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Application Manual Power Semiconductors - Deutsche ... - Semikron

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2 Grundlagen<br />

Z th(j-c) [K/W]<br />

1<br />

56 mm² 81 mm² 121 mm²<br />

0.1<br />

0.01<br />

0.001<br />

0.0001<br />

1.00E-05 1.00E-04 1.00E-03 1.00E-02 1.00E-01 1.00E+00 1.00E+01<br />

t [s]<br />

Bild 2.5.22 Zeitlicher Verlauf der thermischen Impedanzen Z th(j-c)<br />

eines Moduls mit Al 2<br />

O 3<br />

-DCB-Substrat für<br />

verschiedene Chipflächen [37]<br />

Bei gegebenem Modulaufbau sind die Z th<br />

-Kurven für unterschiedliche Chipflächen ineinander verschiebbar,<br />

d.h. in Abhängigkeit von der Chipfläche ändern sich die Absolutwerte, jedoch nicht<br />

die Zeitkonstanten der Exponentialfunktionen. Die thermischen Impedanzen für unterschiedliche<br />

Chipflächen können demnach wie auch die thermischen Widerstände für einen gegebenen Aufbau<br />

mit nachfolgender Beziehung berechnet werden:<br />

Rth( jc)2<br />

Zth( jc)2<br />

Zth( jc)1<br />

<br />

R<br />

th( jc)1<br />

Die thermischen Impedanzen von Modulen mit und ohne Bodenplatte sind zunächst ähnlich,<br />

solange sich die Erwärmung noch im Chip und DCB Substrat abspielt (Bild 2.5.23). Für Zeiten<br />

> 100 ms unterscheiden sich beide im Zeitverlauf. Während das Bodenplattenmodul im Zeitbereich<br />

bis 1…2 s aufgrund der Wärmespeicherfähigkeit der Kupferplatte thermische Vorteile besitzt,<br />

hat das bodenplattenlose Modul für größere Zeiten aufgrund des geringeren R th<br />

Vorteile.<br />

0.1<br />

0.09<br />

R [K/W]<br />

th(j-s)<br />

0.08<br />

0.07<br />

0.06<br />

0.05<br />

0.04<br />

SEMiX<br />

SKiiP<br />

0.03<br />

0.02<br />

0.01<br />

0<br />

0.001 0.01 0.1<br />

t [s]<br />

1 10 100<br />

Bild 2.5.23 Vergleich der thermischen Impedanzen eines 600 A/1200 V Moduls mit Bodenplatten (SEMiX4)<br />

und ohne Bodenplatte (SKiiP4); Referenzpunkt: Bohrung im Kühlkörper 2 mm unter der Oberfläche<br />

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