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PURE LABWATER GUIDE

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Induktiv gekoppelte Plasma-<br />

Atomemissionsspektrometrie<br />

(ICP-AES)<br />

Die Empfindlichkeit für die<br />

verschiedenen Elemente weist klare<br />

Unterschiede auf, jedoch haben Metalle,<br />

Halbmetalle, Phosphor und Schwefel<br />

Nachweisgrenzen im ppb-Bereich (μg/l).<br />

Die Anforderungen an die Wasserreinheit<br />

für ICP-AES-Anwendungen sind daher<br />

sehr hoch. Vorzugsweise ist ein<br />

Reinstwassersystem des Typs I<br />

(„Polisher“) zu empfehlen, das einen<br />

spezifischen Widerstand von >18 MΩ-cm<br />

erzielt. Die TOC-Anforderungen sind jedoch<br />

im Allgemeinen nicht relevant, daher<br />

kann zur Vorbehandlung Umkehrosmoseoder<br />

Ionenaustauschtechnologie<br />

eingesetzt werden.<br />

Induktiv gekoppelte<br />

Plasmamassenspektrometrie<br />

(ICP-MS)<br />

Die Fortschritte bei der Entwicklung<br />

moderner Analysegeräte haben zu stetig<br />

steigenden Empfindlichkeiten bei der<br />

Spurenmetallanalyse geführt. Diese<br />

Elemente werden jetzt mit Techniken wie<br />

ICP-MS im ppt-Bereich und darunter<br />

gemessen. Analysen im Spurenbereich<br />

erfordern Wasser, das frei von den zu<br />

messenden Komponenten ist, und die<br />

Anforderungen an die Reinheit des<br />

Wassers für die empfindlichsten<br />

ICP-MS-Arbeiten sind ebenfalls extrem<br />

hoch. Für die Vorbereitung qualitativ<br />

hochwertiger Reagenzien zur<br />

Blindprobenanalyse, für<br />

Standardverdünnungen und<br />

Probenvorbereitungen werden in der<br />

Regel Reinräume bevorzugt. Bei dem<br />

spezifizierten Wassersystem sollte es<br />

sich um ein speziell entwickeltes System<br />

für Wasser des Typs I handeln.<br />

Es sollte eine mehrstufige Überwachung<br />

(siehe PureSure-Diagramm auf<br />

Seite 10) vorgesehen werden, mit der<br />

diese Reinheitsgrade garantiert sind.<br />

Eine optimale Leistung wird bei<br />

verstärkter Vorbehandlung durch ein<br />

rezirkulierendes System des Typs II erzielt.<br />

Photometrie<br />

Für photometrische Anwendungen<br />

wird mindestens aufbereitetes Wasser<br />

des Typs II mit einem geringen Gehalt<br />

an anorganischen, organischen<br />

und kolloidalen Verunreinigungen<br />

empfohlen. Das Wasser weist in der<br />

Regel einen spezifischen Widerstand von<br />

>1 MΩ-cm auf und wurde mikrofiltriert.<br />

Ein geringer TOC-Gehalt (

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