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Application Manual Power Semiconductors - Deutsche ... - Semikron

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2 Grundlagen<br />

Das Schaltungsprinzip der Kaskodeschaltung von Niedervolt-MOSFET und Hochvolt-Bipolartransistor<br />

wurde bereits in den 80er Jahren mit Einzelbauelementen oder hybrid integrierten<br />

Anordnungen genutzt: Der MOSFET ist im Emitterkreis des Bipolartransistors angeordnet (Reihenschaltung).<br />

Im EIN-Zustand sind Bipolartransistor und MOSFET durchgesteuert. Die Durchlassspannung<br />

des ESBT ist die Summe der Durchlassspannungen von Hochvolt-Bipolartransistor<br />

und Niedervolt-MOSFET.<br />

Die Ansteuerung des ESBT erfolgt über das Gate des MOSFET, die Basis des Bipolartransistors<br />

ist permanent über Widerstände mit einer Spannungsquelle verbunden. Beim Ausschalten öffnet<br />

der MOSFET den Emitterkreis des Bipolartransistors, der Kollektorstrom fließt während des Ausschaltens<br />

über die Basis auf die Treiber-Spannungsquelle, bis alle Ladungsträger im Bipolartransistor<br />

abgeführt oder rekombiniert sind und der Kollektorstrom erlischt. Da der Emitter während<br />

des Ausschaltens durch den MOSFET abgetrennt ist, besteht die Gefahr des 2. Durchbruchs der<br />

Bipolarstruktur nicht, die Grenzen des RBSOA (vgl. Kap. 3.3.4) erweitern sich gegenüber dem<br />

regulären Schalten durch Basisstrom, das Ausschalten ist bis zum Grenzwert V CB0<br />

der Kollektor-<br />

Basis-Diode möglich. Die Steuerung über das MOSFET-Gate ermöglicht eine vergleichsweise<br />

geringe Treiberleistung.<br />

2.4.3 Leistungs-MOSFET<br />

Während sich bei MOSFET für kleine Spannungen der Einschaltwiderstand R DS(on)<br />

mit Anteilen<br />

zwischen etwa 5 % und 30 % aus den Einzelwiderständen der Zellbestandteile zusammensetzt,<br />

entfielen noch vor einigen Jahren z.B. bei höher sperrenden MOSFET weit über 90 % des R DS(on)<br />

auf den Widerstand des n - -Epitaxiegebietes. Für die Abhängigkeit des R DS(on)<br />

von der Durchbruchspannung<br />

V (BR)DSS<br />

eines Leistungs-MOSFET galt die Beziehung<br />

R<br />

2,4...2,6<br />

DS(on)<br />

k V (BR)DSS<br />

mit k: Materialkonstante, z.B. k 8,3 10<br />

-9 A -1 für 1 cm 2 Chipfläche<br />

d.h. die Durchlassspannung<br />

VDS(on)<br />

ID<br />

R<br />

mit I<br />

DS(on)<br />

D<br />

: Drainstrom<br />

war für Transistoren ab etwa 400 V Sperrspannung deutlich höher als die eines vergleichbaren<br />

IGBT.<br />

Mit der Anwendung des Kompensationsprinzips in neuen MOSFET-Konzepten ab 1999 (Superjunction-MOSFET,<br />

vgl. Kap. 2.4.3.3) konnte die Kopplung der Sperrspannung an die Dotierung<br />

der n - -Zone aufgehoben und somit deren Widerstand drastisch gesenkt werden. Nach [25] gilt für<br />

solche Leistungs-MOSFET inzwischen mit<br />

R<br />

1,3<br />

DS(on)<br />

k V (BR)DSS<br />

eine wesentlich geringere Abhängigkeit der Durchlassspannung von der Sperrspannung.<br />

Für die praktische Anwendung des MOSFET ist dessen rein ohmsche Ausgangskennlinie ohne die<br />

Schleusenspannung bipolarer Bauelemente vorteilhaft. Der wesentliche Vorteil des unipolaren<br />

MOSFET gegenüber bipolaren Bauelementen besteht jedoch darin, dass die für den Ladungstransport<br />

ausschließlich zuständigen Majoritätsträger im Schaltbetrieb keine Speichereffekte verursachen,<br />

es sind sehr kurze Schaltzeiten erreichbar.<br />

In der Praxis werden die Eigenschaften der Leistungs-MOSFET nachhaltig von den parasitären<br />

Elementen in der realen Struktur beeinflusst. Zum Verständnis der realen Eigenschaften und möglicher<br />

Ausfallmechanismen ist deshalb ein Blick auf dessen prinzipielles Ersatzschaltbild (Bild<br />

2.4.16) unerlässlich.<br />

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