Adsorbat-modifiziertes Wachstum ultradünner Seltenerdoxid ... - E-LIB

4 Strukturelle und chemische Zusammensetzung von Seltenerdoxid-Filmen
auf Si(111)
(-10)
Si(113)
1.5
bixbyite (B)
l (r. l. u.)
1.0
bixbyite (A)
0.5
bixbyite (B)
-0.2 0 0.2
Q II ( Å -1
)
Abb. 4.53 Reziproke Gitterkarte des (¯10)-CTRs aufgenommen nach dem Wachstum
von 8 nm Lanthanoxid auf Chlor-passiviertem Cl/Si(111)-(1 × 1) bei
einer Substrattemperatur von 500 ℃ und einem Sauerstoffhintergrunddruck
von p O2 = 5 × 10 −7 mbar (5-Cl). Am Rand der Karten ist die dem
Reflex zugehörige Kristallstruktur und Orientierung des Lanthanoxid-
Films angegeben. Der Silizium-Bragg-Reflex ist zusätzlich in Volumenkoordinaten
notiert.
138