25.12.2013 Aufrufe

Adsorbat-modifiziertes Wachstum ultradünner Seltenerdoxid ... - E-LIB

Adsorbat-modifiziertes Wachstum ultradünner Seltenerdoxid ... - E-LIB

Adsorbat-modifiziertes Wachstum ultradünner Seltenerdoxid ... - E-LIB

MEHR ANZEIGEN
WENIGER ANZEIGEN

Erfolgreiche ePaper selbst erstellen

Machen Sie aus Ihren PDF Publikationen ein blätterbares Flipbook mit unserer einzigartigen Google optimierten e-Paper Software.

3.3 Strahlführung U5UA<br />

gentlichen Messungen durchgeführt. Dabei ist es möglich während der Messung die<br />

Proben zu heizen, Molekularstrahlepitaxie (MBE) durchzuführen und Gase einzulassen.<br />

Der Basisdruck der Hauptkammer liegt im Bereich von 5 × 10 −10 Torr.<br />

3.3.2 Probenpräparation an U5UA<br />

Das für die Studien am inversen Modellkatalysator Ceroxid auf Ruthenium(0001)<br />

verwendete Substrat bestand aus einem kommerziellen Ru(0001)-Einkristall der<br />

Firma Mateck mit einer Fehlorientierung von unter 0,1°. Der Kristall wurde zunächst<br />

ex-situ durch wiederholte Oxidation und anschließendem Heizen auf sehr<br />

hohe Temperaturen mit Hilfe einer Induktionsheizung unter Argonatmosphäre gereinigt.<br />

Anschließend wurde der Einkristall in die Präparationskammer des SPELEEM-<br />

Instruments eingeschleust und für mindestens 12 h bei 600 ℃ ausgegast. Schlussendlich<br />

wurden letzte Kontaminationen auf der Ru(0001)-Oberfläche durch die wiederholte<br />

Oxidation und das Heizen des Kristalls auf über 1500 ℃ in der Hauptkammer<br />

nach der Methode von Madey et al. [126] entfernt. Dieses Vorgehen führt gleichzeitig<br />

dazu, dass sich sehr große Terrassen auf der Ru(0001)-Oberfläche ausbilden.<br />

Vor dem <strong>Wachstum</strong> von Ceroxid wurde die Substratoberfläche mit Hilfe von LEEM<br />

und LEED überprüft. Die Deposition von Ceroxid durch das Verdampfen von metallischem<br />

Cer unter Sauerstoffhintergrunddruck im reaktiven MBE-Verfahren bei<br />

Substrattemperaturen zwischen 360 ℃ und 1000 ℃ wurde erst begonnen, wenn in<br />

der Beugung ausschließlich scharfe Substrat-Reflexe zu sehen waren und die LEEM-<br />

Aufnahme keine Kontaminationen zeigte. Der verwendete Sauerstoffhintergrunddruck<br />

lag dabei im Bereich von p O2 = 1 × 10 −8 Torr und p O2 = 5 × 10 −7 Torr und<br />

die Depositionsrate betrug etwa 0,15 ML /min. Eine Monolage Ceroxid (ML) wird hier<br />

als die Schichtdicke einer O-Ce-O CeO 2 (111)-Trilage der Fluorit-Struktur definiert<br />

und entspricht damit etwa 3,12 Å.<br />

Der Ru(0001)-Einkristall wurde zwischen unterschiedlichen Proben-Präparationen<br />

zuerst auf über 1500 ℃ geheizt um das Ceroxid von der Substrat-Oberfläche zu<br />

entfernen und anschließend wurde die Oberfläche durch die wiederholte Oxidation<br />

und das Heizen auf sehr hohe Temperaturen weiter gereinigt. Der Erfolg der Reinigungsprozedur<br />

wurde mit Hilfe von LEEM und LEED vor der folgenden Ceroxid-<br />

Deposition, wie bereits beschrieben, kontrolliert.<br />

53

Hurra! Ihre Datei wurde hochgeladen und ist bereit für die Veröffentlichung.

Erfolgreich gespeichert!

Leider ist etwas schief gelaufen!