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Application Manual Power Semiconductors - Deutsche ... - Semikron

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2 Grundlagen<br />

Baseplate<br />

Module<br />

a)<br />

pressure<br />

pressure<br />

Baseplate<br />

Thermal<br />

Compound<br />

Heatsink<br />

Module<br />

pressure<br />

b)<br />

DCB-Substrate<br />

Thermal<br />

Compound (Thin!)<br />

Heatsink<br />

DCB<br />

c)<br />

Bild 2.5.18 Auflageproblem von Leistungsmodulen auf dem Kühlkörper<br />

a) Modul mit Bodenplatte vor Montage (Bodenplatte konvex vorgespannt)<br />

b) Modul mit Bodenplatte nach Montage (stark übertriebene Darstellung!)<br />

c) DCB-Modul ohne Bodenplatte (z.B. SEMITOP, SKiiP, MiniSKiiP)<br />

Den höchsten Anteil am inneren thermischen Widerstand besitzt die Modulisolation. Eine externe<br />

Isolation mittels Folien o.Ä. als Alternativlösung wäre jedoch noch wesentlich schlechter. Gegenüber<br />

dem heute standardmäßig eingesetzten Al 2<br />

O 3<br />

mit 96 %iger Reinheit (Wärmeleitfähigkeit<br />

l = 24 W/m*K) sind Verbesserungen hier z.B. durch hochreines Al 2<br />

O 3<br />

(l = 28 W/m*K) oder Aluminiumnitrid<br />

(AlN, l = 180…200 W/m*K) erreichbar. Durch die deutlich höhere Wärmeleitfähigkeit<br />

von AlN ist der thermische Widerstand der Module deutlich geringer, die zulässigen Stromstärken<br />

daher höher. Allerdings sind die Kosten ebenfalls höher. Dem Einsatz von besser wärmeleitenden<br />

Materialien stehen oft Kostengründe entgegen. Deshalb wird das AlN vor allem für Module mit hohen<br />

Isolationsspannungen (dickere Isolierkeramik) eingesetzt, da hier erhöhte Isolationsfestigkeit<br />

und Wärmeleitfähigkeit gleichzeitig ausgenutzt werden können.<br />

Ein paar Prozent zum thermischen Widerstand tragen die Lotverbindungen Chip-Substrat und<br />

(wenn vorhanden) Substrat-Bodenplatte bei. Ein Verzicht auf die Bodenplatte oder der Ersatz<br />

dieser Schichten durch eine dünnere und thermisch besser leitfähige Silber-Sinterschicht kann<br />

diesen Anteil noch halbieren. Der Anteil der metallischen Substratflächen hängt wesentlich von<br />

der Strukturierung der oberen Kupferfläche ab, die als Chipträger und modulinternes, elektrisches<br />

Verbindungssystem genutzt wird. Während der Wärmefluss in der kühlkörperseitigen Cu-Substratschicht<br />

lateral praktisch ungehindert erfolgen kann, begrenzen die geometrischen Abmessungen<br />

der Kupferflächen unter den Chips die Wärmespreizung. So wurde in [37] ermittelt, dass für einen<br />

42mm² Chip auf einer Al 2<br />

O 3<br />

-DCB-Keramik der R th(j-c)<br />

um etwa 15 % steigt, wenn die Kupferfläche<br />

gleich der Chipfläche ist im Vergleich zu einem Fall mit ungestörter Wärmespreizung.<br />

Der Anteil der Siliziumchips am thermischen Widerstand nimmt mit der Chipdicke zu, die durch<br />

Vorwärtssperrspannung und Chiptechnologie vorgegeben ist. Weiterhin bestimmt die Größe der<br />

Chipflächen die Wärmedurchtrittsflächen zwischen Chip und Bodenplatte bzw. Kühlkörper.<br />

Chipgrößen-Effekte<br />

Gemäß der Gleichung für den thermischen Widerstand müsste der R th<br />

linear umgekehrt proportional<br />

zur Fläche sinken. Im realen Aufbau wird über das Anwachsen des Verhältnisses Chipfläche/<br />

Chipumfang die relative Temperaturspreizung geringer. Teilt man einen 9 mm x 9 mm großen Chip<br />

in 9 Segmente, hat das innere Segment mit 3 mm x 3 mm Kantenlänge keinen Raum zur Wärmespreizung.<br />

Dieser Effekt führt zu der in Bild 2.5.19 dargestellten Abhängigkeit des thermischen<br />

Widerstandes R th(j-c)<br />

von der Chipfläche A Chip<br />

.<br />

87

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