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Adsorbat-modifiziertes Wachstum ultradünner Seltenerdoxid ... - E-LIB

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4 Strukturelle und chemische Zusammensetzung von <strong>Seltenerdoxid</strong>-Filmen<br />

auf Si(111)<br />

Ga Photoelectron Yield<br />

Ga Photoelectron Yield<br />

Normalized Intensity (arb. units)<br />

2.0<br />

1.5<br />

1.0<br />

0.5<br />

Reflectivity<br />

(5−Ga)<br />

(111)<br />

(a)<br />

2.0<br />

Normalized Intensity (arb. units)<br />

f c = 0.60<br />

Φ c = 1.00<br />

1.5<br />

1.0<br />

0.5<br />

Reflectivity<br />

(5−Ga)<br />

(220)<br />

(b)<br />

f c = 0.33<br />

Φ c<br />

= 0.97<br />

0<br />

−0.5 0 0.5 1<br />

E−E (eV) Bragg<br />

0<br />

−0.2 0 0.2 0.4 0.6<br />

E−E (eV) Bragg<br />

Abb. 4.26 XSW-Daten (offene Symbole) und theoretische Anpassung nach der<br />

dynamischen Theorie der Röntgenbeugung (durchgezogene Linien) unter<br />

Verwendung von Ga2p-Photoelektronen in (111)-Bragg-Reflexion (a)<br />

und (220)-Bragg-Reflexion (b) bei einer Photonenenergie von 3,35 keV<br />

nach dem <strong>Wachstum</strong> von 6 Å Ce 2 O 3 auf Gallium-passiviertem Si(111),<br />

Ga/Si(111)-( √ 3 × √ 3)R30° und Ga/Si(111)-(6,3 × 6,3), bei einer Substrattemperatur<br />

von 500 ℃ und einem Sauerstoffhintergrunddruck von<br />

p O2 = 5 × 10 −7 mbar (5-Ga).<br />

(220)-Bragg-Reflexion die folgenden Werte für die kohärenten Fraktionen und die<br />

kohärenten Positionen. Ga/Si(111)-( √ 3 × √ 3)R30°: f (√ 3 × √ 3)<br />

c,(111)<br />

≤ 0,97, Φ (√ 3 × √ 3)<br />

c,(111)<br />

=<br />

0,60 ± 0,01 und f (√ 3 × √ 3)<br />

c,(220)<br />

≤ 0,8, Φ (√ 3 × √ 3)<br />

c,(220)<br />

= 0,98 ± 0,03 und für Ga/Si(111)-(6,3 ×<br />

(6,3 × 6,3)<br />

(6,3 × 6,3)<br />

(6,3 × 6,3)<br />

(6,3 × 6,3)<br />

6,3): f<br />

c,(111)<br />

= 0,84, Φ<br />

c,(111)<br />

= 0,99 ± 0,01 und f<br />

c,(220)<br />

= 0,27, Φ<br />

c,(220)<br />

=<br />

0,76. Für die kohärenten Fraktionen der Ga/Si(111)-( √ 3 × √ 3)R30°-Phase geben<br />

Zegenhagen et al. die maximal erreichten kohärenten Fraktionen an, da diese von<br />

den Präparationsbedingungen abhängen und dementsprechend auch geringere Werte<br />

aufweisen können. Teilweise wurden von Zegenhagen et al. keine Fehler angegeben<br />

und es ist deshalb wahrscheinlich von einem Fehler im Bereich von ±0,01 auszugehen.<br />

Die äußerst geringe kohärente Fraktion in (220)-Richtung kommt dabei durch die<br />

nicht kommensurable Struktur der Ga/Si(111)-(6,3 × 6,3) Phase zustande [173].<br />

Um nun mit Hilfe von stehenden Röntenwellenfeldern das Verhalten des Galliums<br />

nach dem <strong>Wachstum</strong> aufzuklären, zeigt Abb. 4.26 XSW-Daten unter Verwendung<br />

von Ga2p-Photoelektronen in (111)- und (220)-Bragg-Reflexion bei einer Photonenenergie<br />

von 3,35 keV nach dem <strong>Wachstum</strong> von 6 Å Ce 2 O 3 bei einer Substrattempe-<br />

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