Entwicklung einer Nanotechnologie-Plattform für die ... - JuSER
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4 DIE HERSTELLUNGSTECHNOLOGIEN<br />
den Strukturgräben freiliegt (Abbildung 4.27 b). Anschließend kann der PMMAbasierte<br />
Underlayer (NXR-3020) in einem O 2 -Prozess bis auf das Substrat durchgeätzt<br />
werden (Abbildung 4.27 c). Dabei beträgt <strong>die</strong> Selektivität des UV-Lacks gegenüber dem<br />
Underlayer-Lack in einem Sauerstoffprozess ~ 11, wodurch der NXR-2010 als<br />
Ätzmaske während der Strukturierung des NXR-3020 <strong>die</strong>nt [118].<br />
UV-Lack<br />
Underlayer-Lack<br />
Underlayer-Lack<br />
Substrat<br />
250 nm<br />
Substrat<br />
250 nm<br />
a)<br />
b)<br />
Substrat<br />
c)<br />
Lack<br />
250 nm<br />
Abbildung 4.27:<br />
Zweilagen-Lackstrukturierung:<br />
a) Zweilagen-Lacksystem nach dem<br />
Aufschleudern,<br />
b) Entfernen des Rsidual-Layers des<br />
Top-Lacks (hier NXR-2010) in einem<br />
CF 4 -Prozess,<br />
c) Strukturieren des PMMA-basierten<br />
Underlayer-Lacks (hier NXR-3020) in<br />
einem O 2 -Plasma-Prozess.<br />
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