<br />
33<br />
Abbildung 48 Schubladenbaffle<br />
Abbildung 489Meissnerfalle, ohne Schutzbleche<br />
Abbildung 51 Türinnenseite mit Schutzblechen
UV-Brenner<br />
Beschreibung<br />
Der UV – Brenner zur Entfernung von Kontaminationen auf<br />
Linsenoberflächen.<br />
Technische Daten UV - Brenner:<br />
Edelstahl / Aluminium - Rezipient, BxHxT 600mm x 800mm x 580mm<br />
Rechteckige Fronttür<br />
Drehantrieb für Substratteller<br />
Zeitvorgabe einstellbar<br />
Lichtdichte Konstruktion<br />
Überwachung der Ozonabsaugung<br />
ist integriert<br />
Auf Wunsch als Tischversion lieferbar<br />
Rezipientenleuchte<br />
Beschreibung<br />
Dient zum Ausleuchten Ihres Rezipienten während des Beschichtens<br />
oder Abpumpens.<br />
Material: Edelstahl, Glas, Keramik<br />
Spannung: 24V DC<br />
Leistung: 20W<br />
mit Hochvakuumdurchführung<br />
optional steckbare Ausführung<br />
Sichtfenster, Bullauge mit Schutzklappe<br />
Beschreibung<br />
Von der Firma entwickeltes Sichtfenstersystem.<br />
Das Sichtfenster verhindert während des Prozesses mittels einer<br />
Schutzklappe ein Verschmutzen des Sichtfensters.<br />
34<br />
Abbildung 52 UV-Brenner<br />
Abbildung 53 Rezipientenleuchte<br />
Abbildung 54 Sichtfenster
Ansprechpartner<br />
Ralf Steigmajer<br />
Telefon: 0 73 24 96 35 - 22<br />
Fax: 0 73 24 96 35 - 30<br />
E- Mail: steigmajer@marquis-tech.de<br />
Matthias Brendle<br />
Dipl.-Ing.(FH) Vertrieb<br />
Telefon: 0 73 24 96 35 - 37<br />
Fax: 0 73 24 96 35 - 30<br />
E- Mail: brendle@marquis-tech.de<br />
36
Steuerung und Automatisierung sind die Grundlage für optimal laufende Prozesse.<br />
Wir sind darauf spezialisiert, Prozesse übersichtlich und sicher zu gestalten.<br />
Dabei konzentrieren wir uns auf die computertechnische Steuerung verschiedenster Anlagen.<br />
Wir passen sie den individuellen Anforderungen und Kundenwünschen exakt an. Flexibilität,<br />
Zuverlässigkeit und leichte Bedienbarkeit zeichnen unsere Steuerungs- und Automatisierungs-<br />
konzepte aus.<br />
Für Ihre Anlagen übernehmen wir zudem die gesamte mechanische und elektrische Konstruktion<br />
und stimmen sie auf die Steuerung ab.<br />
<strong>Marquis</strong><br />
Steuerungs- und Automatisierungstechnik<br />
Toräckerstraße 19<br />
89542 Herbrechtingen<br />
Telefon +49 (0)7324 9635-0<br />
Telefax +49 (0)7324 9635-30<br />
info@marquis-tech.de<br />
www.marquis-tech.de<br />
37<br />
Version 1.1
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