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Entwicklung einer Nanotechnologie-Plattform für die ... - JuSER

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4 DIE HERSTELLUNGSTECHNOLOGIEN<br />

Die NX-2000 wird über einen PC gesteuert, wobei <strong>die</strong> Be<strong>die</strong>nungsoberfläche auf der<br />

Programmierungs-Software „Labview“ basiert [104]. Hier können Parameter wie<br />

Imprint-Zeit, -Druck, und -Temperatur gewählt werden. Diese Parameter müssen stets<br />

den gegebenen Umständen, wie der Lackdicke, -viskosität oder Stempeltiefe, angepasst<br />

werden. Die Dosis, welche der vollständigen Härtung der UV-Lacke <strong>die</strong>nt, wird über<br />

<strong>die</strong> Belichtungszeit während des Imprints festgelegt. Für thermische Prozesse kann <strong>die</strong><br />

Belüftungstemperatur gewählt werden, welche stets unterhalb der Glasübergangstemperatur<br />

der verwendeten Polymere liegen muss, damit sich <strong>die</strong>se während der<br />

Druckverringerung in fester Form befinden (vergleiche Abbildung 2.1 c). Ferner wird<br />

über <strong>die</strong> NX-2000 Software <strong>die</strong> Evakuierungszeit vor dem Druckluftprozess bestimmt.<br />

Diese sollte bei wenig viskosen UV-Lacken jedoch nicht zu lang gewählt werden, da<br />

sich durch deren gute Fließfähigkeit unerwünschte Verformungen ergeben können. Der<br />

Standardwert <strong>für</strong> UV-NIL-Prozesse wurde mit 20 s empirisch ermittelt.<br />

Die Druck- und Temperaturverläufe während eines Prozesses können im Desktopfenster<br />

in-situ abgelesen werden. Abbildung 4.4 zeigt einen typischen Verlauf der Druck und<br />

Temperaturparameter während eines UV-Imprint-Prozesses.<br />

550<br />

450<br />

Imprint<br />

Zylinder<br />

Druck [psi]<br />

350<br />

250<br />

150<br />

Temperatur [°C]<br />

50<br />

-50<br />

45<br />

35<br />

25<br />

15<br />

5<br />

0 500 1000 1500 2000<br />

Temperatur<br />

Belichtung<br />

0 500 1000Zeit<br />

1500 2000<br />

Abbildung 4.4: Druck- und Temperaturverlauf während eines UV-Nanoimprint-Prozesses.<br />

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