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Adsorbat-modifiziertes Wachstum ultradünner Seltenerdoxid ... - E-LIB

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4.5 Charakterisierung von <strong>Seltenerdoxid</strong>-Filmen mit Schichtdicken im Bereich<br />

einiger Nanometer mit Hilfe von XRD und GIXRD<br />

(01)<br />

(01)<br />

Si(131)<br />

1.5<br />

fluorite (B)<br />

l (r. l. u.)<br />

1.0<br />

(1-Cl)<br />

(5-Cl)<br />

0.5<br />

fluorite (B)<br />

-0.2 0 0.2<br />

Q II ( Å -1<br />

)<br />

-0.1 0.1<br />

Q II ( Å -1<br />

)<br />

Abb. 4.49 Reziproke Gitterkarten der (01l)-CTRs der Ceroxid-Filme aus Abb. 4.47<br />

und Abb. 4.46 aufgenommen nach dem <strong>Wachstum</strong> von Ceroxid auf Chlorpassiviertem<br />

Cl/Si(111)-(1 × 1) bei einer Substrattemperatur von 500 ℃<br />

und einem Sauerstoffhintergrunddruck von p O2 = 1 × 10 −7 mbar (1-Cl)<br />

und p O2 = 5 × 10 −7 mbar (5-Cl). Am Rand der Karten ist die dem<br />

Reflex zugehörige Kristallstruktur und Orientierung des Ceroxid-Films<br />

angegeben. Der Silizium-Bragg-Reflex ist zusätzlich in Volumenkoordinaten<br />

notiert.<br />

129

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