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Radiation Hardness Studies of Monolithic Active Pixel Sensors ...

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4 KAPITEL 2. MONOLITHIC ACTIVE PIXEL SENSOREN (MAPS)<br />

y<br />

Substrate<br />

Epitaxial Layer<br />

P++ P P++<br />

Track <strong>of</strong> a physic particle<br />

+<br />

P-well<br />

Diode<br />

x<br />

Abbildung 2.1: Drei Schichten eines MAPS. Oben links: Ein qualitatives Dotierungspr<strong>of</strong>il des<br />

<strong>Sensors</strong>. Gebiete hoher Dotierung werden mit P++ bezeichnet, Areale mit moderater Dotierung<br />

werden mit P gekennzeichnet. Die Sammeldiode in gelber Färbung ist stark N-dotiert. Oben<br />

rechts: Ein qualitatives Pr<strong>of</strong>il des Potentials des Leitungsbandes des Siliziums, die aus der obigen<br />

Struktur resultiert. Unten: Ein Schrägbild des <strong>Sensors</strong>. Eine Teilchenspur wird als roter Pfeil<br />

eingezeichnet. Entlang der Spur werden Elektronen, symbolisiert durch rote Punkte, generiert,<br />

die dann durch den Sensor diffundieren.<br />

n<br />

Potential<br />

Pitch<br />

x

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