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Adsorbat-modifiziertes Wachstum ultradünner Seltenerdoxid ... - E-LIB

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4 Strukturelle und chemische Zusammensetzung von <strong>Seltenerdoxid</strong>-Filmen<br />

auf Si(111)<br />

nicht passivierte <strong>Wachstum</strong> (5) und fc,(111) La3d (5-Cl) = 0,70 und ΦLa3d<br />

c,(111)<br />

(5-Cl) = 1,03<br />

für das Chlor-passivierte <strong>Wachstum</strong> (5-Cl). Geht man wieder von einem Nicht-<br />

Dipol-Anteil in der kohärenten Fraktion von ∆fc<br />

La3d = 0,08 analog zu den Ce3d-<br />

XSW-Messungen (siehe Abschnitt 4.2.1) aus, so sind die Nicht-Dipol-bereinigten<br />

kohärenten Fraktionen um ∆f c,(111) (5) = 0,03 für (5) und ∆f c,(111) (5-Cl) = 0,05<br />

für (5-Cl) gegenüber den kohärenten Fraktionen aus den LaL α -XSW-Messungen<br />

erhöht. Diese Erhöhung liegt allerdings unter Berücksichtigung der Unsicherheiten<br />

der XSW-Messung (Abschnitt 2.5.2) und des Nicht-Dipol-Effektes im Rahmen<br />

des Fehlers. Eine leichte signifikante Erhöhung gegenüber den Fluoreszenz-Daten<br />

findet man jedoch in den kohärenten Positionen von ∆Φ c,(111) (5) = 0,05 für (5)<br />

und ∆Φ c,(111) (5-Cl) = 0,04, da die Unsicherheit für die kohärente Position geringer<br />

ausfällt (Abschnitt 2.5.2) und keine Nicht-Dipol-Effekte zu beobachten sind. Aufgrund<br />

der geringeren Ausdringtiefe der La3d-Photoelektronen gegenüber der LaL α -<br />

Fluoreszenz haben in der Photoelektronen-XSW-Messung die oberen Trilagen des<br />

La 2 O 3 -Films mit einer Schichtdicke von 1,8 nm einen stärkeren Einfluss auf die kohärente<br />

Fraktion und die kohärente Position. Da diese Trilagen aufgrund des größeren<br />

Trilagenabstands von 3,28 Å gegenüber des Si(111)-Beugungsebenenabstands<br />

von 3,136 Å zu einer höheren kohärenten Position führen, ist die Abweichung zu<br />

den Fluoreszenz-Daten plausibel. Die Abweichung der kohärenten Fraktion zu den<br />

LaL α -Daten kann ebenfalls ihre Ursache in der geringeren Ausdringtiefe der La3d-<br />

Photoelektronen haben, da diese eine Mittelung über weniger Lanthanoxid-Trilagen<br />

bewirkt und es unter der Annahme, dass jede Trilage eine identische Ordnung aufweist,<br />

allein schon deswegen zu einer leicht erhöhten Fraktion kommt. Denn bei einem<br />

Trilagenabstand, der gegenüber dem Si(111)-Beugungsebenenabstand abweicht,<br />

bewirkt die Mittelung über jede zusätzliche Trilage eine Verringerung der kohärenten<br />

Fraktion. Da die Abweichungen der kohärenten Fraktionen jedoch im Bereich der<br />

Unsicherheiten der XSW-Auswertung und des Nicht-Dipol-Effektes liegen, ist hier<br />

die Ursache nicht eindeutig identifizierbar. Die Ergebnisse der kohärenten Position<br />

deuten jedoch darauf hin, dass ein Teil der Erhöhung der kohärenten Fraktionen aus<br />

den La3d-XSW-Messungen ebenfalls aus der geringeren Ausdringtiefe resultieren<br />

können.<br />

Um abschließend die Rolle des Chlors während des <strong>Wachstum</strong>s von La 2 O 3 auf<br />

Cl/Si(111)-(1×1) aufzuklären, zeigt Abb. 4.35 (a) Cl1s-XPS-Spektren vor und nach<br />

dem <strong>Wachstum</strong> von 1,8 nm Lanthanoxid, die auf die Primärintensität und die Integrationszeit<br />

normiert sind. Die integrale Intensität des Cl1s-Signals beträgt nach<br />

dem <strong>Wachstum</strong> (79 ± 2) % der Cl1s-Intensität vor dem <strong>Wachstum</strong>. Da die inelastische<br />

mittlere freie Weglänge der Cl1s-Photoelektronen in La 2 O 3 wegen der geringen<br />

kinetischen Energie von etwa 530 eV nach der Tanuma, Powell und Penn<br />

TPP2M-Formel [73] λ La2 O 3<br />

(0,5 keV) = 1,2 nm beträgt, würde man einen Intensitätsabfall<br />

des Cl1s-Photoelektronen-Signals nach dem <strong>Wachstum</strong> von La 2 O 3 auf<br />

etwa 20 % erwarten, wenn das Chlor an der Grenzfläche verbleibt. Die experimentell<br />

bestimmte Cl1s-Intensität von (79 ± 2) % lässt sich erklären, wenn man annimmt,<br />

dass 75 % des Chlors an die Oberfläche segregieren, während 25 % des Chlors an der<br />

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