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Adsorbat-modifiziertes Wachstum ultradünner Seltenerdoxid ... - E-LIB

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4 Strukturelle und chemische Zusammensetzung von <strong>Seltenerdoxid</strong>-Filmen<br />

auf Si(111)<br />

[111]<br />

2.0<br />

1.5<br />

(131)<br />

Si<br />

CeO (A) 2<br />

(151) CeO (B) 2<br />

c−Ce O (A) 2 3<br />

c−Ce 2<br />

O 3<br />

(B)<br />

a−Ce O 2 3<br />

l (r. l. u.)<br />

1.0<br />

(111)<br />

(040)<br />

0.5<br />

( 131)<br />

0<br />

(000)<br />

0 0.5 1.0 1.5 2.0<br />

k (r. l. u.)<br />

[ 121]<br />

Abb. 4.41 Ausschnitt der reziproken Gitterkarte berechnet nach der kinematischen<br />

Beugungstheorie für Silizium, CeO 2 (Fluorit), c-Ce 2 O 3 (Bixbyit) und a-<br />

Ce 2 O 3 (hexagonal) entlang der l- und k-Richtung in Oberflächenkoordinaten<br />

für Si(111). Die Silizium-Reflexe sind zusätzlich in reziproken<br />

Volumenkoordinaten angegeben. Zusätzlich sind für CeO 2 und c-Ce 2 O 3<br />

die Reflexe, welche aus der jeweiligen B-Orientierung resultieren, dargestellt.<br />

Die gelben Balken kennzeichnen die untersuchten Bereiche des<br />

(00l)-CTRs in spekularer Beugungsgeometrie und des (01l)-CTRs in Beugung<br />

unter streifendem Einfall (GIXRD).<br />

Um dem Leser einen schnellen Vergleich zu den lateralen und vertikalen Gitterkonstanten<br />

der (111)-Oberflächeneinheitszelle von Silizium, CeO 2 , c-Ce 2 O 3 und c-La 2 O 3<br />

in der folgenden Diskussion der Röntgenbeugungsergebnisse zu erleichtern, sind in<br />

Tab. 4.8 die entsprechenden Werte zusammengefasst.<br />

4.5.2 Einfluss des Sauerstoffhintergrunddrucks, der<br />

<strong>Wachstum</strong>srate und der Chlor-Passivierung auf die<br />

kristalline Qualität und die strukturellen Eigenschaften von<br />

Ceroxid-Filmen<br />

Dieser Abschnitt beleuchtet die kristalline Qualität und die strukturellen Eigenschaften<br />

der Ceroxid-Filme im Schichtdickenbereich von einigen Nanometern, welche<br />

bei 500 ℃ gewachsen wurden, in Abhängigkeit des verwendeten Sauerstoffhin-<br />

118

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