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Die im Rahmen dieser Arbeit durchgeführten Untersuchungen dienen der Aufgabe,
eine haftfeste Entspiegelung auf Polycarbonat zu realisieren und diese Entspiegelung
mit einem UV-Schutz auszurüsten, der die Anwendung der resultierenden beschichteten
optischen Komponente unter natürlicher Sonneneinstrahlung ohne Qualitätsverlust
hinsichtlich der optischen Transmission und des unter UV-Exposition eintretenden
Haftungsversagens der Beschichtung ermöglicht.
Optische Interferenzschichtsysteme bestehen aus vielen Schichten mit Einzeldicken im
nm-Bereich. Sie werden mit einer hohen Präzision der Schichtdicken und der optischen
Eigenschaften der Materialien mittels Plasma-IAD-Verfahren im Hochvakuum auf das
Polycarbonat aufgedampft. Die Auswirkungen dieses Plasmaprozesses haben allerdings
im speziellen Fall des Polycarbonats unerwünschte Nebenwirkungen auf die Haftung
der aufgedampften Schichten.
So konnte an allen in dieser Arbeit untersuchten Schichtsubstanzen (SiO 2 , TiO 2 , Nb 2 O 5 ,
Ta 2 O 5 , ZrO 2 ) gezeigt werden, dass die Schichthaftung der mittels Elektronenstrahl-
Verdampfer gefertigten Schichten auf Polycarbonat umso schlechter wird, je stärker die
Plasmastützung im Beschichtungsprozess eingesetzt wird. Entscheidend für die Auswirkungen
des untersuchten Parameterfeldes der Prozessgrößen ist dabei nicht die
Stärke der Plasmastützung allein, sondern auch ihr Zusammenwirken mit der Beschichtungsrate.
Diese beiden Größen bestimmen den Energieeintrag je Teilchen der
Schichtsubstanz und sind verantwortlich für die erreichte Packungsdichte der Schichten.
Eine starke Verdichtung der Schichten durch den Einsatz einer hohen Plasmaenergie
führt zu Haftversagen auf Polycarbonat, wie in dieser Arbeit deutlich belegt
werden konnte.
Des Weiteren konnte gezeigt werden, dass sich eine lange Argonplasma-Vorbehandlung
negativ auf die Haftung nachfolgend aufgedampfter Referenzschichten auswirkt.
Im Gegensatz dazu erzielte eine lange Plasmabehandlung unter Sauerstoffzufuhr eine
deutliche Haftverbesserung für hoch verdichtetes TiO 2 – eine Referenzschicht mit normalerweise
sehr schlechter Haftung auf PC. Diese nach der langen Argon-Sauerstoff-
Plasmavorbehandlung aufgedampften TiO 2 -Schichten blieben auch nach den Standard-
Klimatests gemäß DIN ISO 9022-2 sehr gut haftfest. Diese Plasmabehandlung bewirkt
einen Materialabtrag an der PC-Oberfläche und geht mit einer deutlichen Erhöhung
der Oberflächenrauheit sowie einer um ca. 1% verringerten Reflexion einher.
Mit Hilfe der Analyseverfahren XPS und TOF-SIMS wurden die Ursachen der Haftungsunterschiede
nach Plasmavorbehandlungen mit und ohne Sauerstoff untersucht. An
den Trennstellen enthafteter Schichten fanden sich deutliche Anzeichen von Kettenbrüchen,
und zwar sowohl nach einer Argonplasma-Behandlung als auch nach einer
Argon-Sauerstoff-Plasmabehandlung. An der Substratstelle des Polycarbonats, von der
die schlecht haftenden Schichten abgezogen wurden, fanden sich in allen Fällen Strukturen,
die denen von unbeschädigtem Polycarbonat entsprechen. Es wurde keine
Trennstelle gefunden, an der sich das Schichtmaterial vom Substrat getrennt hätte. Die
Trennung erfolgte immer zwischen geschädigtem und ungeschädigtem Polycarbonat.
Dieses Ergebnis lässt sich hinsichtlich der Ursache von Haftversagen an Schichten im
Zusammenhang mit dem Plasma-Prozess dahingehend interpretieren, dass das Ionenbombardement
und/oder kurzwellige Strahlung aus dem Plasma zu Kettenbrüchen an
der Polycarbonatoberfläche führen können. Diese weak boundary layers verhindern
eine haftfeste Anbindung von Schichten. Ein wichtiges Ergebnis ist in diesem Zusam-

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menhang, dass eine poröse SiO 2 -Schicht bei nachfolgender Plasmabehandlung (also
einer UV-Bestrahlung unter Vakuumbedingungen) kein Haftungsversagen entwickelt
und damit als Schutz für die Grenzfläche während des weiteren Aufdampfprozesses
optischer Systeme auf PC ausreicht.
Für die haftfeste Anbindung der Beschichtungssysteme ist es demnach wichtig, die Diffusion
in der Grenzfläche zu ermöglichen und die Polymeroberfläche bereits im Prozess
vor dem Einfluss der energiereichen Plasmaionen zu schützen. Dies ist unabhängig von
einem innerhalb der Additivausrüstung des Polycarbonats vorhandenen UV-Stabilisator,
dessen An- oder Abwesenheit innerhalb dieser Arbeit keinerlei Auswirkungen auf die
Schichthaftung zeigte.
