Entwicklung einer Nanotechnologie-Plattform für die ... - JuSER
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M w : Molekulargewicht<br />
NIL : Nanoimprint-Lithographie<br />
PCRAM : Phase Change Random Access Memory<br />
PMMA : Polymethylmethacrylat - C 5 H 8 O 2 (thermoplastischer Kunststoff)<br />
P RF<br />
R Elektrode<br />
: RF-Power der Ionenquelle<br />
PS : Polystyrol - C 8 H 8<br />
: Leitungswiderstand<br />
REM : Rasterelektronenmikroskop<br />
RESET : Ausschalten: 1 → 0<br />
RIBE : Reactive Ion Beam Etching<br />
RIE : Reactive Ion Etching<br />
R OFF : OFF-Widerstand (hochohmig)<br />
R ON<br />
: ON-Widerstand (niederohmig)<br />
rpm : Rounds per Minute (Drehzahl)<br />
rpm/s : Rounds per Minute per Second (Beschleunigung)<br />
RRAM : Resistive Random Access Memory<br />
sccm : Standard Cubic Centimeter per Minute<br />
SET : Einschalten: 0 → 1<br />
SFIL : Step and Flash Imprint Lithography<br />
T g : Glasübergangstemperatur<br />
TOF-SIMS : Time of Flight - Secondary Ion Mass Spectroscopy<br />
U A<br />
U B<br />
U ext<br />
: Acceleration Voltage<br />
: Beam Voltage<br />
: Extraction Voltage der Ionen aus der Quelle<br />
UV-NIL : Ultra Violet Nanoimprint-Lithographie<br />
XRR : X-Ray Reflektion<br />
γ : Energieaustausch<br />
κ : Leitfähigkeit<br />
κ : Elektrische Leitfähigkeit<br />
λ : Wellenlänge<br />
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