29.06.2013 Aufrufe

1.8 Grundlagen der Digitaltechnik

1.8 Grundlagen der Digitaltechnik

1.8 Grundlagen der Digitaltechnik

MEHR ANZEIGEN
WENIGER ANZEIGEN

Erfolgreiche ePaper selbst erstellen

Machen Sie aus Ihren PDF Publikationen ein blätterbares Flipbook mit unserer einzigartigen Google optimierten e-Paper Software.

Informatik V, Kap. 8, WS 98/99<br />

Bei ausreichend hohen Spannungen zwischen Kanal und Gate können sogenannte "heiße"<br />

Elektronen, welche aus dem elektrischen Feld ausreichend viel Energie aufgenommen haben, die<br />

dünne Oxidschicht durchtunneln und sich auf <strong>der</strong> Gate-Elektrode sammeln, wobei die Oxidschicht<br />

nicht zerstört wird. Die gespeicherte Ladung wird über Zeiträume von einigen Jahren (Chip in <strong>der</strong><br />

Dunkelheit) aber mindestens für einige Wochen (Chip im Sonnenlicht) gespeichert bleiben.<br />

Um überhaupt programmieren zu können, benötigt man einen sogenannten FAMOS-Transistor<br />

(floating gate MOS), <strong>der</strong> zwei Gates übereinan<strong>der</strong> besitzt (Abb. 8.40).<br />

p-Substrat<br />

Abb. 8.40 : FAMOS- Transistor mit doppeltem Gate<br />

24<br />

Steuer-Gate<br />

Isoliertes Gate<br />

Für die Programmierung wird das obere, nach außen anschließbare Gate auf eine hohe Spannung<br />

gegenüber dem Kanal vorgespannt. Von den durch den Tunnel-Effekt fließenden Elektronen gelangt<br />

ein Teil zum unteren, isolierten Gate und bleibt dort gespeichert.<br />

Als Folge dieser Ladung verschiebt sich die Schwellenspannung des Transistors zu höheren Werten.<br />

Damit lassen sich entsprechend bei <strong>der</strong> normalen Betriebsspannung leitende bzw. nicht-leitende<br />

Kreuzungspunkte einstellen.<br />

EPROMs sind durch Bestrahlung mit UV-Licht hoher Intensität für einige Minuten (ca. 10 bis 20)<br />

wie<strong>der</strong> löschbar. Charakteristisch ist das Quarzglasfenster in den Gehäusen von EPROMs.<br />

Bei elektrisch programmierbaren und löschbaren PROMs (EEPROMs) wird ebenfalls ein MOS-<br />

Transistor mit doppeltem Gate verwendet, den man hier auch als FLOTOX-MOSFET bezeichnet. Er<br />

besitzt ein einer Stelle ein extrem dünnes Gate-Oxid, durch das Elektronen bei Programmierung und<br />

Löschung in beiden Richtungen tunneln können (Abb. 8.41).<br />

Isoliertes Gate<br />

Steuer-Gate<br />

p-Substrat<br />

Tunnel-Oxid<br />

Auswahl-Gate<br />

Abb. 8.41: EEPROM-Zelle mit FLOTOX-Transistor und Auswahltransistor

Hurra! Ihre Datei wurde hochgeladen und ist bereit für die Veröffentlichung.

Erfolgreich gespeichert!

Leider ist etwas schief gelaufen!