Radiation Hardness Studies of Monolithic Active Pixel Sensors ...
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4 KAPITEL 2. MONOLITHIC ACTIVE PIXEL SENSOREN (MAPS)<br />
y<br />
Substrate<br />
Epitaxial Layer<br />
P++ P P++<br />
Track <strong>of</strong> a physic particle<br />
+<br />
P-well<br />
Diode<br />
x<br />
Abbildung 2.1: Drei Schichten eines MAPS. Oben links: Ein qualitatives Dotierungspr<strong>of</strong>il des<br />
<strong>Sensors</strong>. Gebiete hoher Dotierung werden mit P++ bezeichnet, Areale mit moderater Dotierung<br />
werden mit P gekennzeichnet. Die Sammeldiode in gelber Färbung ist stark N-dotiert. Oben<br />
rechts: Ein qualitatives Pr<strong>of</strong>il des Potentials des Leitungsbandes des Siliziums, die aus der obigen<br />
Struktur resultiert. Unten: Ein Schrägbild des <strong>Sensors</strong>. Eine Teilchenspur wird als roter Pfeil<br />
eingezeichnet. Entlang der Spur werden Elektronen, symbolisiert durch rote Punkte, generiert,<br />
die dann durch den Sensor diffundieren.<br />
n<br />
Potential<br />
Pitch<br />
x