Adsorbat-modifiziertes Wachstum ultradünner Seltenerdoxid ... - E-LIB
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Inhaltsverzeichnis<br />
4.1.2 <strong>Adsorbat</strong>e auf Si(111): Chlor, Silber und Gallium . . . . . . . . . 56<br />
4.1.2.1 Cl/Si(111) . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 56<br />
4.1.2.2 Ag/Si(111) . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 57<br />
4.1.2.3 Ga/Si(111) . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 58<br />
4.1.3 <strong>Wachstum</strong> von Ceroxid und Lanthanoxid auf Si(111) . . . . . . . 59<br />
4.2 Charakterisierung <strong>ultradünner</strong> Ceroxid-Filme . . . . . . . . . . . . 62<br />
4.2.1 Ergebnisse der Diplomarbeit . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 62<br />
4.2.2 Kristalline Qualität in Abhängigkeit des<br />
Sauerstoffhintergrunddrucks und der Chlor-Passivierung . . . . . 68<br />
4.2.3 Vergleich des Einflusses unterschiedlicher <strong>Adsorbat</strong>e auf die<br />
Kristallinität <strong>ultradünner</strong> Ceroxid-Filme . . . . . . . . . . . . . . 73<br />
4.2.4 Grenzfläche zwischen Ce 2 O 3 und Silizium . . . . . . . . . . . . . 78<br />
4.2.5 Verhalten der <strong>Adsorbat</strong>e während des <strong>Wachstum</strong>s . . . . . . . . . 87<br />
4.2.5.1 Verhalten des Chlors . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 87<br />
4.2.5.2 Verhalten des Silbers . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 91<br />
4.2.5.3 Verhalten des Galliums . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 95<br />
4.3 Charakterisierung <strong>ultradünner</strong> Lanthanoxid-Filme . . . . . . . . . . 99<br />
4.3.1 Spektroskopische Untersuchungen . . . . . . . . . . . . . . . . . . 99<br />
4.3.2 Strukturelle Untersuchungen . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 102<br />
4.4 <strong>Wachstum</strong> von <strong>Seltenerdoxid</strong>-Multilagen-Filmen . . . . . . . . . . 108<br />
4.4.1 Spektroskopische Untersuchungen . . . . . . . . . . . . . . . . . . 108<br />
4.4.2 Strukturelle Untersuchungen . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 110<br />
4.5 Charakterisierung von <strong>Seltenerdoxid</strong>-Filmen mit Schichtdicken im<br />
Bereich einiger Nanometer mit Hilfe von XRD und GIXRD . . . . 116<br />
4.5.1 Reziproke Gitterkarte . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 117<br />
4.5.2 CeO x -Filme: Strukturelle Eigenschaften in Abhängigkeit des<br />
Sauerstoffhintergrunddrucks, der <strong>Wachstum</strong>srate und der<br />
Chlor-Passivierung . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 118<br />
4.5.2.1 Oxidationszustand . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 120<br />
4.5.2.2 Spekulare Beugung . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 120<br />
4.5.2.3 Auswirkungen des Verhältnisses von Cer-Fluss zu<br />
Sauerstoffhintergrunddruck . . . . . . . . . . . . . . . . . 126<br />
4.5.2.4 Beugung unter streifendem Einfall . . . . . . . . . . . . . 128<br />
4.5.2.5 Nachoxidation und Kristallinität der Ceroxid-Filme . . . 136<br />
4.5.2.6 Zusammenfassung der Röntgenbeugungs-Ergebnisse<br />
zum Ceroxid-<strong>Wachstum</strong> . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 137<br />
4.5.3 Strukturelle Eigenschaften von Lanthanoxid-Filmen . . . . . . . . 137<br />
4.6 Zusammenfassung und Ausblick . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 141<br />
5 <strong>Wachstum</strong>, Morphologie und Oxidationszustand von CeO x /Ru(0001) 145<br />
5.1 Stand der Wissenschaft . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 145<br />
5.1.1 <strong>Wachstum</strong> von Ceroxid auf Übergangsmetallen . . . . . . . . . . 146<br />
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