Die Untersuchungen zur Haftfestigkeit der Schichtsubstanzen auf Polycarbonat führen
zu der Schlussfolgerung, dass sich bei der Anbindung des Schichtmaterials an die Polycarbonatoberfläche
durch das Plasma-IAD-Verfahren vorrangig kovalente Bindungen
bilden. Zum einen sind die zur Enthaftung der schlecht haftenden Schichten benötigten
Abreißkräfte relativ hoch. Zum anderen befindet sich die Trennstelle dieses Schicht-
Substrat-Verbundes nicht zwischen Schicht und Substrat, sondern am Übergang zwischen
geschädigtem und unbeschädigtem Polycarbonat. Die Abreißkraft überwindet
demnach erst die herabgesetzte Bindung innerhalb der Polycarbonatmatrix nach deren
oberflächennaher Schädigung durch Kettenbruch-Prozesse. Dies sollte ein deutliches
Indiz dafür sein, dass sich zwischen Schicht und Substrat stärkere chemische Bindungen
befinden, die in ihrer Größenordnung folgerichtig denen einer intakten kovalenten Anbindung
entsprechen.
Zur Anbindung der Schichtsubstanzen kommen gemäß der Literatur sowohl direkte
Bindungen mit dem Polycarbonat in Frage als auch eine indirekte Anbindung über
adsorbierte Gase [48]. Das bedeutet am Beispiel der in dieser Arbeit untersuchten
Schichtsubstanzen SiO 2 und TiO 2 ein mögliches Vorhandensein folgender Bindungstypen:
Si – C bzw. Ti – C, Si – O – C bzw. Ti – O – C, von denen jedoch die zweite
aufgrund der hohen Reaktivität des Sauerstoffs und seiner reichlichen Verfügbarkeit im
Beschichtungsprozess wesentlich wahrscheinlicher ist.
Außerdem ermöglichen die Carboxylgruppen des Polycarbonats an dessen Oberfläche
die Ausbildung heteropolarer Bindungen mit Metallionen [70]. Auch eine Säure-Basen-
Interaktion zwischen der sauer wirkenden Carboxylgruppe und dem Beschichtungsmaterial
kommt für Polycarbonatoberflächen nach einer Argon-Plasmabehandlung in
Frage [53]. Des Weiteren besteht im speziellen Fall des SiO 2 die Möglichkeit, dass auch
Bindungen vom Typ Si-O-H vorhanden sind, da man ihnen haftungsvermittelnde
Wirkung zuschreibt und im Polycarbonat auf jeden Fall genügend chemisorbierte OH-
Gruppen vorhanden sind, die zur Bildung von Wasserstoffbrückenbindungen zur Verfügung
stehen.
Der UV-Schutz von Polycarbonat beinhaltet sowohl den Schutz vor Vergilbung des
Werkstoffes als auch den Schutz vor UV-bedingtem Haftversagen an vor der Exposition
sehr gut haftenden Schichten. Der UV-bedingte Haftungsverlust der Schichten wird
durch andere Strahlungswellenlängen ausgelöst als die Vergilbung des Polycarbonatsubstrates.
Offenbar sind alle Wellenlängen unterhalb von 400 nm an Luft und
wahrscheinlich im Zusammenhang mit der Luftfeuchtigkeit grundsätzlich in der Lage,
ein nachträgliches Haftversagen der Schichten auszulösen. Aufgrund ihrer spektralen
Absorption ist keine der untersuchten hochbrechenden Schichtsubstanzen in der Lage,
allein die Schutzwirkung gegen die UV-induzierte Haftungsschädigung der Schichten
auf Polycarbonat zu gewährleisten.
Deshalb wird als Alternative im Bereich der optischen Beschichtungen die Anwendung
eines Bandpass-Designs vorgeschlagen, welches durch eine Erhöhung der Reflexion im
kurzwelligen Bereich eine mangelnde Absorption ausgleicht.

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Folgende beispielhafte Spezifikation erfüllt die Aufgabenstellung dieser Arbeit:
Bandpassdesign mit Kantenlage 400 nm und ca. 850 nm
zwischen 340 nm und 400 nm: Reflexion > 95%
zwischen 400 und 850 nm: Reflexion < 1% (je Fläche)
niedrigbrechendes Material: SiO 2 , Rate ca. 1,2 nm/s, Bias-Spannung 80 V
hochbrechendes Material: TiO 2 , Rate ca. 0,25 nm/s, Bias-Spannung 80 V
Startschicht des Systems ist immer eine SiO 2 -Schicht
Um die Probleme der Schichthaftung auf Polycarbonat durch ein geeignetes Prüfverfahren
quantifizieren zu können, wurde der Tape-Tests am Gitterschnitt nach DIN EN ISO
2409 hinsichtlich seiner Reproduzierbarkeit verbessert. Ein im Rahmen dieser Arbeit
konstruiertes mechanisches Gerät realisiert den Klebebandabriss unter Ausschluss der
bisher vorhandenen subjektiven Einflüsse des Prüfers. Aufgrund der viskoelastischen
Eigenschaften der Klebebänder dient sie jedoch nur einem schnellen, praxisorientierten
Vergleich von Haftungseigenschaften.
Der Abgleich zu anerkannten Methoden der Adhäsionsprüfung gestaltet sich schwierig,
da zum einen die Kombination aus weichem Substrat und sprödharter Schicht eine
ungünstige Konstellation für alle Ritzverfahren ist und zum anderen die Oberflächen
der Oxidschichten einen klebetechnischen Problemfall darstellen, was der Anwendung
von Abreißverfahren entgegensteht.
Zur zukünftigen Anwendung beschichteten Polycarbonats, z.B. für Displayabdeckungen
im Automobilbereich, sind die in dieser Arbeit untersuchten Beschichtungen prinzipiell
geeignet. Unter Einhaltung der beschriebenen Prozessparameter und optischen Spezifikation
können haftfeste Anti-Reflex-Systeme mit integriertem UV-Schutz für die
Anwendung realisiert werden.