Adsorbat-modifiziertes Wachstum ultradünner Seltenerdoxid ... - E-LIB
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4 Strukturelle und chemische Zusammensetzung von <strong>Seltenerdoxid</strong>-Filmen<br />
auf Si(111)<br />
nicht passivierte <strong>Wachstum</strong> (5) und fc,(111) La3d (5-Cl) = 0,70 und ΦLa3d<br />
c,(111)<br />
(5-Cl) = 1,03<br />
für das Chlor-passivierte <strong>Wachstum</strong> (5-Cl). Geht man wieder von einem Nicht-<br />
Dipol-Anteil in der kohärenten Fraktion von ∆fc<br />
La3d = 0,08 analog zu den Ce3d-<br />
XSW-Messungen (siehe Abschnitt 4.2.1) aus, so sind die Nicht-Dipol-bereinigten<br />
kohärenten Fraktionen um ∆f c,(111) (5) = 0,03 für (5) und ∆f c,(111) (5-Cl) = 0,05<br />
für (5-Cl) gegenüber den kohärenten Fraktionen aus den LaL α -XSW-Messungen<br />
erhöht. Diese Erhöhung liegt allerdings unter Berücksichtigung der Unsicherheiten<br />
der XSW-Messung (Abschnitt 2.5.2) und des Nicht-Dipol-Effektes im Rahmen<br />
des Fehlers. Eine leichte signifikante Erhöhung gegenüber den Fluoreszenz-Daten<br />
findet man jedoch in den kohärenten Positionen von ∆Φ c,(111) (5) = 0,05 für (5)<br />
und ∆Φ c,(111) (5-Cl) = 0,04, da die Unsicherheit für die kohärente Position geringer<br />
ausfällt (Abschnitt 2.5.2) und keine Nicht-Dipol-Effekte zu beobachten sind. Aufgrund<br />
der geringeren Ausdringtiefe der La3d-Photoelektronen gegenüber der LaL α -<br />
Fluoreszenz haben in der Photoelektronen-XSW-Messung die oberen Trilagen des<br />
La 2 O 3 -Films mit einer Schichtdicke von 1,8 nm einen stärkeren Einfluss auf die kohärente<br />
Fraktion und die kohärente Position. Da diese Trilagen aufgrund des größeren<br />
Trilagenabstands von 3,28 Å gegenüber des Si(111)-Beugungsebenenabstands<br />
von 3,136 Å zu einer höheren kohärenten Position führen, ist die Abweichung zu<br />
den Fluoreszenz-Daten plausibel. Die Abweichung der kohärenten Fraktion zu den<br />
LaL α -Daten kann ebenfalls ihre Ursache in der geringeren Ausdringtiefe der La3d-<br />
Photoelektronen haben, da diese eine Mittelung über weniger Lanthanoxid-Trilagen<br />
bewirkt und es unter der Annahme, dass jede Trilage eine identische Ordnung aufweist,<br />
allein schon deswegen zu einer leicht erhöhten Fraktion kommt. Denn bei einem<br />
Trilagenabstand, der gegenüber dem Si(111)-Beugungsebenenabstand abweicht,<br />
bewirkt die Mittelung über jede zusätzliche Trilage eine Verringerung der kohärenten<br />
Fraktion. Da die Abweichungen der kohärenten Fraktionen jedoch im Bereich der<br />
Unsicherheiten der XSW-Auswertung und des Nicht-Dipol-Effektes liegen, ist hier<br />
die Ursache nicht eindeutig identifizierbar. Die Ergebnisse der kohärenten Position<br />
deuten jedoch darauf hin, dass ein Teil der Erhöhung der kohärenten Fraktionen aus<br />
den La3d-XSW-Messungen ebenfalls aus der geringeren Ausdringtiefe resultieren<br />
können.<br />
Um abschließend die Rolle des Chlors während des <strong>Wachstum</strong>s von La 2 O 3 auf<br />
Cl/Si(111)-(1×1) aufzuklären, zeigt Abb. 4.35 (a) Cl1s-XPS-Spektren vor und nach<br />
dem <strong>Wachstum</strong> von 1,8 nm Lanthanoxid, die auf die Primärintensität und die Integrationszeit<br />
normiert sind. Die integrale Intensität des Cl1s-Signals beträgt nach<br />
dem <strong>Wachstum</strong> (79 ± 2) % der Cl1s-Intensität vor dem <strong>Wachstum</strong>. Da die inelastische<br />
mittlere freie Weglänge der Cl1s-Photoelektronen in La 2 O 3 wegen der geringen<br />
kinetischen Energie von etwa 530 eV nach der Tanuma, Powell und Penn<br />
TPP2M-Formel [73] λ La2 O 3<br />
(0,5 keV) = 1,2 nm beträgt, würde man einen Intensitätsabfall<br />
des Cl1s-Photoelektronen-Signals nach dem <strong>Wachstum</strong> von La 2 O 3 auf<br />
etwa 20 % erwarten, wenn das Chlor an der Grenzfläche verbleibt. Die experimentell<br />
bestimmte Cl1s-Intensität von (79 ± 2) % lässt sich erklären, wenn man annimmt,<br />
dass 75 % des Chlors an die Oberfläche segregieren, während 25 % des Chlors an der<br />
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