1.8 Grundlagen der Digitaltechnik
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Informatik V, Kap. 8, WS 98/99<br />
Bei ausreichend hohen Spannungen zwischen Kanal und Gate können sogenannte "heiße"<br />
Elektronen, welche aus dem elektrischen Feld ausreichend viel Energie aufgenommen haben, die<br />
dünne Oxidschicht durchtunneln und sich auf <strong>der</strong> Gate-Elektrode sammeln, wobei die Oxidschicht<br />
nicht zerstört wird. Die gespeicherte Ladung wird über Zeiträume von einigen Jahren (Chip in <strong>der</strong><br />
Dunkelheit) aber mindestens für einige Wochen (Chip im Sonnenlicht) gespeichert bleiben.<br />
Um überhaupt programmieren zu können, benötigt man einen sogenannten FAMOS-Transistor<br />
(floating gate MOS), <strong>der</strong> zwei Gates übereinan<strong>der</strong> besitzt (Abb. 8.40).<br />
p-Substrat<br />
Abb. 8.40 : FAMOS- Transistor mit doppeltem Gate<br />
24<br />
Steuer-Gate<br />
Isoliertes Gate<br />
Für die Programmierung wird das obere, nach außen anschließbare Gate auf eine hohe Spannung<br />
gegenüber dem Kanal vorgespannt. Von den durch den Tunnel-Effekt fließenden Elektronen gelangt<br />
ein Teil zum unteren, isolierten Gate und bleibt dort gespeichert.<br />
Als Folge dieser Ladung verschiebt sich die Schwellenspannung des Transistors zu höheren Werten.<br />
Damit lassen sich entsprechend bei <strong>der</strong> normalen Betriebsspannung leitende bzw. nicht-leitende<br />
Kreuzungspunkte einstellen.<br />
EPROMs sind durch Bestrahlung mit UV-Licht hoher Intensität für einige Minuten (ca. 10 bis 20)<br />
wie<strong>der</strong> löschbar. Charakteristisch ist das Quarzglasfenster in den Gehäusen von EPROMs.<br />
Bei elektrisch programmierbaren und löschbaren PROMs (EEPROMs) wird ebenfalls ein MOS-<br />
Transistor mit doppeltem Gate verwendet, den man hier auch als FLOTOX-MOSFET bezeichnet. Er<br />
besitzt ein einer Stelle ein extrem dünnes Gate-Oxid, durch das Elektronen bei Programmierung und<br />
Löschung in beiden Richtungen tunneln können (Abb. 8.41).<br />
Isoliertes Gate<br />
Steuer-Gate<br />
p-Substrat<br />
Tunnel-Oxid<br />
Auswahl-Gate<br />
Abb. 8.41: EEPROM-Zelle mit FLOTOX-Transistor und Auswahltransistor