Entwicklung einer Nanotechnologie-Plattform für die ... - JuSER
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5 HERSTELLUNG VON CROSSBAR-STRUKTUREN<br />
200 nm breiten Pt-Leiterbahnen <strong>die</strong>nte als Basis.<br />
Widerstand [kOhm]<br />
4<br />
3<br />
2<br />
1<br />
0<br />
Standard-Prozess<br />
Peripherie Lift-Off<br />
1 2 3 4 5 6 7 8<br />
Elektrode<br />
Abbildung 5.14:<br />
Widerstandsmessungen<br />
an Pt Bottom-Elektroden,<br />
<strong>die</strong> zum einen in einem<br />
Standard-Prozess<br />
hergestellt wurden und<br />
zum anderen, alternativ<br />
dazu, mit einem<br />
Peripherie-Lift-Off-<br />
Prozess realisiert wurden.<br />
Alle Leitungen waren hierin funktionsfähig. Es stellte sich zudem heraus, dass <strong>die</strong><br />
Widerstandswerte der standardisierten Elektroden um ~ 400 Ω höher lagen als <strong>die</strong>, bei<br />
denen <strong>die</strong> alternative Zuleitung mit 50 nm Dicke nahezu <strong>die</strong> zweifache Höhe betrug.<br />
Der relativ geringe Widerstandsunterschied begründete sich anhand der lediglich<br />
partiell realisierten, alternativen Peripherie. Der Einfluss der Zuleitung <strong>einer</strong> Breite<br />
> 20 μm auf den Gesamtwiderstand ist demzufolge zwar nicht dominant, doch zeigt <strong>die</strong><br />
Widerstandsminderung um durchschnittlich 12 %, dass mittels alternativer Peripherie<br />
der Gesamtwiderstand der Elektrode tendenziell verkl<strong>einer</strong>t werden kann. Dies wäre<br />
beispielsweise <strong>für</strong> elektrische Messungen im hochfrequenten Bereich durchaus von<br />
Vorteil, da <strong>die</strong> RC-Zeiten der Leiterbahnen reduziert würden. Die erfolgreiche<br />
Herstellung der Zuleitungsperipherie zeigt folglich, neben der generellen<br />
Durchführbarkeit des Lift-Off-Verfahrens, <strong>die</strong> Möglichkeit der Leitungswiderstandsverringerung,<br />
welches gleichzeitig eine Steigerung der Leitungs-Performance bedeutet.<br />
Top-Elektroden und somit Crossbar-Arrays konnten mit <strong>die</strong>sem Verfahren im Rahmen<br />
<strong>die</strong>ser Arbeit nicht realisiert werden. Die Notwendigkeit eines neuen Maskendesigns,<br />
welches <strong>die</strong> erfolgreiche Durchführung eines Top-Imprints ausmachte, ging über den<br />
Rahmen des beschriebenen Versuchs hinaus. Es sollte an <strong>die</strong>ser Stelle <strong>die</strong> Machbarkeit<br />
des Verfahrens demonstriert werden.<br />
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