Adsorbat-modifiziertes Wachstum ultradünner Seltenerdoxid ... - E-LIB
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4 Strukturelle und chemische Zusammensetzung von <strong>Seltenerdoxid</strong>-Filmen<br />
auf Si(111)<br />
Ga Photoelectron Yield<br />
Ga Photoelectron Yield<br />
Normalized Intensity (arb. units)<br />
2.0<br />
1.5<br />
1.0<br />
0.5<br />
Reflectivity<br />
(5−Ga)<br />
(111)<br />
(a)<br />
2.0<br />
Normalized Intensity (arb. units)<br />
f c = 0.60<br />
Φ c = 1.00<br />
1.5<br />
1.0<br />
0.5<br />
Reflectivity<br />
(5−Ga)<br />
(220)<br />
(b)<br />
f c = 0.33<br />
Φ c<br />
= 0.97<br />
0<br />
−0.5 0 0.5 1<br />
E−E (eV) Bragg<br />
0<br />
−0.2 0 0.2 0.4 0.6<br />
E−E (eV) Bragg<br />
Abb. 4.26 XSW-Daten (offene Symbole) und theoretische Anpassung nach der<br />
dynamischen Theorie der Röntgenbeugung (durchgezogene Linien) unter<br />
Verwendung von Ga2p-Photoelektronen in (111)-Bragg-Reflexion (a)<br />
und (220)-Bragg-Reflexion (b) bei einer Photonenenergie von 3,35 keV<br />
nach dem <strong>Wachstum</strong> von 6 Å Ce 2 O 3 auf Gallium-passiviertem Si(111),<br />
Ga/Si(111)-( √ 3 × √ 3)R30° und Ga/Si(111)-(6,3 × 6,3), bei einer Substrattemperatur<br />
von 500 ℃ und einem Sauerstoffhintergrunddruck von<br />
p O2 = 5 × 10 −7 mbar (5-Ga).<br />
(220)-Bragg-Reflexion die folgenden Werte für die kohärenten Fraktionen und die<br />
kohärenten Positionen. Ga/Si(111)-( √ 3 × √ 3)R30°: f (√ 3 × √ 3)<br />
c,(111)<br />
≤ 0,97, Φ (√ 3 × √ 3)<br />
c,(111)<br />
=<br />
0,60 ± 0,01 und f (√ 3 × √ 3)<br />
c,(220)<br />
≤ 0,8, Φ (√ 3 × √ 3)<br />
c,(220)<br />
= 0,98 ± 0,03 und für Ga/Si(111)-(6,3 ×<br />
(6,3 × 6,3)<br />
(6,3 × 6,3)<br />
(6,3 × 6,3)<br />
(6,3 × 6,3)<br />
6,3): f<br />
c,(111)<br />
= 0,84, Φ<br />
c,(111)<br />
= 0,99 ± 0,01 und f<br />
c,(220)<br />
= 0,27, Φ<br />
c,(220)<br />
=<br />
0,76. Für die kohärenten Fraktionen der Ga/Si(111)-( √ 3 × √ 3)R30°-Phase geben<br />
Zegenhagen et al. die maximal erreichten kohärenten Fraktionen an, da diese von<br />
den Präparationsbedingungen abhängen und dementsprechend auch geringere Werte<br />
aufweisen können. Teilweise wurden von Zegenhagen et al. keine Fehler angegeben<br />
und es ist deshalb wahrscheinlich von einem Fehler im Bereich von ±0,01 auszugehen.<br />
Die äußerst geringe kohärente Fraktion in (220)-Richtung kommt dabei durch die<br />
nicht kommensurable Struktur der Ga/Si(111)-(6,3 × 6,3) Phase zustande [173].<br />
Um nun mit Hilfe von stehenden Röntenwellenfeldern das Verhalten des Galliums<br />
nach dem <strong>Wachstum</strong> aufzuklären, zeigt Abb. 4.26 XSW-Daten unter Verwendung<br />
von Ga2p-Photoelektronen in (111)- und (220)-Bragg-Reflexion bei einer Photonenenergie<br />
von 3,35 keV nach dem <strong>Wachstum</strong> von 6 Å Ce 2 O 3 bei einer Substrattempe-<br />
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