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Adsorbat-modifiziertes Wachstum ultradünner Seltenerdoxid ... - E-LIB

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4.5 Charakterisierung von <strong>Seltenerdoxid</strong>-Filmen mit Schichtdicken im Bereich<br />

einiger Nanometer mit Hilfe von XRD und GIXRD<br />

[111]<br />

2.0<br />

Si<br />

c−La<br />

(151) 2<br />

O 3<br />

(A)<br />

c−La O (B) 2 3<br />

a−La 2<br />

O 3<br />

1.5<br />

(131)<br />

l (r. l. u.)<br />

1.0<br />

(111)<br />

(040)<br />

0.5<br />

( 131)<br />

0<br />

(000)<br />

0 0.5 1.0 1.5 2.0<br />

k (r. l. u.)<br />

[ 121]<br />

Abb. 4.42 Ausschnitt der reziproken Gitterkarte berechnet nach der kinematischen<br />

Beugungstheorie für Silizium, c-La 2 O 3 (Bixbyit) und a-La 2 O 3 (hexagonal)<br />

entlang der l- und k-Richtung in Oberflächenkoordinaten für Si(111).<br />

Die Silizium-Reflexe sind zusätzlich in reziproken Volumenkoordinaten<br />

angegeben. Zusätzlich sind für c-La 2 O 3 die Reflexe, welche aus der jeweiligen<br />

B-Orientierung resultieren, dargestellt. Die gelben Balken kennzeichnen<br />

die untersuchten Bereiche des (01l)-CTRs in Beugung unter<br />

streifendem Einfall (GIXRD).<br />

Element/Verbindung laterale Gitterkonstante a ‖ vertikale Gitterkonstante a ⊥<br />

Silizium 3,840 Å 3,136 Å<br />

CeO 2 3,826 Å 3,124 Å<br />

c-Ce 2 O 3 3,946 Å 3,222 Å<br />

c-La 2 O 3 4,016 Å 3,279 Å<br />

Tabelle 4.8 Laterale und vertikale Gitterkonstanten der (111)-Oberflächeneinheitszelle<br />

von Silizium, CeO 2 , c-Ce 2 O 3 und c-La 2 O 3 . Für die Bixbyit-<br />

Kristallstrukturen sind die Werte in Bezug auf die halbe Gitterkonstante<br />

( a /2) angegeben.<br />

119

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