Entwicklung einer Nanotechnologie-Plattform für die ... - JuSER
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5 HERSTELLUNG VON CROSSBAR-STRUKTUREN<br />
Memory-Funktion konnte <strong>die</strong> Position des Mikroskops über den Markern gespeichert<br />
werden. Der erste Justage-Schritt bestand zunächst darin, M S und M W grob<br />
übereinander zu legen. Dabei wurde der Substrat-Wafer mit Hilfe des positionierbaren<br />
Probenhalters ausgerichtet, wohingegen der Stempel stets fixiert blieb. Die Position des<br />
Probenhalters konnte dabei über Mikrometerschrauben in X-Y-Richtung variiert<br />
werden. Ferner konnte eine Winkelkorrektur, bei <strong>einer</strong> Verdrehung von M W und M S<br />
zueinander, vorgenommen werden.<br />
Während der Feinjustage, durch welche <strong>die</strong> maximale Alignment-Präzision erzielt<br />
werden sollte, wurden abwechselnd <strong>die</strong> Marker in der Wafermitte und <strong>die</strong> Marker,<br />
welche außen positioniert waren, mit dem Mikroskop angefahren. Dabei wurde stets im<br />
Zentrum <strong>die</strong> X-Y-Korrektur und auf dem Waferrand <strong>die</strong> Winkelkorrektur alternierend<br />
durchgeführt, bis <strong>die</strong> Alignment-Marker (im Rahmen der erreichbaren Genauigkeit)<br />
korrekt aufeinander lagen.<br />
Nach der Ausrichtung wurde der Substratwafer in Kontakt mit dem Stempel gebracht.<br />
Der niedrig viskose UV-Lack, welcher zuvor <strong>für</strong> den anschließenden Imprint<br />
aufgebracht wurde, sorgte da<strong>für</strong>, dass sich der Stempel auf dem Wafer ansaugte.<br />
Dadurch war eine Haftung des Stempels auf dem Wafer auch während des Transports<br />
zur Imprint-Anlage gewährleistet. Es wurden keine Einflüsse der Handhabung während<br />
des Probentransfers auf <strong>die</strong> Güte des Alignments festgestellt. Die justierten Wafer<br />
konnten auch durch vorsätzliche, mechanische Einflüsse nicht (sichtbar) gegeneinander<br />
verschoben werden.<br />
Die Marker, welche <strong>für</strong> das Ausrichten verwendet wurden, bestanden aus zwei<br />
unterschiedlichen Strukturen. Es waren sowohl Kreuzstrukturen <strong>für</strong> <strong>die</strong> grobe Justage<br />
als auch kreisförmige Moiré-Strukturen <strong>für</strong> das feine Alignment auf Substrat und Maske<br />
vorgesehen. Die Moiré-Strukturen <strong>die</strong>nten dabei der Präzisionssteigerung der<br />
Ausrichtung durch optische Interferenz-Effekte. Abbildung 5.6 zeigt das Design beider<br />
Markertypen.<br />
Das Stempellayout wurde derart designed, dass bei <strong>einer</strong> 180°-Rotation des Stempels<br />
um dessen Mittelpunkt orthogonal ausgerichtete Elektroden-Arrays entstanden. Die eine<br />
Hälfte des Stempelwafers beinhaltete dementsprechend vertikale, <strong>die</strong> andere horizontale<br />
Elektrodenstrukturen. Ferner wurden Alignment-Markerpaare entworfen, welche bei<br />
<strong>einer</strong> 180°-Rotation des Layouts übereinander lagen. In Abbildung 5.6 a) und b) sind<br />
<strong>die</strong> beiden unterschiedlichen Kreuzstrukturen <strong>für</strong> <strong>die</strong> Grobjustage dargestellt, welche<br />
aufeinander positioniert wurden. Sowohl <strong>die</strong> quadratische Umrandung (Breite: 160 μm<br />
bzw. 180 μm) als auch <strong>die</strong> zentrale Kreuzstruktur (Kreuzzentrum: 2 μm) wurden<br />
unterschiedlich dimensioniert, sodass durch <strong>die</strong> Überlagerung beider Designs<br />
Überlappungseffekte entstanden, welche mit Hilfe des optischen Mikroskops<br />
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