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könnte, reicht die lichtmikroskopische Analyse zur Vorhersage <strong>de</strong>r Permeation daher<br />

nicht aus. Vielmehr müssen solche Muster für eine korrekte mit <strong>de</strong>m<br />

Rasterelektronenmikroskop untersucht wer<strong>de</strong>n.<br />

93 Defektanalyse________________________________________________Seite Mikroskopische 5.5<br />

5.5.3 Defektanalyse im Raster-Kraft-Mikroskop (AFM)<br />

Aufgrund <strong>de</strong>r geringen nutzbaren Scanfläche war im AFM eine <strong>de</strong>taillierte Analyse mit<br />

einem Messbereich von insgesamt 988000 µm2 sehr aufwendig, da selbst die<br />

Verwendung von 100x100 µm2 Scans und <strong>de</strong>r damit verbun<strong>de</strong>nen Reduzierung <strong>de</strong>r<br />

Auflösung auf 195 nm noch jeweils knapp 100 Messungen pro unterschiedlichem<br />

Muster durchzuführen waren. Bei dieser Scangröße mussten kleine Defekte unter 1 µm2<br />

zur genauen Analyse nochmals bei einer reduzierten Scangröße von 25x25 µm2<br />

vermessen wer<strong>de</strong>n. Insgesamt wur<strong>de</strong>n zur Defektanalyse wie<strong>de</strong>rum zehn, mehrere<br />

Zentimeter voneinan<strong>de</strong>r entfernte Stellen auf <strong>de</strong>r Probe herausgegriffen und gescannt.<br />

Dabei wur<strong>de</strong> jeweils eine Messfläche von etwa 100000 µm2 untersucht. Die<br />

Defektgrößenhäufigkeitsverteilung wies eine gute Übereinstimmung mit <strong>de</strong>n zuvor<br />

beschriebenen Verläufen aus LM- und REM-Messungen für Defekte größer 0,5 µm2 auf.<br />

Unterhalb von 0,5 µm2 entsprach er <strong>de</strong>m Verlauf, wie er mittels REM nachgewiesen<br />

wer<strong>de</strong>n konnte. Abb. 5-20 stellt <strong>de</strong>n ermittelten Verlauf <strong>de</strong>s Musters (S4) OD 2,6, wie<br />

es bereits zuvor im LM und im REM untersucht wur<strong>de</strong>n, graphisch dar.<br />

Abb. 5-20: Defektgrößenhäufigkeitsverteilung aus AFM-Messungen;<br />

gesamte vermessene Fläche: 100000 µm2

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