Entwicklung einer Nanotechnologie-Plattform für die ... - JuSER
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5 HERSTELLUNG VON CROSSBAR-STRUKTUREN<br />
der oben erwähnten Leitungslängenänderung im Array-Zentrum. Jene Leitungslänge<br />
fällt mit 10 μm (5 μm Toleranz an jeder Seite) deutlich auffälliger ins Gewicht. Dies<br />
kann an folgendem Zusammenhang abgeschätzt werden, bei der eine Serienschaltung<br />
aus drei Widerständen <strong>für</strong> <strong>die</strong> entsprechenden Leitersegmente angenommen wird:<br />
R<br />
R<br />
200nm<br />
100nm<br />
=<br />
l<br />
b<br />
l<br />
200nm<br />
b<br />
Align<br />
Align<br />
100nm<br />
l<br />
+<br />
b<br />
l<br />
+<br />
b<br />
Array<br />
200nm<br />
Array<br />
100nm<br />
l<br />
+<br />
b<br />
l<br />
+<br />
b<br />
Align<br />
200nm<br />
Align<br />
100nm<br />
⎛ 1 ⎞<br />
⎜ ⎟<br />
⋅ ⎜ κ ⋅ a ⎟ =<br />
⎜ 1 ⎟<br />
⎝ κ ⋅ a ⎠<br />
5μm<br />
+ 3μm<br />
+ 5μm<br />
200nm<br />
5μm<br />
+ 1,5μm<br />
+ 5μm<br />
100nm<br />
= 0,56<br />
wobei l Align den Leitungslängen entspricht, <strong>die</strong> <strong>für</strong> <strong>die</strong> Alignment-Toleranzen<br />
vorgesehen wurden, l Array den Leitungsabschnitt beschreibt, der sich im Array-Zentrum<br />
(Kreuzung von Bottom- und Top-Elektroden) befindet, und b der Leiterbreite<br />
entspricht.<br />
Das theoretische Widerstandsverhältnis (R 200nm /R 100nm = 0,56) der 200 nm Elektroden zu<br />
den 100 nm Elektroden zeigt hierin eine deutliche Verringerung des Widerstandswertes<br />
bei Verdopplung der Leiterbahnbreite (<strong>die</strong> Zuleitungsperipherie wurde dabei nicht<br />
berücksichtigt). Somit ist eine tendenzielle Abnahme des Leitungswiderstandes durch<br />
<strong>die</strong> Elektrodenverbreiterung (wie in Abbildung 5.11 a) <strong>für</strong> das vorliegende Elektroden-<br />
Layout nachzuvollziehen. Es sei jedoch zu berücksichtigen, dass Crossbar-Arrays ohne<br />
Zuleitungsperipherie und Alignment-Toleranzen gewiss andere Skalierungsverhalten<br />
aufweisen würden. Hier gewinnen fundamentale Gesetzmäßigkeiten, wie das Streuen<br />
der Elektronen an Metallkorngrenzen oder Leiterwänden, bei der Leiterbahnskalierung<br />
wesentlich an Bedeutung [121]. Wird <strong>die</strong> Elektrodenbreite bis in den sub-100 nm-<br />
Bereich verringert, so verringern jene Leitungsverluste <strong>die</strong> Leitfähigkeit der<br />
Nanoelektroden signifikant.<br />
Abbildung 5.11 b) zeigt das Ergebnis von Widerstandsmessungen einzelner Elektroden<br />
eines 8 bit Arrays mit 200 nm Elektroden. Es sind <strong>die</strong> Widerstände der 30 nm hohen Pt<br />
Bottom-Elektroden im Vergleich zu denen der 60 nm hohen Ag/Pt Top-Elektroden<br />
dargestellt. Dabei liegen <strong>die</strong> Widerstandswerte der Bottom-Elektroden mit ~ 3,3 kΩ<br />
deutlich höher als <strong>die</strong> der Top-Elektroden mit ~ 0,6 kΩ. Dies ist sowohl dadurch<br />
bedingt, dass <strong>die</strong> Top-Elektroden höher sind, als auch, dass Ag eine höhere<br />
Leitfähigkeit als Pt besitzt.<br />
Ferner sind geringe Schwankungen der Widerstandswerte auffällig. Diese lassen sich<br />
auf <strong>die</strong> Zuleitung der Arrays zurückführen, welche aufgrund des Layouts<br />
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