Entwicklung einer Nanotechnologie-Plattform für die ... - JuSER

4 DIE HERSTELLUNGSTECHNOLOGIEN
großflächig strukturiert.
Die in dieser Arbeit verwendete Nanoimprint-Anlage NX-2000 von Nanonex arbeitet
mit dem Air-Cushion (Luftkissen) Prinzip [103]. Hier werden durch Druckluft von bis
zu 40 bar Wafer und Stempel ganzflächig gegeneinander gepresst. Die Anlage kann
sowohl für den thermischen Imprint als auch für den UV-Imprint und einer maximalen
Wafergröße von 100 mm eingesetzt werden.
Abbildung 4.1:
Nanoimprint-Anlage
NX2000, Wafer und
Stempel werden in
einer Schublade
zwischen zwei Folien
gelegt. Die
Schublade wird in
die Prozesskammer
geschoben
Beim Imprint-Prozess werden Wafer und Stempel aufeinander positioniert und auf eine
Folie in der Transferschublade gelegt (siehe Abbildung 4.1). Anschließend wird eine
zweite Folie von oben auf den Probenstapel gebracht, sodass die Wafer zwischen zwei
Folien auf der Schublade in die Prozesskammer geschoben werden. Innerhalb der
Anlage wird nun die Prozesskammer geschlossen, in welcher der Druckaufbau für den
Imprint-Prozess realisiert wird. Um die verbleibende Luft zwischen Stempel und Wafer
zu entfernen, wird die Kammer evakuiert (Abbildung 4.2 a). Durch das Entweichen der
Atmosphäre innerhalb der Folien werden Stempel und Wafer aufeinander gezogen und
Luft, die sich unter anderem in den Kavitäten des Stempels befindet, entweicht. Sind die
Folien evakuiert, kann die Prozesskammer mit Druckluft geflutet werden, um Stempel
und Wafer gegeneinander zu pressen (Abbildung 4.2 b). Durch das Aufeinanderpressen
füllen sich die Kavitäten des Stempels vollständig mit Lack und die Restatmosphäre
innerhalb dieser entweicht vollständig.
Der große Vorteil einer Druckluftpresse besteht in der sehr homogenen Druckverteilung
während des Imprint-Prozesses. Abbildung 4.3 zeigt einen Vergleich der Ergebnisse,
wie sie mit einem einfachen Parallelplattenprozess (a) und einem Druckluftprozess (b)
auf einem 100 mm-Wafer erzielt worden sind. Deutlich ist hier die Verbesserung der
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