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Galvanotechnik – Galvanisieren - HTL Wien 10

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Seite <strong>10</strong><br />

Halbzelle <strong>–</strong> Metallsalzlösung<br />

aus Wikipedia, der freien Enzyklopädie<br />

Die Halbzelle (Halbelement) ist Bestandteil des galvanischen Elements. Sie setzt sich<br />

zusammen aus einer Metallelektrode (Metallstab, Metallblech o. ä.), das in seine<br />

entsprechende Metallsalzlösung (Elektrolyt) taucht. Eine Zinkhalbzelle erhält man, indem<br />

man eine Zinkelektrode in eine Zinksalzlösung (zum Beispiel Zinksulfat-Lösung) taucht.<br />

Die Halbzellen eines galvanischen Elements werden unterschieden nach dem jeweiligen<br />

Metall (vgl. Zinkhalbzelle, Kupferhalbzelle, etc.) sowie ihrer Funktion, die sie bei der<br />

Zellreaktion einnehmen (Donatorhalbzelle, Akzeptorhalbzelle).<br />

Inhaltsverzeichnis<br />

• 1 Von der Halbzelle zum galvanischen Element<br />

• 2 Chemische Vorgänge in Halbzellen<br />

• 3 Bildung einer elektrischen Spannung zwischen zwei Halbzellen<br />

• 4 Einflussfaktoren auf die Spannungsgröße zwischen zwei Halbzellen<br />

• 5 Stromfluss zwischen zwei Halbzellen und Zellreaktion<br />

• 6 Halbzellenprozesse während der Zellreaktion und Reaktionsende<br />

Von der Halbzelle zum galvanischen Element<br />

Aus zwei Halbzellen lässt sich in einer entsprechenden Versuchsanordnung ein<br />

galvanisches Element aufbauen, indem man die beiden Halbzellen leitend miteinander<br />

verbindet. Die Verbindung zwischen den beiden Halbzellen besteht aus einem<br />

Elektronenleiter (beispielsweise einem Metalldraht), der die beiden Metallelektroden<br />

elektrisch leitend verbindet, und einem Ionenleiter (beispielsweise einer Elektrolytbrücke),<br />

der den Stromkreis durch die ionenleitende Verbindung zwischen den Metallsalzlösungen<br />

schließt. Das Daniell-Element als Beispiel eines galvanischen Elementes setzt sich aus<br />

einer Zinkhalbzelle und einer Kupferhalbzelle zusammen.<br />

Chemische Vorgänge in Halbzellen<br />

Sofort nach dem Eintauchen der Metallelektroden in die entsprechende Metallsalzlösung<br />

spielen sich an der Metalloberfläche bestimmte Vorgänge ab, die ein negatives Aufladen<br />

der Metallelektroden zur Folge haben. Die Ursache für die einsetzenden Prozesse ist das<br />

Bestreben eines jeden Metalls, in wässriger Lösung zu oxidieren. Infolge dieses als<br />

Lösungstension bezeichneten Verhaltens eines jeden Metalls lösen sich Metallatome aus<br />

dem Metallgitter der Elektrode und gehen als Metallionen in Lösung. Die bei dieser<br />

Oxidation der Metallatome freigesetzten Elektronen bleiben im Metall an dessen<br />

Oberfläche gebunden. Auf diese Weise lädt sich die Metalloberfläche negativ auf. Da die<br />

gebildeten Metallionen stets positiv geladen sind, werden sie infolge dieser negativen<br />

Aufladung an die Metalloberfläche gebunden. Dadurch entsteht innerhalb der<br />

Phasengrenzfläche zwischen Metalloberfläche und Metallsalzlösung eine sogenannte<br />

elektrische Doppelschicht. In ihr gleichen sich negative (Elektronen) und positive<br />

Ladungen (Metallionen) aus, da die Zahl z der pro Metallion gebildeten Elektronen der<br />

Ladungszahl der entsprechenden Metallionen entspricht. Somit werden zum Beispiel in

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