Entwicklung einer Nanotechnologie-Plattform für die ... - JuSER
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4 DIE HERSTELLUNGSTECHNOLOGIEN<br />
Die NX-2000 wird über einen PC gesteuert, wobei <strong>die</strong> Be<strong>die</strong>nungsoberfläche auf der<br />
Programmierungs-Software „Labview“ basiert [104]. Hier können Parameter wie<br />
Imprint-Zeit, -Druck, und -Temperatur gewählt werden. Diese Parameter müssen stets<br />
den gegebenen Umständen, wie der Lackdicke, -viskosität oder Stempeltiefe, angepasst<br />
werden. Die Dosis, welche der vollständigen Härtung der UV-Lacke <strong>die</strong>nt, wird über<br />
<strong>die</strong> Belichtungszeit während des Imprints festgelegt. Für thermische Prozesse kann <strong>die</strong><br />
Belüftungstemperatur gewählt werden, welche stets unterhalb der Glasübergangstemperatur<br />
der verwendeten Polymere liegen muss, damit sich <strong>die</strong>se während der<br />
Druckverringerung in fester Form befinden (vergleiche Abbildung 2.1 c). Ferner wird<br />
über <strong>die</strong> NX-2000 Software <strong>die</strong> Evakuierungszeit vor dem Druckluftprozess bestimmt.<br />
Diese sollte bei wenig viskosen UV-Lacken jedoch nicht zu lang gewählt werden, da<br />
sich durch deren gute Fließfähigkeit unerwünschte Verformungen ergeben können. Der<br />
Standardwert <strong>für</strong> UV-NIL-Prozesse wurde mit 20 s empirisch ermittelt.<br />
Die Druck- und Temperaturverläufe während eines Prozesses können im Desktopfenster<br />
in-situ abgelesen werden. Abbildung 4.4 zeigt einen typischen Verlauf der Druck und<br />
Temperaturparameter während eines UV-Imprint-Prozesses.<br />
550<br />
450<br />
Imprint<br />
Zylinder<br />
Druck [psi]<br />
350<br />
250<br />
150<br />
Temperatur [°C]<br />
50<br />
-50<br />
45<br />
35<br />
25<br />
15<br />
5<br />
0 500 1000 1500 2000<br />
Temperatur<br />
Belichtung<br />
0 500 1000Zeit<br />
1500 2000<br />
Abbildung 4.4: Druck- und Temperaturverlauf während eines UV-Nanoimprint-Prozesses.<br />
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